• Hochreines 99,9% Zr Zirconium Sputtering Target für PVD-Beschichtung
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Hochreines 99,9% Zr Zirconium Sputtering Target für PVD-Beschichtung

Application: Industrial
Formel: Zirkonium
Klassifizierung: Metal Traget
Sortenstandard: Industriequalität
Zertifizierung: iso
Form: Rotary,Flat,Round

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Gold Mitglied Seit 2023

Lieferanten mit verifizierten Geschäftslizenzen

Guangdong, China
, um alle verifizierten Stärkelabels (14) anzuzeigen.

Grundlegende Informationen.

Modell Nr.
CYT-Zr
Transportpaket
Wooden Box
Spezifikation
Customized Size
Warenzeichen
CANYUAN
Herkunft
China
Produktionskapazität
1000PCS

Produktbeschreibung


 
High Purity 99.9% Zr Zirconium Sputtering Target for PVD Coating
Zirkonium ist ein silber-weißes Übergangsmetall.
Weil es komplexe Produktionsprozess und Schwierigkeiten bei der Gewinnung hat, so haben wir es seltenes Metall genannt.
Zirconium Sputtertargets sind weit verbreitet in Dünnschichtabscheidung, Brennstoffzellen, Dekoration, Halbleiter, Displays, LED- und Photovoltaikgeräte, funktionale Beschichtungen und andere optische Informationsspeicherung, Glasbeschichtungsindustrien wie Automobilglas und Architekturglas, optische Kommunikation und andere Bereiche
  Spezifikation Der Chromziele
Anwendung PVD-Sputtermaterialien
Material Zirkonium
Reinheit 3N5
Größe Angepasst
Dicke Angepasst
Form Rotary Chromium Sputtering Target, Ring Type, Sheet Type, Plat Type und Tube Type
Dichte 6,49g/cm3
Schmelzpunkt 1852ºC
Methode erzeugen HÜFTE

Unser Vorteil
High Purity 99.9% Zr Zirconium Sputtering Target for PVD Coating
High Purity 99.9% Zr Zirconium Sputtering Target for PVD Coating


Vorgang
High Purity 99.9% Zr Zirconium Sputtering Target for PVD Coating
High Purity 99.9% Zr Zirconium Sputtering Target for PVD Coating

Bild Wird Verpackt
High Purity 99.9% Zr Zirconium Sputtering Target for PVD Coating
High Purity 99.9% Zr Zirconium Sputtering Target for PVD Coating
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Anwendung:
High Purity 99.9% Zr Zirconium Sputtering Target for PVD Coating
High Purity 99.9% Zr Zirconium Sputtering Target for PVD Coating
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Produkt In Beziehung Zu Bringen
Material Reinheit
(N)
Komponenten
(wt%)
Dichte Schmelzen
 Punkt
Thermisch
Leitfähigkeit
(WM-1K-1)
Koeffizient von
 Erweiterung
(10-6k-1)
Produktion
 Prozess
Al 3N - 2,7 660 235 23,1 Schmelzen
Cr 3N5 - 7,22 1907 94 4,9 HÜFTGELENK, Schmelzen
Cu 4N - 8,9 1084 400 16,5 Schmelzen
Ni 3N5 - 4,5 1453 90 13 Schmelzen
Ti 3N - 4,5 1668 15,2 9,4 Schmelzen
Zr 3N - 6,49 1852 0,227 - Schmelzen
Si 4N - 2,33 1414 150 2,6 Sintern Und Sprühen
Ag 4N - 10,49 961,93 429 19 Schmelzen
C 4N - 2,23 3850±50 151 - HÜFTE
Ttial 3N5 WIE GEWÜNSCHT - - - - Schmelzen
InSn 4N WIE GEWÜNSCHT - - - - Gießen
CRSI 4N WIE GEWÜNSCHT - - - - Sprühen
CRW 4N WIE GEWÜNSCHT 16,7 3017 57 6,3 HÜFTE
NiCr 3N WIE GEWÜNSCHT - - - - Schmelzen
NIV 3N 97:3 Uhr - - - - Schmelzen
WC. 3N - 15,77 2870 110 5,5 Sintern Und Sprühen
NBox 4N - 4,6 1460 5 1,5 Sintern Und Sprühen

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Hersteller/Werk
Hauptprodukte
Sputtering Target
Anzahl der Angestellten
6