99,999 % Hochreine Al Aluminium Sputtering Target Plate /Al Aluminium Metallziel

• Application: Industrial
• Formel: Aluminium
• Klassifizierung: Metal Traget
• Sortenstandard: Industriequalität
• Zertifizierung: iso
• Form: Rotary,Flat,Round
• Modell Nr.: CYT-Al
• Transportpaket: Wooden Box
• Spezifikation: Customized Size
• Warenzeichen: CANYUAN
• Herkunft: China
• Produktionskapazität: 1000PCS

Produktbeschreibung

 

Aluminium ist ein Silber-weißes Metall, das sehr leicht ist und gute Duktilität, elektrische Leitfähigkeit, Wärmeleitfähigkeit, Wärmebeständigkeit und Strahlungsbeständigkeit hat. Auf der Oberfläche von Aluminium befindet sich immer ein oxidiertes Aluminium, da Aluminium sehr leicht in der Luft oxidiert werden kann, was Aluminium eine gute Korrosionsbeständigkeit verleiht.
Da Aluminium eine gute Leistung und reichlich in der Quantität hat, wird es häufig zu Stäben, Blättern, Folien, Pulvern, Bändern und Filamenten hergestellt, die in wichtigen industriellen Bereichen wie Luftfahrt, Bau, Automobilen und elektrischer Energie weit verbreitet sind.
Aluminiumziele werden hauptsächlich in der Dünnschicht-Solarindustrie, der Low-e-Glasindustrie, der Flachbildschirme, der optischen Beschichtungsindustrie, der Werkzeug- und Dekorbeschichtungsindustrie verwendet, und hochreine Aluminiumziele werden hauptsächlich in der Chipherstellung und in der fortschrittlichen Verpackung verwendet.
Wir können flache Ni-Ziele und rotative Sputterziele machen.
Die Tabelle zur Analyse der Zusammensetzung des hochreinen 4N5-Nickelziels ist wie folgt beschrieben:

Zielspezifikation
Anwendung	PVD-Sputtermaterialien
Material	Aluminium
Reinheit	4N5
Größe	Angepasst
Dicke	Angepasst
Form	Drehsputterziel, Ringtyp, Blechtyp, Platt-Typ und Rohrtyp
Dichte	2,7g/cm3
Schmelzpunkt	660ºC
Methode erzeugen	HÜFTE

 

Unser Vorteil

Vorgang

Bild Wird Verpackt

Anwendung:

Produkt In Beziehung Zu Bringen

Material	Reinheit (N)	Komponenten (wt%)	Dichte	Schmelzen  Punkt	Thermisch Leitfähigkeit (WM-1K-1)	Koeffizient von  Erweiterung (10-6k-1)	Produktion  Prozess
Al	3N	-	2,7	660	235	23,1	Schmelzen
Cr	3N5	-	7,22	1907	94	4,9	HÜFTGELENK, Schmelzen
Cu	4N	-	8,9	1084	400	16,5	Schmelzen
Ni	3N5	-	4,5	1453	90	13	Schmelzen
Ti	3N	-	4,5	1668	15,2	9,4	Schmelzen
Zr	3N	-	6,49	1852	0,227	-	Schmelzen
Si	4N	-	2,33	1414	150	2,6	Sintern Und Sprühen
Ag	4N	-	10,49	961,93	429	19	Schmelzen
C	4N	-	2,23	3850±50	151	-	HÜFTE
Ttial	3N5	WIE GEWÜNSCHT	-	-	-	-	Schmelzen
InSn	4N	WIE GEWÜNSCHT	-	-	-	-	Gießen
CRSI	4N	WIE GEWÜNSCHT	-	-	-	-	Sprühen
CRW	4N	WIE GEWÜNSCHT	16,7	3017	57	6,3	HÜFTE
NiCr	3N	WIE GEWÜNSCHT	-	-	-	-	Schmelzen
WC.	3N	WIE GEWÜNSCHT	15,77	2870	110	5,5	Sintern Und Sprühen
NBox	4N	WIE GEWÜNSCHT	4,6	1460	5	1,5	Sintern Und Sprühen