• 6N hochreine Cu-Kupfer-Sputterziel flache Platte
  • 6N hochreine Cu-Kupfer-Sputterziel flache Platte
Favoriten

6N hochreine Cu-Kupfer-Sputterziel flache Platte

Application: Industrial
Formel: Aluminium
Klassifizierung: Metal Traget
Sortenstandard: Industriequalität
Zertifizierung: iso
Form: Rotary,Flat,Round

Wenden Sie sich an den Lieferanten

Gold Mitglied Seit 2023

Lieferanten mit verifizierten Geschäftslizenzen

Guangdong, China
, um alle verifizierten Stärkelabels (14) anzuzeigen.

Grundlegende Informationen.

Modell Nr.
CYT-CU
Transportpaket
Wooden Box
Spezifikation
Customized Size
Warenzeichen
CANYUAN
Herkunft
China
Produktionskapazität
1000PCS

Produktbeschreibung


 
6n High Purity Cu Copper Sputtering Target Flat PlateKupfer ist ein violett-rot glänzendes Metall mit leicht hartem, extrem zähem, verschleißfestem Merkmal, das eine gute Duktilität, gute Wärmeleitfähigkeit und elektrische Leitfähigkeit sowie Korrosionsbeständigkeit aufweist. Kupfer ist sehr reichlich in der Natur und leicht zu verarbeiten, die ausgezeichnete Eigenschaften hat. So ist es weit verbreitet in der Elektro-, Maschinen-Herstellung, Bauindustrie, Transport und anderen Bereichen verwendet.
Wir können Kupfer von 3N bis 6N hochreinen Targets nach einer Reihe von Verarbeitungsverfahren mit spezifischer Größe und Form herstellen.
Der Sauerstoffgehalt unseres Ziels kann unter 1ppm liegen.
Da hochreines Kupfer viele hervorragende Eigenschaften aufweist, wurde es in der Elektronik, Kommunikation, Supraleitung, Luft- und Raumfahrt usw. weit verbreitet
Wir können flache Kupferziele und rotierende Sputterziele herstellen.
Diese Ziele können als Zielplatten verwendet werden.
Spezifikation und Reinheit können individuell angepasst werden.
Die Beschreibung und die Analysetabelle für die Zusammensetzung des 6N-Zielobjekts für hochreines Kupfer wie folgt:

  
 Zielspezifikation  
Anwendung PVD-Sputtermaterialien
Material Kupfer
Reinheit 6N
Größe Angepasst
Dicke Angepasst
Form Drehsputterziel, Ringtyp, Blechtyp, Platt-Typ und Rohrtyp
Dichte 8,96g/cm3
Schmelzpunkt 1083,4±0.2ºC
Methode erzeugen HÜFTE

6n High Purity Cu Copper Sputtering Target Flat Plate

Unser Vorteil
6n High Purity Cu Copper Sputtering Target Flat Plate
6n High Purity Cu Copper Sputtering Target Flat Plate


Vorgang
6n High Purity Cu Copper Sputtering Target Flat Plate
6n High Purity Cu Copper Sputtering Target Flat Plate

Bild Wird Verpackt
6n High Purity Cu Copper Sputtering Target Flat Plate
6n High Purity Cu Copper Sputtering Target Flat Plate
6n High Purity Cu Copper Sputtering Target Flat Plate


Anwendung:
6n High Purity Cu Copper Sputtering Target Flat Plate
6n High Purity Cu Copper Sputtering Target Flat Plate
6n High Purity Cu Copper Sputtering Target Flat Plate

Produkt In Beziehung Zu Bringen
Material Reinheit
(N)
Komponenten
(wt%)
Dichte Schmelzen
 Punkt
Thermisch
Leitfähigkeit
(WM-1K-1)
Koeffizient von
 Erweiterung
(10-6k-1)
Produktion
 Prozess
Al 3N - 2,7 660 235 23,1 Schmelzen
Cr 3N5 - 7,22 1907 94 4,9 HÜFTGELENK, Schmelzen
Cu 4N - 8,9 1084 400 16,5 Schmelzen
Ni 3N5 - 4,5 1453 90 13 Schmelzen
Ti 3N - 4,5 1668 15,2 9,4 Schmelzen
Zr 3N - 6,49 1852 0,227 - Schmelzen
Si 4N - 2,33 1414 150 2,6 Sintern Und Sprühen
Ag 4N - 10,49 961,93 429 19 Schmelzen
C 4N - 2,23 3850±50 151 - HÜFTE
Ttial 3N5 WIE GEWÜNSCHT - - - - Schmelzen
InSn 4N WIE GEWÜNSCHT - - - - Gießen
CRSI 4N WIE GEWÜNSCHT - - - - Sprühen
CRW 4N WIE GEWÜNSCHT 16,7 3017 57 6,3 HÜFTE
NiCr 3N WIE GEWÜNSCHT - - - - Schmelzen
WC. 3N WIE GEWÜNSCHT 15,77 2870 110 5,5 Sintern Und Sprühen
NBox 4N WIE GEWÜNSCHT 4,6 1460 5 1,5 Sintern Und Sprühen

Senden Sie Ihre Anfrage direkt an Lieferanten

*von:
*bis:
*Meldung:

Geben Sie zwischen 20 bis 4.000 Zeichen.

Das ist nicht das, wonach Sie suchen? Jetzt Beschaffungsanfrage Posten

Ähnliche Produkte nach Kategorie suchen

Startseite des Anbieters Produkte Metallziel 6N hochreine Cu-Kupfer-Sputterziel flache Platte

Vielleicht Gefällt Dir

Wenden Sie sich an den Lieferanten

Gold Mitglied Seit 2023

Lieferanten mit verifizierten Geschäftslizenzen

Hersteller/Werk
Hauptprodukte
Sputtering Target
Anzahl der Angestellten
6