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etwa Co-Sputterziel
  • Technologische Innovation
  • Zuverlässige Lieferketten
  • Umfangreiche Fertigungskapazitäten

Co-Sputterziel200+ Fabriken verifiziert

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Hochreines Kobalt/Co Vakuumbeschichtung Sputter-Sputterziel

Hochreines Kobalt/Co Vakuumbeschichtung Sputter-Sputterziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
99.95% Co Cobalt-Platte Sputterziel für Beschichtung

99.95% Co Cobalt-Platte Sputterziel für Beschichtung

50,00-200,00 $
1 Stück(MOQ)
99.95% Kobalt-Sputterziel Magnetron Co Kobalt-Ziele maßgeschneiderte Größe

99.95% Kobalt-Sputterziel Magnetron Co Kobalt-Ziele maßgeschneiderte Größe

35,00-40,00 $
1 Stück(MOQ)
Reines Kobalt (Co) Sputterziel 99.95% Polierte Oberflächenmetall-Kobalt-Ziel für den Filmprozess

Reines Kobalt (Co) Sputterziel 99.95% Polierte Oberflächenmetall-Kobalt-Ziel für den Filmprozess

30,00-500,00 $
1 pieces(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.95% Reines Co Kobalt Sputterziel Metall Kobalt Ziel

99.95% Reines Co Kobalt Sputterziel Metall Kobalt Ziel

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreines 99.999% reines Ge Germanium Sputterziel Magnetron-Ziel

Hochreines 99.999% reines Ge Germanium Sputterziel Magnetron-Ziel

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.95% Znsn Metalllegierungs-Magnetron Zink Zinn Sputterziel

99.95% Znsn Metalllegierungs-Magnetron Zink Zinn Sputterziel

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreine Tisi2 Titan-Silicid-Sputterziele Beschichtung Sputtern

Hochreine Tisi2 Titan-Silicid-Sputterziele Beschichtung Sputtern

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Zr702 Zr705 Zirkonium-Rohrziel Wärmeleitfähigkeit Hochrein Sputterziel

Zr702 Zr705 Zirkonium-Rohrziel Wärmeleitfähigkeit Hochrein Sputterziel

1,00-3.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Zr702 Zr705 Zirkonium-Ziel Wärmeleitfähigkeit Sputterziel

Hochreines Zr702 Zr705 Zirkonium-Ziel Wärmeleitfähigkeit Sputterziel

0,05-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrik Zirkonium Zr702 Zr705 Sputterfolie Zielscheibe für PVD-Beschichtung Zirkoniumscheibe

Fabrik Zirkonium Zr702 Zr705 Sputterfolie Zielscheibe für PVD-Beschichtung Zirkoniumscheibe

1,00-3.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Zirkonium Zr702 Zr705 Sputterfolie Zielscheibe für PVD-Beschichtung Zirkoniumscheibe

Zirkonium Zr702 Zr705 Sputterfolie Zielscheibe für PVD-Beschichtung Zirkoniumscheibe

1,00-3.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Cu-Sputterziel Kupfer Rotationsziel für metallbeschichtete Leiter/ Halbleiter

Cu-Sputterziel Kupfer Rotationsziel für metallbeschichtete Leiter/ Halbleiter

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Polysiliziumkeramisches Ziel für Sputterziele in der Solarphotovoltaik

Polysiliziumkeramisches Ziel für Sputterziele in der Solarphotovoltaik

35,00-50,00 $
1 Kg(MOQ)
Mono-Si Ziel monokristallines Siliziumkeramikziel für Sputterziele Solar-Photovoltaik Mobiltelefon

Mono-Si Ziel monokristallines Siliziumkeramikziel für Sputterziele Solar-Photovoltaik Mobiltelefon

35,00-75,00 $
1 Kg(MOQ)
CuNiTi Legierung Ziel Kupfer Nickel Titan Legierung Sputterziel für LCD/Touchpanel

CuNiTi Legierung Ziel Kupfer Nickel Titan Legierung Sputterziel für LCD/Touchpanel

