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China-Fabrik-Index
Sputterziel aus Keramik Fabrik
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ISO9001:2015
ISO 9001
ISO45001:2018
OHSAS/ OHSMS 18006
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F&E-Kapazität
OEM
ODM
Eigenmarke
Andere
Jahresumsatz
Unter 1 Million US-Dollar
5 ~ 10 Millionen USD
10 ~ 50 Millionen USD
50 ~ 100 Millionen USD
Über 100 Millionen US-Dollar
Anzahl der Mitarbeiter
Weniger als 5 Personen
5-50 Personen
51-200 Personen
201-500 Personen
Über 1000 Personen
Provinz und Region
Beijing
Chongqing
Fujian
Gansu
Guangdong
Mehr
etwa Sputterziel aus Keramik
Technologische Innovation
Zuverlässige Lieferketten
Umfangreiche Fertigungskapazitäten
Sputterziel aus Keramik
90+ Fabriken verifiziert
SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD
Anfrage Absenden
Polysiliziumkeramisches Ziel für Sputterziele in der Solarphotovoltaik
35,00
-
50,00
$
1 Kg
(MOQ)
Mono-Si Ziel monokristallines Siliziumkeramikziel für Sputterziele Solar-Photovoltaik Mobiltelefon
35,00
-
75,00
$
1 Kg
(MOQ)
In2O3+Cu Keramisches Ziel-Indiumoxid+Kupfer-Keramisches Sputterziel für LCD/Touch-Panel
40,00
$
1 Kg
(MOQ)
SrRuO3 Zielstrontiumruthenatkeramiksputterziel für optische Dünnfilm-Beschichtung
40,00
$
1 Kg
(MOQ)
1/4
Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.
Anfrage Absenden
99.9% Reines Aluminium-Nitrid-Sputterziel Aln Planar-Keramikziel für wissenschaftliche Forschung
25,00
-
30,00
$
10 Stücke
(MOQ)
Xinkang In2o3/Sno2 Keramisches Sputterziel
35,00
-
150,00
$
1 Stück
(MOQ)
Hochreines Aluminiumoxid-Sputterziel 99.99% Al2O3 Aluminiumoxid-Keramikziel
35,00
-
55,00
$
1 Stück
(MOQ)
Xinkang 99.99% ITO Beschichtung Ziel In2o3/Sno2 90/10wt% Keramisches Ziel für Beschichtung
35,00
-
150,00
$
1 Stück
(MOQ)
1/4
Lonwin Industry Group Limited
5.0
Anfrage Absenden
99.98% Mo2c Ziele Molybdänkarbid Keramische Sputterziele
17,00
-
55,00
$
1 Kg
(MOQ)
99.95% Izo Keramisches Ziel Indium-Zink-Oxid Sputterziel
17,00
-
55,00
$
1 Kg
(MOQ)
99.9% Sic Keramisches Ziel Siliziumcarbid Siliziumkohlenstoff Sputterziele für Beschichtung
17,00
-
55,00
$
1 Kg
(MOQ)
Cuo-In2o3 Keramische Ziele Kupferoxid - Indiumoxid Sputterziel
17,00
-
55,00
$
1 Kg
(MOQ)
1/4
Rheniumet Ltd.
17 J.
·
Handelsunternehmen
Anfrage Absenden
Siliziumkarbid Sic hochreine beschichtete Keramikkathode Magnetron-Sputterverarbeitung Anpassung
Verhandelbar
1 Stück
(MOQ)
Siliziumkarbid-Ziel Sic 99.9% Sputterbeschichtung Keramisches Ziel
Verhandelbar
1 Stück
(MOQ)
Hochreines 99.9%- 99.99% Ruo2 Ziel, 1-10inch Rutheniumdioxid-Sputterziel
2.000,00
-
4.000,00
$
1 Stück
(MOQ)
Hochreines Tantalmetall-Sputterziel für Dünnfilm-Beschichtung
300,00
-
1.000,00
$
1 Stück
(MOQ)
1/4
Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.
