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Optisches Glas für Lithographiemaschinen
Optische Komponenten in der Lithographie werden hauptsächlich in Belichtung, Beleuchtung, Energieerkennung, Lichtweg-System und anderen Szenen verwendet. Das Belichtungssystem der Lithographie-Maschine umfasst Beleuchtungssystem und Projektionsobjektiv. (1) hohe Präzision: Um präzise Bilder zu machen, strenge Kontrolle von Aberrationen, Lithographie Linsenebenheit und Finish Anforderungen sind hoch (2) hoher Wert: Hohe Präzision optische Linsenproduktion, erfordert hohe Präzision Schleifmaschine und feine Linsenabrieb.
Materialgröße
Die Linse ist aus optischem Glas 4786 A/B seitlicher Innendurchmesser 15,6cm, Außendurchmesser 18,9cm. Die Seitendicke beträgt 2,6cm, die auf die Präzisionsteile der Lithographie-Maschine aufgebracht wird.
Anwendungsbereich
Als Kernkomponente der Lithographie-Maschine, hauptsächlich in Halbleitern, Biomedizin, Photonik, Nano-Bauelementen eingesetzt
Funktionsprinzip
Es basiert hauptsächlich auf optischer Projektionstechnologie. Es projiziert Licht auf die Oberfläche eines Siliziumwafers, indem es die Lichtquelle durch ein speziell entwickeltes Linsensystem auf einen hohen Fokus setzt. Der Siliziumwafer ist mit Photoresist beschichtet, und der Belichtungs- und Entwicklungsprozess des Photoresisten bildet das gewünschte Schaltmuster. Um eine hohe Auflösung und hohe Musterübertragung zu erreichen, setzt die Lithographie-Maschine viele Schlüsseltechnologien ein. Das Linsensystem besteht aus mehreren Linsen, die das Licht auf einen Siliziumwafer fokussieren und so ein Muster bilden. Ein hochauflösendes Objektivsystem muss kleinere Aberrationen, ein größeres Sichtfeld und eine höhere optische Transmission haben. In den letzten Jahren wurde mit der Entwicklung der Nanotechnologie die Transmissionslithographie allmählich durch die Expositionslithographie mit komplexeren Linsensystemen ersetzt.
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