50,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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99.9% Nickel-Chrom-Aluminium-Vakuumbeschichtung-Sputterziel für PVD-Prozess Chrom-Tantal-Ziel

99.9% Nickel-Chrom-Aluminium-Vakuumbeschichtung-Sputterziel für PVD-Prozess Chrom-Tantal-Ziel

55,00 $
1 Stück(MOQ)
Festigkeit und Zähigkeit Kaltpresseigenschaft Titan Sputterbeschichtung Round Target

Festigkeit und Zähigkeit Kaltpresseigenschaft Titan Sputterbeschichtung Round Target

32,00-40,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochwertige Titan-Aluminium-Rund-Sputtertarget

Hochwertige Titan-Aluminium-Rund-Sputtertarget

20,00 $
50 Stücke(MOQ)
Edelstahl 99.9% Titanröhrensputterziel für Vakuumbeschichtung

Edelstahl 99.9% Titanröhrensputterziel für Vakuumbeschichtung

10,00 $
10 pcs(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Vakuumbeschichtung Titanziel

Vakuumbeschichtung Titanziel

30,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
PVD Mf Magnetron-Sputter-Vakuum-Beschichtungsmaschine

PVD Mf Magnetron-Sputter-Vakuum-Beschichtungsmaschine

75.000,00-148.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Echte Goldfarbe PVD-Vakuum-Plasma-Ion-Beschichtungsmaschine für Schmuck, Uhren

Echte Goldfarbe PVD-Vakuum-Plasma-Ion-Beschichtungsmaschine für Schmuck, Uhren

75.000,00-160.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Ipg-Beschichtungs-PVD-Vakuumbeschichtungssystem für Schmuck und Uhren

Ipg-Beschichtungs-PVD-Vakuumbeschichtungssystem für Schmuck und Uhren

65.000,00-160.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 J.·5.0
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Mo1 Ziel Molybdän Sputterziel Preis

Mo1 Ziel Molybdän Sputterziel Preis

40,00-88,00 $
1 kg(MOQ)
Molybdän Zielmaterial bester Preis Mo Ziel

Molybdän Zielmaterial bester Preis Mo Ziel

40,00-88,00 $
1 kg(MOQ)
Hochwertige Molybdänziel Molybdänplatte

Hochwertige Molybdänziel Molybdänplatte

40,00-88,00 $
1 kg(MOQ)
Hochreines Mo1 Rundplatte Molybdän Sputterziel

Hochreines Mo1 Rundplatte Molybdän Sputterziel

40,00-88,00 $
1 kg(MOQ)
1/2

Luoyang Modi Tungsten & Molybdenum Material Co., Ltd.

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Molybdenum Thick Plate Molybdenum Ingot Molybdenum Sputtering Target

Molybdenum Thick Plate Molybdenum Ingot Molybdenum Sputtering Target

57,00-72,00 $
1 Kg(MOQ)
Mo1 Molybdenum Sputtering Target Molybdenum Target Price

Mo1 Molybdenum Sputtering Target Molybdenum Target Price

57,00-72,00 $
1 Kg(MOQ)
Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

75,00-95,00 $
1 Kg(MOQ)
High Purity Sputtering Target Material Molybdenum Sputtering Target

High Purity Sputtering Target Material Molybdenum Sputtering Target

57,00-72,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Hochwertige Aluminium Al Sputterzielbindung China Preis

Hochwertige Aluminium Al Sputterzielbindung China Preis

80,00-500,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Mo Molybdän Planar Tubular Sputterziel Wert Preis Fabrik

Hochreines Mo Molybdän Planar Tubular Sputterziel Wert Preis Fabrik

80,00-500,00 $
1 Kg(MOQ)
PVD-Beschichtung Sputterziel Planar Rundchromfabrik

PVD-Beschichtung Sputterziel Planar Rundchromfabrik

50,00-300,00 $
1 Stück(MOQ)
4n 99.99% Hochreines Aluminium Al Sputterziel für PVD-Beschichtung