Anfrage Absenden
Lanthanhexaborid Lab6 Keramikscheibe Sputterziel
50,00
-
200,00
$
1 Stück
(MOQ)
Lanthanhexaborid Lab6 Keramiksputterziel für PVD-Dünnfilm-Beschichtung
50,00
-
200,00
$
1 Stück
(MOQ)
Hoch Elektronenaussendungs-Lanthanhhexaborid Lab6 Keramische Ziele
50,00
-
200,00
$
1 Stück
(MOQ)
Sprühziel Lanthanumborid Lab6 Keramikscheibe
50,00
-
200,00
$
1 Stück
(MOQ)
1/4
Xiamen Tmax Battery Equipments Limited
5.0
Anfrage Absenden
TMAXCN Marke 99.5% Sic Keramisches Ziel Siliziumkarbid Sputterziel für Beschichtung
78,00
-
90,00
$
1 Stück
(MOQ)
TMAXCN Marke Hochdichte Zn2sno4 Zinkstannat Sputterziel Keramikbeschichtungsmaterial
78,00
-
90,00
$
1 Stück
(MOQ)
Bänktop DC/RF Magnetron-Sputterbeschichter für Metalle, Oxide, Keramiken und Halbleiter
15.000,00
$
1 Stück
(MOQ)
TMAXCN Marke Hochrein 99.5% Reines Borcarbid B4c Keramisches Sputterziel
78,00
-
90,00
$
1 Stück
(MOQ)
1/4
Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.
Anfrage Absenden
Vakuum-Metallisierung Titan-Aluminium-Legierung Ziel
30,00
-
100,00
$
1 Stück
(MOQ)
Magnetron-Sputter-PVD-Vakuumbeschichter für hochwertige Produkte
15.000,00
-
89.000,00
$
1 Stück
(MOQ)
Physikalische Dampfabscheidung Magnetron-Sputter-Vakuumbeschichtungsmaschine
15.000,00
-
160.000,00
$
1 Stück
(MOQ)
Magnetron-Sputter-Ionenbeschichtungsmaschine kann mit dunklen Farben umgehen
15.000,00
-
150.000,00
$
1 Stück
(MOQ)
1/4
Shandong Pengcheng Advanced Ceramics Co., Ltd.
12 J.
·
5.0
·
Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
Anfrage Absenden
Boronitride-Sputterziel Verdampfungsschalen Boronitrid-Keramische elektrische Tiegel
150,00
-
160,00
$
100 Kg
(MOQ)
Titan-Diborid (TiB2) Sputterziele Keramikplatte
30,00
$
50 Kg
(MOQ)
Tib2 Keramische Sputterziele Titanborid
30,00
$
50 Kg
(MOQ)
1/4
Hebei Zhongyi Import and Export Co., Ltd.
3 J.
·
Handelsunternehmen
Anfrage Absenden
Hochreines Wolframdisulfid Ws2 Keramisches Sputterziel für Beschichtungsanwendungen
9,00
-
12,00
$
10 Kg
(MOQ)
Reines Wolframdisulfid Ws2 Keramikbeschichtungs-Sputterziel für hochwertige Beschichtungen
9,00
-
12,00
$
10 Kg
(MOQ)
1/4
BIOTIO SHANGHAI CORP CO., LTD.
5.0
Anfrage Absenden
Aluminiumkugeln APP-512 Sputterziel hohe Reinheit 99.999% auf Lager
3.180,00
-
8.500,00
$
1 Ton
(MOQ)
Aluminiumkugeln API-625 Sputterziel hohe Reinheit 99.999% auf Lager
3.180,00
-
8.500,00
$
1 Ton
(MOQ)
1/4
Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited
Anfrage Absenden
Magnetron-Sputtern Ruthenium-Ziel hohe Reinheit
32.000,00
$
1 Stück
(MOQ)
Hochreines Siliziumnitrid-Zielmaterial
15.000,00
$
1 Stück
(MOQ)
Hochreines Kupfer-Rückzieltarget-Vakuum-Sputtern
2.200,00
$
1 Stück
(MOQ)
4n Hochpräzisions-Wolfram-Sputterziel
3.500,00
$
1 Stück
(MOQ)
1/4
Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.
