99,95 % Hochreine Rh Rhodium Sputtering Zielplatte / Rh Rhodium Metal Target

• Application: Industrial
• Formel: rhodium
• Klassifizierung: Metal Traget
• Sortenstandard: Industriequalität
• Zertifizierung: iso
• Form: Rotary,Flat,Round
• Modell Nr.: CYT-Rh
• Transportpaket: Wooden Box
• Spezifikation: Customized Size
• Warenzeichen: CANYUAN
• Herkunft: China
• Produktionskapazität: 1000PCS

Produktbeschreibung

Rhodium ist ein silberweißes und hartes Metall. Rhodium ist ein Platingruppenteil mit hoher Reflektivität. Rhodium-Metall erhält normalerweise keine Oxidation. Das Schmelzen von Rhodium absorbiert Sauerstoff, setzt ihn aber während der Erstarrung frei. Der Schmelzpunkt von Rhodium ist höher als der von Platin, und seine Dichte ist niedriger als die von Platin. Rhodium löst sich in den meisten Säuren nicht auf. Rhodium wird hauptsächlich als Rhodium-Katalysatoren, Rhodium-Legierungen, Rhodium-Beschichtungen, Rhodium-Verbindungen in den Bereichen Chemie, Petroleum, Glas, Elektronik, Zahnmedizin, Schmuck, Automobile und so weiter.

Rhodium Sputtermaterialien können für Dünnschichtbeschichtung, CD-ROM, Dekoration, Flachbildschirme, funktionale Beschichtungen, Sowie andere optische Informationsspeicherung Branchen, Glasbeschichtungsindustrie wie Automobilglas und Architekturglas, optische Kommunikation und so weiter. Die Hauptanwendung von Rhodium-Metall in der Automobilindustrie ist der Einsatz als Katalysator, um schädliche, unverbrannte Kohlenwasserstoff- und Stickoxidemissionen in harmlose Gase umzuwandeln. Es wird auch in der Glasindustrie zur Herstellung von Flachglas und Glasfasern eingesetzt.


Wir können Rhodium in Rhodium Draht, Rhodium Partikel, Rhodium Sputtering Ziele, etc. Machen;  
Die Reinheit und Spezifikationen können angepasst werden.
Auch Rhodium-Zielmaterialien enthalten Platin-Rhodium-Legierungen.
Die Beschreibung der Analysetabelle für die Zusammensetzung des hochreinen Rhodium-Ziels 4N wie folgt:

Zielspezifikation
Anwendung	PVD-Sputtermaterialien
Material	Rhodium
Reinheit	3N5
Größe	Angepasst
Dicke	Angepasst
Form	Drehsputterziel, Ringtyp, Blechtyp, Platt-Typ und Rohrtyp
Dichte	7,28g/cm3
Schmelzpunkt	22600ºC
Methode erzeugen	Gießen

Unser Vorteil

Vorgang

Bild Wird Verpackt

Anwendung:

Produkt In Beziehung Zu Bringen

Material	Reinheit (N)	Komponenten (wt%)	Dichte	Schmelzen  Punkt	Thermisch Leitfähigkeit (WM-1K-1)	Koeffizient von  Erweiterung (10-6k-1)	Produktion  Prozess
Al-Legierung	5N	-	2,7	660	235	23,1	Schmelzen
Cr	3N5	-	7,22	1907	94	4,9	HÜFTE
Cu	4N	-	8,9	1084	400	16,5	Schmelzen
Mo-Legierung	3N5	-	10,28	2623	139	4,8	HÜFTE
Anm.	4N	-	8,6	2477	54	7,3	Schmelzen
Ta	4N	-	16,7	3017	57	6,3	Schmelzen
Si	4N	-	2,33	1414	150	2,6	Sintern Und Sprühen
TI	5N	-	4,5	1670	22	8,6	Schmelzen
W	4N	-	19,25	3422	174	4,5	HÜFTE
AZO	3N5	98:2 Uhr	5,6	1975	22	1,5	Sintern
ITO	4N	90:10 Uhr	7,15	2000	15	2,0	Sintern
GZO	3N5	WIE GEWÜNSCHT	7,15	-	-	-	Sintern
IGZO	4N	WIE GEWÜNSCHT	-	-	-	-	Sintern
NBox	4N	-	4,6	1460	5	1,5	Sintern Und Sprühen
TiOx	4N	-	4,23	1800	4	7,14	Sintern Und Sprühen