4n 99.99% Hochreines Aluminium Al Sputterziel für PVD-Beschichtung

80,00-500,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Fabrikverkauf Chrom-Sputterziel zur Herstellung von dünnen filmresistiven Dehnungsmessstreifen

Fabrikverkauf Chrom-Sputterziel zur Herstellung von dünnen filmresistiven Dehnungsmessstreifen

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikpreis 99.999% Chrom-Sputterziel Cr

Fabrikpreis 99.999% Chrom-Sputterziel Cr

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Am häufigsten verwendete Art der PVD-Beschichtung: Plattenart-Chrom-Sputterziel

Am häufigsten verwendete Art der PVD-Beschichtung: Plattenart-Chrom-Sputterziel

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreine 99.99% TANKII Metall-Chrom-Sputterziele

Hochreine 99.99% TANKII Metall-Chrom-Sputterziele

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Hochreines Gadolinium-Metall-Sputterziel für PVD-Anwendungen

Hochreines Gadolinium-Metall-Sputterziel für PVD-Anwendungen

55,00-85,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Ytterbium-Metall-Sputterziel für fortschrittliche Anwendungen

Hochreines Ytterbium-Metall-Sputterziel für fortschrittliche Anwendungen

190,00-199,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Ytterbium-Titanlegierung-Sputterziel für überlegene Beschichtungen

Hochreines Ytterbium-Titanlegierung-Sputterziel für überlegene Beschichtungen

190,00-199,00 $
1 Stück(MOQ)
Maßgeschneiderte Ytterbium (Yb) Sputterziele für fortschrittliche Anwendungen

Maßgeschneiderte Ytterbium (Yb) Sputterziele für fortschrittliche Anwendungen

190,00-199,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 J.·5.0
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Chrom-Sputterziel für Präzisionselektronik und Formen

Chrom-Sputterziel für Präzisionselektronik und Formen

90,00-110,00 $
2 Stücke(MOQ)
Verschleißfeste Nickel-Sputtertargets für die Beschichtung von elektronischen Sensorsystemen in der Automobilindustrie

Verschleißfeste Nickel-Sputtertargets für die Beschichtung von elektronischen Sensorsystemen in der Automobilindustrie

120,00-140,00 $
50 kilograms(MOQ)
Hochreine Nickel-Röhren-Sputtertargets - Anpassbar für PV-Solarzellen

Hochreine Nickel-Röhren-Sputtertargets - Anpassbar für PV-Solarzellen

200,00-220,00 $
50 kilograms(MOQ)
Msgp Reine Nickel Planar Sputterziele für die Sensorherstellung Kern Garantie

Msgp Reine Nickel Planar Sputterziele für die Sensorherstellung Kern Garantie

160,00-200,00 $
50 kilograms(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 J.
·Handelsunternehmen
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Anpassung von Titan-Sputtertargets für spezialisierte Beschichtungsbedürfnisse

Anpassung von Titan-Sputtertargets für spezialisierte Beschichtungsbedürfnisse

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
Titan-Aluminium-Legierung PVD-Ziele Titan-Sputterziele Tial-Legierungsziel für Beschichtungen

Titan-Aluminium-Legierung PVD-Ziele Titan-Sputterziele Tial-Legierungsziel für Beschichtungen

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines 99.6% PVD M86 Titanziel Od 98X40mm Ti Ziel Titan

Hochreines 99.6% PVD M86 Titanziel Od 98X40mm Ti Ziel Titan

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Titanziel für PVD-Beschichtungsmaschine

Hochreines Titanziel für PVD-Beschichtungsmaschine

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 J.
·Hersteller/Werk
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Desktop-Dual-Ziel-Plasmasputterbeschichter für SEM-Proben und Chrom

Desktop-Dual-Ziel-Plasmasputterbeschichter für SEM-Proben und Chrom

7.900,00-8.500,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochvakuum-Magnetron-Sputterquelle-Ziel für PVD-Beschichtungsprozess

