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Geprüfter Lieferant Chrom-Target ist ein Material aus Chrom (Cr), das auf der Oberfläche des Substrats abgelegt werden kann, um die Oberflächeneigenschaften des Substrats zu ändern.
| Spezifikation Der Chromziele | |
| Anwendung | PVD-Sputtermaterialien |
| Material | Chrom |
| Reinheit | 3N5 |
| Größe | Angepasst |
| Dicke | Angepasst |
| Form | Rotary Chromium Sputtering Target, Ring Type, Sheet Type, Plat Type und Tube Type |
| Dichte | 7,19g/cm3 |
| Schmelzpunkt | 1907ºC |
| Methode erzeugen | HÜFTE |
| Material | Reinheit (N) |
Komponenten (wt%) |
Dichte | Schmelzen Punkt |
Thermisch Leitfähigkeit (WM-1K-1) |
Koeffizient von Erweiterung (10-6k-1) |
Produktion Prozess |
| Al | 3N | - | 2,7 | 660 | 235 | 23,1 | Schmelzen |
| Cr | 3N5 | - | 7,22 | 1907 | 94 | 4,9 | HÜFTGELENK, Schmelzen |
| Cu | 4N | - | 8,9 | 1084 | 400 | 16,5 | Schmelzen |
| Ni | 3N5 | - | 4,5 | 1453 | 90 | 13 | Schmelzen |
| Ti | 3N | - | 4,5 | 1668 | 15,2 | 9,4 | Schmelzen |
| Zr | 3N | - | 6,49 | 1852 | 0,227 | - | Schmelzen |
| Si | 4N | - | 2,33 | 1414 | 150 | 2,6 | Sintern Und Sprühen |
| Ag | 4N | - | 10,49 | 961,93 | 429 | 19 | Schmelzen |
| C | 4N | - | 2,23 | 3850±50 | 151 | - | HÜFTE |
| Ttial | 3N5 | WIE GEWÜNSCHT | - | - | - | - | Schmelzen |
| InSn | 4N | WIE GEWÜNSCHT | - | - | - | - | Gießen |
| CRSI | 4N | WIE GEWÜNSCHT | - | - | - | - | Sprühen |
| CRW | 4N | WIE GEWÜNSCHT | 16,7 | 3017 | 57 | 6,3 | HÜFTE |
| NiCr | 3N | WIE GEWÜNSCHT | - | - | - | - | Schmelzen |
| NIV | 3N | 97:3 Uhr | - | - | - | - | Schmelzen |
| WC. | 3N | - | 15,77 | 2870 | 110 | 5,5 | Sintern Und Sprühen |
| NBox | 4N | - | 4,6 | 1460 | 5 | 1,5 | Sintern Und Sprühen |
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