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Single Chamber Type Atomic Layer Deposition System (ALD) für das Vorbereitung von konventionellen Oxidschichten

Single Chamber Type Atomic Layer Deposition System (ALD) für das Vorbereitung von konventionellen Oxidschichten pictures & photos

Art:	Coating Production Line
Überzug:	Vacuum Coating
Bescheinigung:	CE
Zustand:	Neu
Sample Table Size:	4-12 Inches
Substrate Heating Temperature:	Rt-400 Oc; ±1 Oc

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