Hochvakuum-Magnetron-Sputterquelle-Ziel für PVD-Beschichtungsprozess

1.800,00-2.000,00 $
1 set(MOQ)
Al, ITO, Cr Beschichtungssubstrat für thermische Verdampfung und Magnetron-Sputtermaschine

Al, ITO, Cr Beschichtungssubstrat für thermische Verdampfung und Magnetron-Sputtermaschine

30,00-200,00 $
1 Stück(MOQ)
Dreifach-Sputterziel mit DC-Strom PVD-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine

Dreifach-Sputterziel mit DC-Strom PVD-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine

38.000,00-39.500,00 $
1 set(MOQ)
1/4

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd.

8 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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CT Rotierende Anode Ziel Hochreines Mo Sputterziel

CT Rotierende Anode Ziel Hochreines Mo Sputterziel

142,00-168,00 $
30 Stücke(MOQ)
Sandstrahlen, schwarz beschichtetes Molybdän-Rhenium-Wolfram-Rotationsanodenziel-Sputterziel für Röntgenröhren-Einsatzteile

Sandstrahlen, schwarz beschichtetes Molybdän-Rhenium-Wolfram-Rotationsanodenziel-Sputterziel für Röntgenröhren-Einsatzteile

142,00-168,00 $
30 Stücke(MOQ)
Hochleistungs-Rotations-Tungsten-Sputterziel

Hochleistungs-Rotations-Tungsten-Sputterziel

142,00-168,00 $
30 Stücke(MOQ)
Röntgenröhren-Ersatzteile CT Rotationsanode Ziel Mo Beschichtung Ziel

Röntgenröhren-Ersatzteile CT Rotationsanode Ziel Mo Beschichtung Ziel

142,00-168,00 $
30 Stücke(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Maßgeschneiderter Hochreiner Titanblock Vakuum-Titanmaterial Multi-Bogen-Ionenbeschichtungsmaterial Metallziel

Maßgeschneiderter Hochreiner Titanblock Vakuum-Titanmaterial Multi-Bogen-Ionenbeschichtungsmaterial Metallziel

500,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Zylindrischer Magnetron-Sputtertarget für PVD-Vakuumbeschichtung Titanrohr Metallrohre Rohmaterialien Beschichtung Kathoden

Zylindrischer Magnetron-Sputtertarget für PVD-Vakuumbeschichtung Titanrohr Metallrohre Rohmaterialien Beschichtung Kathoden

800,00-1.500,00 $
1 Stück(MOQ)
Rotierender Kathode, zylindrisches Röhrenziel für Beschichtungsmaschine

Rotierender Kathode, zylindrisches Röhrenziel für Beschichtungsmaschine

6.700,00-6.800,00 $
2 sets(MOQ)
5-200kw Typische Sputterquelle für die Dünnfilm-Beschichtungsindustrie Rotationsmagnetron-Sputterkathode Rotationssputterziel

5-200kw Typische Sputterquelle für die Dünnfilm-Beschichtungsindustrie Rotationsmagnetron-Sputterkathode Rotationssputterziel

6.900,00-7.000,00 $
2 sets(MOQ)
1/4

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

12 J.
·Handelsunternehmen
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Ultrahochreine Material Molybdän-Sputterziele

Ultrahochreine Material Molybdän-Sputterziele

20,00-86,00 $
1 Stück(MOQ)
Molybdän-Sputterziele für komplexe Baugruppen

Molybdän-Sputterziele für komplexe Baugruppen

40,00-43,00 $
1 Kg(MOQ)
Biegen und Falten von Molybdän-Sputtertargets

Biegen und Falten von Molybdän-Sputtertargets

40,00-43,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochwertige Molybdän-Sputtertargets

Hochwertige Molybdän-Sputtertargets

66,00-77,00 $
1 Kg(MOQ)
1/1

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Hochwertige Zirkonium 705 Sputterziele für maßgeschneiderte Lösungen heute

