3N, 56/44 WT%, hochreine Titan-Chrom Sputterziel flache Platte /Titan-Chrom rotierende Ziele

• Application: Industrial
• Formel: rhodium
• Klassifizierung: Metal Traget
• Sortenstandard: Industriequalität
• Zertifizierung: iso
• Form: Rotary,Flat,Round
• Modell Nr.: CYT-TiCr
• Transportpaket: Wooden Box
• Spezifikation: Customized Size
• Warenzeichen: CANYUAN
• Herkunft: China
• Produktionskapazität: 1000PCS

Produktbeschreibung

Das Chrom-Titan-Legierung Zielmaterial wird durch Vakuumschmelzen oder Feinschleifen, Mischen und Hochtemperaturpressen von hochreinen Chrom und Titan-Rohstoffen gewonnen. Das Chrom-Titan-Legierung Zielmaterial hat hohe Reinheit, niedrigen Gasgehalt, gleichmäßige Zusammensetzung Verteilung und feine Korngröße. Die Chrom-Titan-Legierung hat eine hohe Härte. Die Chrom-Titan-Serie Beschichtung durch Reaktion mit Stickstoff abgeschieden hat eine hohe Härte, glatte Oberfläche, gute Oxidationsbeständigkeit, und ist weit verbreitet im Bereich der Werkzeuge verwendet. Das Zielmaterial wird verwendet, um zu reagieren, um eine Kohlenstoff-Stickstoff-Titan-Chrom-Beschichtung zu erzeugen, die auf der Oberfläche des Golfballkopfes abgelagert wird, um eine perlartige helle schwarze Oberfläche mit guter Lösemittelbeständigkeit, Verschleißfestigkeit, Schlagfestigkeit und guter Metallhaftung zu erhalten. Die Beschichtung hat gute umfassende mechanische Eigenschaften, mit Zähigkeit und Härte, die sehr gut geeignet für den Einsatz von Golfball Köpfe ist.
Wir können flache  Chrom-Titan- und rotierende Sputterziele herstellen.
Spezifikation und Reinheit können individuell angepasst werden.
Die Beschreibung und die Zusammensetzung Analyse Tabelle von 3N hochreinem Chrom-Titan  wie folgt:

Zielspezifikation
Anwendung	PVD-Sputtermaterialien
Material	Chrom-Titan
Reinheit	3N
Größe	Angepasst
Dicke	Angepasst
Form	Drehsputterziel, Ringtyp, Blechtyp, Platt-Typ und Rohrtyp
Dichte	4,4-4,8g/cm3
Schmelzpunkt	1665 1750ºC
Methode erzeugen	Schmelzen und Mischen

Unser Vorteil

Vorgang

Bild Wird Verpackt

Anwendung:

Produkt In Beziehung Zu Bringen

Material	Reinheit (N)	Komponenten (wt%)	Dichte	Schmelzen  Punkt	Thermisch Leitfähigkeit (WM-1K-1)	Koeffizient von  Erweiterung (10-6k-1)	Produktion  Prozess
Al-Legierung	5N	-	2,7	660	235	23,1	Schmelzen
Cr	3N5	-	7,22	1907	94	4,9	HÜFTE
Cu	4N	-	8,9	1084	400	16,5	Schmelzen
Mo-Legierung	3N5	-	10,28	2623	139	4,8	HÜFTE
Anm.	4N	-	8,6	2477	54	7,3	Schmelzen
Ta	4N	-	16,7	3017	57	6,3	Schmelzen
Si	4N	-	2,33	1414	150	2,6	Sintern Und Sprühen
TI	5N	-	4,5	1670	22	8,6	Schmelzen
W	4N	-	19,25	3422	174	4,5	HÜFTE
AZO	3N5	98:2 Uhr	5,6	1975	22	1,5	Sintern
ITO	4N	90:10 Uhr	7,15	2000	15	2,0	Sintern
GZO	3N5	WIE GEWÜNSCHT	7,15	-	-	-	Sintern
IGZO	4N	WIE GEWÜNSCHT	-	-	-	-	Sintern
NBox	4N	-	4,6	1460	5	1,5	Sintern Und Sprühen
TiOx	4N	-	4,23	1800	4	7,14	Sintern Und Sprühen