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Linse der Lithographie Maschine
Die hochpräzise und hochwertige Lithographie-Linse ist eine der teuren und komplexen Kernkomponenten der Lithographie-Maschine. Optische Komponenten in der Lithographie werden hauptsächlich in Belichtung, Beleuchtung, Energieerkennung, Lichtweg-System und anderen Szenen verwendet. Das Belichtungssystem der Lithographie-Maschine umfasst Beleuchtungssystem und Projektionsobjektiv. (1) hohe Präzision: Um präzise Bilder zu machen, strenge Kontrolle von Aberrationen, Lithographie Linsenebenheit und Finish Anforderungen sind hoch (2) hoher Wert: Hohe Präzision optische Linsenproduktion, erfordert hohe Präzision Schleifmaschine und feine Linsenabrieb.
Materialgröße
Die Linse besteht aus Quarz, mit einem Innendurchmesser von 8,1cm und einem Außendurchmesser von 11,6cm in Ebene A. der Innendurchmesser der B-Seite ist 9,8cm, der Außendurchmesser ist 11,2, und die Seitendicke ist 6,2cm. Es wird auf die Präzisionsteile der Lithographie-Maschine aufgetragen.
Quarzmaterial mit hervorragenden physikalischen und chemischen Eigenschaften ist ein wesentlicher Schlüsselwerkstoff im Bereich der Technologie:
• gute Lichtdurchlässigkeit;
• niedriger Ausdehnungskoeffizient;
• gute chemische Stabilität;
• gute elektrische Isolierung
Ultraschall induzierte Quarzmaterial Homogenisierungstechnologie: Hohe Gleichmäßigkeit, geringe Belastung.
Anwendungsbereich
Als Kernkomponente der Lithographie-Maschine, hauptsächlich in Halbleitern, Biomedizin, Photonik, Nano-Bauelementen eingesetzt
Funktionsprinzip
Es basiert hauptsächlich auf optischer Projektionstechnologie. Es projiziert Licht auf die Oberfläche eines Siliziumwafers, indem es die Lichtquelle durch ein speziell entwickeltes Linsensystem auf einen hohen Fokus setzt. Der Siliziumwafer ist mit Photoresist beschichtet, und der Belichtungs- und Entwicklungsprozess des Photoresisten bildet das gewünschte Schaltmuster. Um eine höhere Auflösung und eine höhere Musterübertragung zu erreichen, werden in Lithographiemaschinen eine Reihe von Schlüsseltechnologien eingesetzt. Das Linsensystem besteht aus mehreren Linsen, die das Licht auf einen Siliziumwafer fokussieren und so ein Muster bilden. Ein hochauflösendes Objektivsystem muss kleinere Aberrationen, ein größeres Sichtfeld und eine höhere optische Transmission haben. In den letzten Jahren wurde mit der Entwicklung der Nanotechnologie die Transmissionslithographie allmählich durch die Expositionslithographie mit komplexeren Linsensystemen ersetzt.
| A | B | |||
| Innendurchmesser | Außendurchmesser | Innendurchmesser | Außendurchmesser | Dicke |
| 8,1 | 11,6 | 9,8 | 11,2 | 6,2 |
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