Anfrage Absenden
Hochwertiges Nickelrundziel für Sputterziele
10,00
$
1 pcs
(MOQ)
Hochharter polierter Oberflächen- und höherreiner Nickelrohrziel
30,00
$
10 Stücke
(MOQ)
Hochschmelzender Zirkonium-Rund-Sputtertarget Zr702
15,00
$
1 pcs
(MOQ)
Gute thermische und elektrische Leitfähigkeit reiner gerader Zirkoniumrundstab
15,00
$
10 kg
(MOQ)
1/4
Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.
Anfrage Absenden
Hochreine Sputter-Titanziele Preis für PVD-Beschichtung/Ti Sputter-Titanziel runde Titanziele zum Verkauf
80,00
-
300,00
$
1 Stück
(MOQ)
ITO leitfähige Glasherstellungsmaschine, PVD Magnetron-Sputtertechnologie
45.000,00
-
150.000,00
$
1 Satz
(MOQ)
Cicel Dekorative Folienabscheidungs-Vakuumbeschichter (CCZK-ION)
45.000,00
-
150.000,00
$
1 Satz
(MOQ)
Heißer Verkauf Niedrig-E-Glas Magnetron-Sputter-Vakuumbeschichtungsmaschinenlieferant
45.000,00
-
150.000,00
$
1 Satz
(MOQ)
1/4
Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.
Anfrage Absenden
Bornitrid (BN) Keramiknitrid PVD Sputtering Target, Titandiborid, Titanborid, Kundenspezifische Größe, Trägerplatte Bonding
Verhandelbar
1 Stück
(MOQ)
Barium Titanat Batio3 Target, Barium Strontium Titanat Target Basrtio3, PVD Magnetron Sputtering Target, Laborverbrauchsmaterial
Verhandelbar
1 Stück
(MOQ)
Hochreines Zinkoxid-Aluminium (AZO) Zielmaterial, Zinkoxid (ZnO) dotiert mit Aluminiumoxid (Al2O3), Magnetron Sputteroxid-Ziel, Backplate Bonding
Verhandelbar
1 Stück
(MOQ)
ITO (Indium Zinn-Oxid) Zielmaterial, Indium Zinn-Oxid Halbleiter Transparente leitfähige Folie, Magnetron Sputtering Target
Verhandelbar
1 Stück
(MOQ)
Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.
13 J.
·
Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
Anfrage Absenden
Vier Target-Magnetron-Sputterbeschichter mit Lade-Lock-Kammer für keramische Dünnfilme
28.500,00
-
40.100,00
$
1 Stück
(MOQ)
DC RF Dual Target Magnetron-Sputterablagerung für Metall- und Oxid-Dünnfilme
21.000,00
-
26.000,00
$
1 Stück
(MOQ)
Desktop Edelstahl-Hohlraum Einzelziel Magnetron-Sputter-Beschichtungsgerät
8.730,00
-
8.900,00
$
1 Stück
(MOQ)
Drei Zieloberflächen-Magnetron-Sputterbeschichtungsgeräte für Halbleiterfilme
37.300,00
-
126.870,00
$
1 Stück
(MOQ)
1/4
Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.
9 J.
·
Hersteller/Werk
Anfrage Absenden
Keramisch, Dielektrisch, Optisch, Oxid, Hartfilm, PTFE-Film RF-Dualziel-Magnetron-Sputterbeschichter
26.500,00
$
1 Stück
(MOQ)
Einzelziel-Magnetron-Sputtern mit optischer Faserwicklungsfunktion
28.000,00
-
29.500,00
$
1 set
(MOQ)
Einzelne Duale Dreifache Ziel-Magnetron-Sputter-Beschichtung mit Filmdickenmonitor
60.000,00
-
61.200,00
$
1 set
(MOQ)
Einzelziel-Magnetron-Sputterbeschichtung mit Filmdickenmonitor
18.000,00
-
19.200,00
$
1 set
(MOQ)
1/4
Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.