Hochwertige Zirkonium 705 Sputterziele für maßgeschneiderte Lösungen heute

Verhandelbar
10 Kg(MOQ)
Zirkonium 705 Sputterziel für hochwertige maßgeschneiderte Metalllösungen

Zirkonium 705 Sputterziel für hochwertige maßgeschneiderte Metalllösungen

Verhandelbar
10 Kg(MOQ)
Vakuumbeschichtung Sputterzielmaterial gebogenes Ziel hochreines Verfahren Hafniumplatte

Vakuumbeschichtung Sputterzielmaterial gebogenes Ziel hochreines Verfahren Hafniumplatte

Verhandelbar
2 Kg(MOQ)
Überlegene Tantalpartikel für effektives Sputtern und Beschichtungsbedürfnisse

Überlegene Tantalpartikel für effektives Sputtern und Beschichtungsbedürfnisse

Verhandelbar
1 Kg(MOQ)
1/4

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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Ultra-Reinheit 99.9999% 7n5 Kupferziele

Ultra-Reinheit 99.9999% 7n5 Kupferziele

26,99-53,03 $
1.000 kilograms(MOQ)
Chinesische Fabrik Hochreines 6n Kupfer (Cu) 99.9999% Sputterziel

Chinesische Fabrik Hochreines 6n Kupfer (Cu) 99.9999% Sputterziel

89,00-180,00 $
1.000 kilograms(MOQ)
C110/C10100/Tu00 5n Hochreiner Sputterzielkupfer 99.999% für optische Beschichtung

C110/C10100/Tu00 5n Hochreiner Sputterzielkupfer 99.999% für optische Beschichtung

79,99 $
50 Kg(MOQ)
99.9999% 6n Hochreine Metallkupfer-Sputtertargets Trägerplatte

99.9999% 6n Hochreine Metallkupfer-Sputtertargets Trägerplatte

335,00-350,00 $
100 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Magnetron-Sputterziel Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Magnetron-Sputterziel Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

500,00 $
1 Stück(MOQ)
99.99% Galliumoxid-Sputterziel Flachziel Ga2o3 Ziel

99.99% Galliumoxid-Sputterziel Flachziel Ga2o3 Ziel

300,00 $
1 Stück(MOQ)
Rotary-Sputterziel 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

Rotary-Sputterziel 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Plasmasprühbeschichtungsausrüstung antihaftend verschleißfest Silizium Aluminium Alumina Zirkonia

Plasmasprühbeschichtungsausrüstung antihaftend verschleißfest Silizium Aluminium Alumina Zirkonia

35.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

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Wti-Ziel / Sputterziele / Hochwertiges Wti

Wti-Ziel / Sputterziele / Hochwertiges Wti

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Sprühziel

Sprühziel

0,10-100,00 $
1.000 Stücke(MOQ)
W Ziel

W Ziel

100,00 $
1 Stück(MOQ)
Ziel mit hoher Qualität

Ziel mit hoher Qualität

0,10-100,00 $
1.000 Stücke(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Handelsunternehmen
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Wolfram-Sputterziel hohe Reinheit 99.95% Halbleiter-Dünnfilmabscheidung anpassbar ASTM-Standard

Wolfram-Sputterziel hohe Reinheit 99.95% Halbleiter-Dünnfilmabscheidung anpassbar ASTM-Standard

60,00-100,00 $
1 Kg(MOQ)
Premium rotierendes Wolframziel für effiziente Sputteranwendungen

Premium rotierendes Wolframziel für effiziente Sputteranwendungen

50,00-270,00 $
10 Kg(MOQ)
Reines Molybdänziel Ultra Dicht 99.9% 100mm Durchmesser Dünnfilm-Beschichtung Optional RoHS

Reines Molybdänziel Ultra Dicht 99.9% 100mm Durchmesser Dünnfilm-Beschichtung Optional RoHS

30,00-60,00 $
10 Kg(MOQ)
Anpassbarer Molybdän-Sputtertarget mit hoher Dichte für Halbleiter- und Glasbeschichtungsanwendungen

Anpassbarer Molybdän-Sputtertarget mit hoher Dichte für Halbleiter- und Glasbeschichtungsanwendungen

30,00-80,00 $
10 Kg(MOQ)
1/4

Hubei Fotma Machinery Co., Ltd.

