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Für Plasma-Deposition Gas und Etchant bei Halbleiterverfahren, Reinheit 99,999 % Perfluorocyclobutan/Octafluorocyclobutan C4f8 Gas
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CAS-Nr.:
115-25-3
Formel:
C4f8
EINECS:
204-075-2
Bestandteil:
Reine Industrie Air
Grade Norm:
Industrial Grade
Chemical Property:
Nicht brennbares Gas
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