Anfrage Absenden
Bornitrid (BN) Keramiknitrid PVD Sputtering Target, Titandiborid, Titanborid, Kundenspezifische Größe, Trägerplatte Bonding
Verhandelbar
1 Stück
(MOQ)
ITO (Indium Zinn-Oxid) Zielmaterial, Indium Zinn-Oxid Halbleiter Transparente leitfähige Folie, Magnetron Sputtering Target, kundenspezifische Spezifikationen
Verhandelbar
1 Stück
(MOQ)
Hochreines IGZO (Indium Gallium Zinkoxid) Zielmaterial für PVD-Magnetron-Sputtering Vakuumbeschichtung, Forschung und Experimentalmaterial
Verhandelbar
1 Stück
(MOQ)
Barium Titanat Batio3 Target, Barium Strontium Titanat Target Basrtio3, PVD Magnetron Sputtering Target, Laborverbrauchsmaterialien, Partikel, Bonding von Backing
Verhandelbar
1 Stück
(MOQ)
Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd
Anfrage Absenden
ITO (Tabletten) Sputtering Target
Verhandelbar
5 Stücke
(MOQ)
Zirconium Sputtering Target
Verhandelbar
5 Stücke
(MOQ)
Tiox-Ziel
Verhandelbar
5 Stücke
(MOQ)
ITO-Ziel
Verhandelbar
5 Stücke
(MOQ)
China Rare Metal Material Co., Ltd.
Anfrage Absenden
Sputterende Ziele Aus Keramik
100,00
$
1 Stück
(MOQ)
Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.
Anfrage Absenden
Ybco Yba2cu3o7 Yttrium Barium Kupferoxid Sputterziel
250,00
-
500,00
$
1 Stück
(MOQ)
Hunan Ultra Minor Metals Ltd
Anfrage Absenden
Hoher Reinheitsgrad-Osmium-Ziel-Spritzenziel für Dünnfilm-Industrie
Verhandelbar
1 Stück
(MOQ)
Deyang Aijialun Vacuum Technology Co., Ltd.
Anfrage Absenden
ITO Sputtering Target
20,00
-
1.000,00
$
1 Satz
(MOQ)
Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.
5.0
Anfrage Absenden
Hochwertige Sputterziele aus seltenen Erden für den globalen Vertrieb
150,00
-
350,00
$
1 Stück
(MOQ)
Hochreiner Yttrium-Sputterziel für fortschrittliche Lasertechnologie
115,00
-
130,00
$
1 Stück
(MOQ)
OEM Anpassung seltener Erden Premium Sputter Ytterbium Metall Zielscheibe
190,00
-
199,00
$
1 Stück
(MOQ)
Premium anpassbare Sputtertargets aus seltenen Erden für Solarenergie
115,00
-
130,00
$
1 Stück
(MOQ)
1/4
Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.
21 J.
·
5.0
·
Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
Anfrage Absenden
Mo1 Ziel Molybdän Sputterziel Preis
40,00
-
88,00
$
1 kg
(MOQ)
Hochwertige Molybdänziel Molybdänplatte
40,00
-
88,00
$
1 kg
(MOQ)
Maßgeschneiderte Hochtemperatur Mo-La Molybdänschale
31,00
-
49,00
$
1 kg
(MOQ)
Vertrauenswürdiger Molybdänboot Molybdänschale
32,00
-
54,00
$
1 kg
(MOQ)
1/2
Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.