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99.95% Molybdän Ziel Sputtern Molybdän Ziel

99.95% Molybdän Ziel Sputtern Molybdän Ziel

5,00-200,00 $
1 Kilogram(MOQ)
Kundenspezifisches Wolframprodukt Sputtern reines Wolframziel

Kundenspezifisches Wolframprodukt Sputtern reines Wolframziel

40,00-50,00 $
1 Kg(MOQ)
Molybdänrohr für Sputterziel 99.95% Reines Molybdänrohr

Molybdänrohr für Sputterziel 99.95% Reines Molybdänrohr

40,00-50,00 $
1 Kg(MOQ)
99.95% Reine maschinell bearbeitete schwarze Wolframplatten Wolframblech

99.95% Reine maschinell bearbeitete schwarze Wolframplatten Wolframblech

1,00-20,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Ti-Sputtering-Titan-Ziel Titan-Sputter-Ziel Vakuumbeschichtung Titan-Ziel

Ti-Sputtering-Titan-Ziel Titan-Sputter-Ziel Vakuumbeschichtung Titan-Ziel

100,00-300,00 $
1 Stück(MOQ)
Titanbeschichtung Target/Gr2 Titanziel Titansputterziel

Titanbeschichtung Target/Gr2 Titanziel Titansputterziel

100,00-300,00 $
1 Stück(MOQ)
Legierung Titan Beschichtung Ziel mit Anpassung

Legierung Titan Beschichtung Ziel mit Anpassung

100,00-300,00 $
1 Stück(MOQ)
Multi-Bogen-Ionen-PVD-Beschichtungsmaschine für Küchenhardware, Vakuumbecher, Schmuck, Uhren, Absperrhahn, Wasserhahn, Brillenfassung

Multi-Bogen-Ionen-PVD-Beschichtungsmaschine für Küchenhardware, Vakuumbecher, Schmuck, Uhren, Absperrhahn, Wasserhahn, Brillenfassung

Verhandelbar
1 Set(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Hochreiner Plasmasputterziel

Hochreiner Plasmasputterziel

65,00 $
1 Satz(MOQ)
Desktop Edelstahl-Hohlraum Einzelziel Magnetron-Sputter-Beschichtungsgerät

Desktop Edelstahl-Hohlraum Einzelziel Magnetron-Sputter-Beschichtungsgerät

8.730,00-8.900,00 $
1 Stück(MOQ)
DC RF Dual Target Magnetron-Sputterablagerung für Metall- und Oxid-Dünnfilme

DC RF Dual Target Magnetron-Sputterablagerung für Metall- und Oxid-Dünnfilme

21.000,00-26.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Duale Zielplasma-Sputterbeschichtungsmaschine für AG Pd Film

Duale Zielplasma-Sputterbeschichtungsmaschine für AG Pd Film

3.000,00-5.000,00 $
1 set(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

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Lanthanhexaborid Lab6 Keramikscheibe Sputterziel

Lanthanhexaborid Lab6 Keramikscheibe Sputterziel

50,00-200,00 $
1 Stück(MOQ)
Lanthanhexaborid Lab6 Keramiksputterziel für PVD-Dünnfilm-Beschichtung

Lanthanhexaborid Lab6 Keramiksputterziel für PVD-Dünnfilm-Beschichtung

50,00-200,00 $
1 Stück(MOQ)
Hoch Elektronenaussendungs-Lanthanhhexaborid Lab6 Keramische Ziele

Hoch Elektronenaussendungs-Lanthanhhexaborid Lab6 Keramische Ziele

50,00-200,00 $
1 Stück(MOQ)
Sprühziel Lanthanumborid Lab6 Keramikscheibe

Sprühziel Lanthanumborid Lab6 Keramikscheibe

50,00-200,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shanghai Rui Tai Photoelectric Technology Co., Ltd.

