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Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.
Guangdong, China
Unternehmensart:
Manufacturer/Factory
Hauptprodukte:
Sputterziel
Anzahl der Angestellten:
6
Gründungsjahr:
2013-09-04
Zertifizierung des Managementsystems:
ISO9001:2015
Durchschnittliche Lieferzeit:
Peak Season Lead Time: within 15 workdays
Off Season Lead Time: within 15 workdays
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China Sputterziel hersteller / lieferanten und bietet qualität 3n5 Rotary Chromium Sputtering Target Cr Targets, 3n5 hochreines Chrom-Sputterziel für Vakuumbeschichtung, 3n5 hochreines Chrom-Sputterziel mit rotierendem Sputtering und so weiter.

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Miss Jeanne Wei
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Kundenspezifische Größe Hochreine Carbon Graphite Sputtering Ziele 99,99% Bonding Kupferziel
Kundenspezifische Größe Hochreine Carbon Graphite Sputtering Ziele 99,99% Bonding Kupferziel
FOB Preis: 200,00-10.000,00 $ / Stück
Mindest. Befehl: 1 Stück
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3N, 80/20crwt%, 60/40 Cr WT% Nickel-Chrom-Ziele
3N, 80/20crwt%, 60/40 Cr WT% Nickel-Chrom-Ziele
FOB Preis: 200,00-10.000,00 $ / Stück
Mindest. Befehl: 1 Stück
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3n5 hochreines PVD-Beschichtung aus Metall, Chrom, Sputteirng, Ziel
3n5 hochreines PVD-Beschichtung aus Metall, Chrom, Sputteirng, Ziel
FOB Preis: 200,00-10.000,00 $ / Stück
Mindest. Befehl: 1 Stück
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1~4mm ZinkselenZnSe hochreines Verdampfungsmaterial für Vakuum Beschichtung/PVD
1~4mm ZinkselenZnSe hochreines Verdampfungsmaterial für Vakuum Beschichtung/PVD
FOB Preis: 200,00-10.000,00 $ / Kg
Mindest. Befehl: 1 Kg
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99,99 % hochreine Titanium-Sputterziele für Vakuum-/PVD-Beschichtung
99,99 % hochreine Titanium-Sputterziele für Vakuum-/PVD-Beschichtung
FOB Preis: 200,00-10.000,00 $ / Stück
Mindest. Befehl: 1 Stück
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Hochreines 99,9% Zr Zirconium Sputtering Target für PVD-Beschichtung
Hochreines 99,9% Zr Zirconium Sputtering Target für PVD-Beschichtung
FOB Preis: 200,00-10.000,00 $ / Stück
Mindest. Befehl: 1 Stück
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4N 99,99 % hochreines Indium Planar Sputtering Target für PVD Vakuumbeschichtung
4N 99,99 % hochreines Indium Planar Sputtering Target für PVD Vakuumbeschichtung
FOB Preis: 200,00-10.000,00 $ / Stück
Mindest. Befehl: 1 Stück
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99,999 % Hochreine Monokristalline Silizium-Sputtertarget-Platte/Silizium-Keramik Ziel
99,999 % Hochreine Monokristalline Silizium-Sputtertarget-Platte/Silizium-Keramik Ziel
FOB Preis: 200,00-10.000,00 $ / Stück
Mindest. Befehl: 1 Stück
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99,999 % Hochreine Tantal Ta Sputtering Target Plate /Tantal Ta Metallziel
99,999 % Hochreine Tantal Ta Sputtering Target Plate /Tantal Ta Metallziel
FOB Preis: 200,00-10.000,00 $ / Stück
Mindest. Befehl: 1 Stück
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99,99 % Hochreine Nb Niob Sputtering Zielplatte /Nb Niob Metallziel
99,99 % Hochreine Nb Niob Sputtering Zielplatte /Nb Niob Metallziel
FOB Preis: 200,00-10.000,00 $ / Stück
Mindest. Befehl: 1 Stück
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99.999% High Purity Ni Nickel Sputtering Target Plate / Ni Nickel Metal Target
99.999% High Purity Ni Nickel Sputtering Target Plate / Ni Nickel Metal Target