Anfrage Absenden
Yttrium-Zirkoniumoxid Ysz(Zro2/Y2o3 99,99 % Sputterziel Keramikziel
Verhandelbar
1 Stück
(MOQ)
Keramik Sputtering Target in verschiedenen Formen für PVD-Beschichtung Compound Ziel
Verhandelbar
1 Stück
(MOQ)
Sputterziel ITO Indium-Zinn-Oxid 4n 99,99% für optische Beschichtung
Verhandelbar
1 Stück
(MOQ)
AZO Sputtering Target Aluminium Zinkoxid für die Verdampfung Dünnschicht-Optical Beschichtung
Verhandelbar
1 Stück
(MOQ)
Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.
6 J.
·
Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
Anfrage Absenden
5-200kw Typische Sputterquelle für die Dünnfilm-Beschichtungsindustrie Rotationsmagnetron-Sputterkathode Rotationssputterziel
6.900,00
-
7.000,00
$
2 sets
(MOQ)
Rotierender Kathode, zylindrisches Röhrenziel für Beschichtungsmaschine
6.700,00
-
6.800,00
$
2 sets
(MOQ)
PVD-Magnetron-Sputteranlage zur Behandlung von Keramikoberflächen
80.000,00
-
180.000,00
$
1 Satz
(MOQ)
Hochpräzisions-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine für Metall-, Glas- und Keramiksubstrate
80.000,00
-
180.000,00
$
1 Satz
(MOQ)
1/4
CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED
5 J.
·
Handelsunternehmen
Anfrage Absenden
Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges ITO Rotationssputterziel 4n In2o3 und Sno2
Verhandelbar
1 Piece
(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Niedrige Dichte 4n ITO Kleine Runde Zielscheibe
Verhandelbar
1 Piece
(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Hochreinheit ITO Ziel für Rpd 4n
Verhandelbar
1 Piece
(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Hochdichte Indiumzinnoxid ITO Kleine Runde Zielscheibe 4n
Verhandelbar
1 Piece
(MOQ)
1/4
Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.
Anfrage Absenden
99.999% Hochreines monokristallines Silizium-Sputterzielplatte / Siliziumkeramisches Ziel
200,00
-
10.000,00
$
1 Stück
(MOQ)
4n Azo-Ziel ZnO: Al2O3 Rotationssputterziele
200,00
-
10.000,00
$
1 Stück
(MOQ)
Maßgeschneiderte Größe Hochreine Kohlenstoffgraphit-Sputterziele 99.99% Bonding Kupferziel
200,00
-
10.000,00
$
1 Stück
(MOQ)
4n Nbo2 Ziel Niobiumoxid Rotationsziele Flachziele
200,00
-
10.000,00
$
1 Stück
(MOQ)
UV Tech Material Co., Ltd.
Anfrage Absenden
Rotationsplanar ITO Target, Magnetron Sputtering Target, In2o3: SnO2 Target, 90: 10 ITO, 95: 5 ITO, 97:3 ITO
Verhandelbar
10 Kg
(MOQ)
Drehbares Nbox Target 99,95% Hochwertiges Sputterziel
Verhandelbar
2 Stücke
(MOQ)
Rotary TiOx Target, hauptsächlich Anwendung für Low-E Glasbeschichtung, Magnetron Sputtering Target, Titanoxid Target
Verhandelbar
1 Stück
(MOQ)
Heterojunction ITO Target, High Purity ITO Sputtering Target for Heterojunction, 97: 3 HJT ITO Target
Verhandelbar
1 Stück
(MOQ)
Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited
Anfrage Absenden
Keramisches Ziel SpritzensBi2O3
Verhandelbar
1 Stück
(MOQ)
Keramisches Ziel SpritzensBifeo3
Verhandelbar
1 Stück
(MOQ)
Ziel SpritzensBi2te3
Verhandelbar
1 Stück
(MOQ)
Azo zylinderförmige Ziele
Verhandelbar
1 Stück
(MOQ)
1
4
Technologische Innovation
Zuverlässige Lieferketten
Umfangreiche FertigungskapazitätenTechnologische InnovationZuverlässige LieferkettenUmfangreiche Fertigungskapazitäten