10 J.·5.0
·Handelsunternehmen
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Fortgeschrittener Quarz-Sputterziel für optimale Beschichtungslösungen

Fortgeschrittener Quarz-Sputterziel für optimale Beschichtungslösungen

3,00-5,00 $
100 Stücke(MOQ)
Optische Streuungen Quarzoptische Streuungen

Optische Streuungen Quarzoptische Streuungen

3,00-5,00 $
100 Stücke(MOQ)
Optischer Quarzstreuer Quarz-engineered Streuer Laserstreuer

Optischer Quarzstreuer Quarz-engineered Streuer Laserstreuer

3,00-5,00 $
100 Stücke(MOQ)
Quarz Ingenieur Diffusoren Optische Diffusoren Quarz Optische Diffusoren

Quarz Ingenieur Diffusoren Optische Diffusoren Quarz Optische Diffusoren

3,00-5,00 $
100 Stücke(MOQ)
1/4

LUOYANG COMBAT TUNGSTEN & MOLYBDENUM MATERIAL CO., LTD.

18 J.·5.0
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Kampf Hochdichte 99.95% Mo Molybdän Sputterziel

Kampf Hochdichte 99.95% Mo Molybdän Sputterziel

55,00-59,00 $
1 Kg(MOQ)
Maßgefertigtes 99.6% Titan Reines Metallmaterial Titan Sputterziel zu verkaufen

Maßgefertigtes 99.6% Titan Reines Metallmaterial Titan Sputterziel zu verkaufen

35,00-40,00 $
5 Kg(MOQ)
Tantalumfolieblatt akzeptiert kundenspezifische Anpassungen Elektronik Tantalumdünnblatt zum Verkauf

Tantalumfolieblatt akzeptiert kundenspezifische Anpassungen Elektronik Tantalumdünnblatt zum Verkauf

456,80-500,20 $
1 Kg(MOQ)
ASTM Wettbewerbsfähiger Preis 99.95% Reinheit Wolframplatte

ASTM Wettbewerbsfähiger Preis 99.95% Reinheit Wolframplatte

74,00 $
1 Kg(MOQ)
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CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 J.
·Handelsunternehmen
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Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges ITO Rotationssputterziel 4n In2o3 und Sno2

Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges ITO Rotationssputterziel 4n In2o3 und Sno2

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Hochwertiges Niobium-Sputterziel mit CAS-Nr. 7440-03-1

Hochwertiges Niobium-Sputterziel mit CAS-Nr. 7440-03-1

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Samarium Metall Zielstab Granulat CAS Nr 7440-19-9 Sm 3n 4n

Samarium Metall Zielstab Granulat CAS Nr 7440-19-9 Sm 3n 4n

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Niedrige Dichte 4n ITO Kleine Runde Zielscheibe

Fabrikpreis Verkauf Niedrige Dichte 4n ITO Kleine Runde Zielscheibe

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
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Zhuzhou Hongtong Tungsten Carbide Co., Ltd.

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Wolframkarbid-Sputtertargets zur Herstellung von DLC-Beschichtungen

Wolframkarbid-Sputtertargets zur Herstellung von DLC-Beschichtungen

38,00-45,00 $
10 Kg(MOQ)
Verschiedene Formen von Wolframkarbid-Sputtertargets für DLC-Beschichtungen

Verschiedene Formen von Wolframkarbid-Sputtertargets für DLC-Beschichtungen

38,00-45,00 $
10 Kg(MOQ)
Wolframcarbidplatte mit einer geriffelten Fläche

Wolframcarbidplatte mit einer geriffelten Fläche

38,00-45,00 $
10 Kg(MOQ)
Wolframkarbid-Beschichtungsplatte für die obere Mühlen-Seitenverkleidung

Wolframkarbid-Beschichtungsplatte für die obere Mühlen-Seitenverkleidung

38,00-45,00 $
10 Kg(MOQ)
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