FOB Preis: 200,00-10.000,00 $ / Stück
Mindest. Befehl: 1 Stück
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99,999 % Hochreine Al Aluminium Sputtering Target Plate /Al Aluminium Metallziel
99,999 % Hochreine Al Aluminium Sputtering Target Plate /Al Aluminium Metallziel
FOB Preis: 200,00-10.000,00 $ / Stück
Mindest. Befehl: 1 Stück
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3N~6n hochreines Cu-Kupfer Sputtering Target Plate /Cu-Kupfer Metallziel
3N~6n hochreines Cu-Kupfer Sputtering Target Plate /Cu-Kupfer Metallziel
FOB Preis: 200,00-10.000,00 $ / Stück
Mindest. Befehl: 1 Stück
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3n5 hohe Reinheit W Wolfram Sputtering Zielplatte / W Wolfram Metallziel
3n5 hohe Reinheit W Wolfram Sputtering Zielplatte / W Wolfram Metallziel
FOB Preis: 200,00-10.000,00 $ / Stück
Mindest. Befehl: 1 Stück
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4N hochreine Au Gold Sputtering Zielplatte /Au Metall Ziel
4N hochreine Au Gold Sputtering Zielplatte /Au Metall Ziel
FOB Preis: 200,00-10.000,00 $ / Stück
Mindest. Befehl: 1 Stück
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4N High Purity AG Silber Sputtering Target Plate /AG Silber Metallziel
4N High Purity AG Silber Sputtering Target Plate /AG Silber Metallziel
FOB Preis: 200,00-10.000,00 $ / Stück
Mindest. Befehl: 1 Stück
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4N hochreine Sn-Zinn-Sputterscheibe /Sn-Zinn Metallziel
4N hochreine Sn-Zinn-Sputterscheibe /Sn-Zinn Metallziel
FOB Preis: 200,00-10.000,00 $ / Stück
Mindest. Befehl: 1 Stück
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99,95 % Hochreine Pd Palladium Sputtering Zielplatte / Pd Palladium-Metallziel
99,95 % Hochreine Pd Palladium Sputtering Zielplatte / Pd Palladium-Metallziel
FOB Preis: 200,00-10.000,00 $ / Stück
Mindest. Befehl: 1 Stück
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99,99 % hochreine Zielplatte PT Platinum Sputtering /PT Platinum Metallziel
99,99 % hochreine Zielplatte PT Platinum Sputtering /PT Platinum Metallziel
FOB Preis: 200,00-10.000,00 $ / Stück
Mindest. Befehl: 1 Stück
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99,95 % Hochreine Rh Rhodium Sputtering Zielplatte / Rh Rhodium Metal Target
99,95 % Hochreine Rh Rhodium Sputtering Zielplatte / Rh Rhodium Metal Target
FOB Preis: 200,00-10.000,00 $ / Stück
Mindest. Befehl: 1 Stück
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99,95% Hohe Reinheit Ru Ruthenium Sputtering Zielplatte / Ru Ruthenium-Metallziel
99,95% Hohe Reinheit Ru Ruthenium Sputtering Zielplatte / Ru Ruthenium-Metallziel
FOB Preis: 200,00-10.000,00 $ / Stück
Mindest. Befehl: 1 Stück
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99,95 % hochreine IR-Iridiu Sputtering Zielplatte / IR Iridiu-Metallziel
99,95 % hochreine IR-Iridiu Sputtering Zielplatte / IR Iridiu-Metallziel
FOB Preis: 200,00-10.000,00 $ / Stück
Mindest. Befehl: 1 Stück
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3N, 56/44 WT%, hochreine Titan-Chrom Sputterziel flache Platte /Titan-Chrom rotierende Ziele
3N, 56/44 WT%, hochreine Titan-Chrom Sputterziel flache Platte /Titan-Chrom rotierende Ziele
FOB Preis: 200,00-10.000,00 $ / Stück
Mindest. Befehl: 1 Stück
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3N High Purity Chrom-Wolfram Sputtering Ziel flache Platte / rotierenden Ziele
3N High Purity Chrom-Wolfram Sputtering Ziel flache Platte / rotierenden Ziele
FOB Preis: 200,00-10.000,00 $ / Stück
Mindest. Befehl: 1 Stück
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