Antimon Zielmaterial High-Purity SB Sputtering Tag Material für Coat Für Dünnschichtbeschichtung akzeptieren Customization Factory Supply
Mindest. Befehl: | 1 Stück |
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Hafen: | Guangzhou, China |
Produktionskapazität: | 5000pieces |
Zahlungsbedingungen: | L/C, T/T, Western Union, Paypal |
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Produktbeschreibung
Firmeninfo
Die Anschrift:
42 Xiling Road, Xinfeng County, Shaoguan, Guangdong, China
Unternehmensart:
Hersteller/Werk
Geschäftsbereich:
Bau- und Dekomaterial, Chemische Produkte, Industrielle Anlagen und Zusatzteile, Mineralien und Energie, Produktionsmaschinen, Werkzeug
Zertifizierung des Managementsystems:
ISO 9001
Firmenvorstellung:
Guangguang Jingyan Materialfabrik befindet sich im Xinfeng Bezirk, Shaoguang Stadt, Provinz Guangdong. Mit mehr als zehn Jahren Erfahrung in der Herstellung und Export von Chemikalien, können wir Ihnen eine einzige Anlaufstelle für den Kauf, die Bereitstellung von Service, einschließlich Logistik, kundenspezifische Freigabe, Tests, Label-Design und andere, und wir zielen darauf ab, den ausgezeichneten Service, gute Qualität Produkt und wettbewerbsfähigen Preis zu bieten, um mehr Möglichkeiten für unseren Kunden zu machen, und erfüllen Win-Win-Zusammenarbeit.
Gegründet 2005. GGJY Materials Co. Ltd ist ein führender Entwickler und Hersteller von Sputtertarget und Dünnschichtbeschichtungsmaterialspezialisiert auf die Herstellung von hochdichten, hochreinen (99,9% bis 99,9999%) Sputtertargets und anderen Abscheidematerialien für alle Anwendungen mit Vakuum-Schmelz / Gießen und Heißisostatik-Pressing (HIP)-Technologie. Alle Targets und Verdampfungsmaterialien werden mit Best demonstrierten Techniken analysiert, einschließlich X-RayFluorescence (RFA), Glow Discharge Mass Spectrometry (GDMS) und Induktiv gekoppeltes Plasma (ICP). Alle Materialien sind als Pellets, Stange, Stücke, Granulat, Schnecken, Klumpen, Ingot, Schuss und Abscheidungskegel.
Gegründet 2005. GGJY Materials Co. Ltd ist ein führender Entwickler und Hersteller von Sputtertarget und Dünnschichtbeschichtungsmaterialspezialisiert auf die Herstellung von hochdichten, hochreinen (99,9% bis 99,9999%) Sputtertargets und anderen Abscheidematerialien für alle Anwendungen mit Vakuum-Schmelz / Gießen und Heißisostatik-Pressing (HIP)-Technologie. Alle Targets und Verdampfungsmaterialien werden mit Best demonstrierten Techniken analysiert, einschließlich X-RayFluorescence (RFA), Glow Discharge Mass Spectrometry (GDMS) und Induktiv gekoppeltes Plasma (ICP). Alle Materialien sind als Pellets, Stange, Stücke, Granulat, Schnecken, Klumpen, Ingot, Schuss und Abscheidungskegel.