Startseitearrow-rightChina-Fabrik-Indexarrow-rightKupfer-Indium-Ziel Fabrikarrow-rightLieferantenliste
Filter
Kategorie
Mehr
Management-Zertifizierung
Mehr
F&E-Kapazität
Jahresumsatz
Anzahl der Mitarbeiter
Provinz und Region
Mehr
etwa Kupfer-Indium-Ziel
  • Technologische Innovation
  • Zuverlässige Lieferketten
  • Umfangreiche Fertigungskapazitäten

Kupfer-Indium-Ziel20+ Fabriken verifiziert

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

Anfrage Absenden
In2o3 Ziel-Indiumoxid-Sputterziel mit Kupfer-Rückplatte

In2o3 Ziel-Indiumoxid-Sputterziel mit Kupfer-Rückplatte

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Passen Sie Kupferplattenplanarziele mit Indium-Bond-Kupfer-Rückwand an

Passen Sie Kupferplattenplanarziele mit Indium-Bond-Kupfer-Rückwand an

45,00-125,00 $
1 Stück(MOQ)
ITO90/10wt% Ziel-Indium-Zinn-Oxid-Sputterziel mit Kupfer-Rückplatte

ITO90/10wt% Ziel-Indium-Zinn-Oxid-Sputterziel mit Kupfer-Rückplatte

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Kupfer-Indium-Gallium-Cuinga-Legierung Sputterziel für Vakuumbeschichtung

Kupfer-Indium-Gallium-Cuinga-Legierung Sputterziel für Vakuumbeschichtung

70,00-80,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
Anfrage Absenden
Cuo-In2o3 Keramische Ziele Kupferoxid - Indiumoxid Sputterziel

Cuo-In2o3 Keramische Ziele Kupferoxid - Indiumoxid Sputterziel

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.9% Cuin Legierungsziel Kupfer Indium Sputterziel

99.9% Cuin Legierungsziel Kupfer Indium Sputterziel

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreines Zirkonium Sputterziel Vakuumbeschichtung Sputterziel

Hochreines Zirkonium Sputterziel Vakuumbeschichtung Sputterziel

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Cu Kupfer Sputterziel Metall Kupfer Rotationsziel für Magnetron-Sputtern

Cu Kupfer Sputterziel Metall Kupfer Rotationsziel für Magnetron-Sputtern

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

Anfrage Absenden
CuInGaS Ziel Kupfer Indium Gallium Schwefel Keramisches Sputterziel für optische Dünnfilm-Beschichtung

CuInGaS Ziel Kupfer Indium Gallium Schwefel Keramisches Sputterziel für optische Dünnfilm-Beschichtung

40,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

Anfrage Absenden
Guangdong Fabrik Kupferplatte Indium Zinn Oxid ITO Sputterziele

Guangdong Fabrik Kupferplatte Indium Zinn Oxid ITO Sputterziele

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Fabrik PVD Beschichtung Cu Platte Multi Arc Sputtering Target Kupfer Rotary Semiconductor

Fabrik PVD Beschichtung Cu Platte Multi Arc Sputtering Target Kupfer Rotary Semiconductor

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Fabrik High-Purity Sauerstofffreie Kupferrohr Sputtering Zielmaterial Reinheit 99,98 % Halbleiter

Fabrik High-Purity Sauerstofffreie Kupferrohr Sputtering Zielmaterial Reinheit 99,98 % Halbleiter

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Factory Cu Sputtering Target Kupfer Rotary für metallbeschichtete Leiterhalbleiter

Factory Cu Sputtering Target Kupfer Rotary für metallbeschichtete Leiterhalbleiter

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
Anfrage Absenden
Fabrikpreis 99.999% Chrom-Sputterziel Cr

Fabrikpreis 99.999% Chrom-Sputterziel Cr

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreine 99.99% TANKII Metall-Chrom-Sputterziele

Hochreine 99.99% TANKII Metall-Chrom-Sputterziele

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf 99.999% Chrom Sputterziel Cr

Fabrikpreis Verkauf 99.999% Chrom Sputterziel Cr

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Niedriger Preis maßgeschneiderter Hersteller hochreines reines Chrommetall Cr Sputterziel für PVD-Beschichtung

Niedriger Preis maßgeschneiderter Hersteller hochreines reines Chrommetall Cr Sputterziel für PVD-Beschichtung

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

Anfrage Absenden
Drehbares Tiox Sial Silber Sputtering Target Cathode Tube Hohe Qualität Reinheit für PVD Nano Dünnschichtmaterial

Drehbares Tiox Sial Silber Sputtering Target Cathode Tube Hohe Qualität Reinheit für PVD Nano Dünnschichtmaterial

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Uvtm Fabrik Sputtering Ziel Hersteller in China 18 Jahre Erfahrung Für Msvd und PVD Vakuum kontinuierliche Sputter Beschichtung Produktionslinie Vicky 13249153016

Uvtm Fabrik Sputtering Ziel Hersteller in China 18 Jahre Erfahrung Für Msvd und PVD Vakuum kontinuierliche Sputter Beschichtung Produktionslinie Vicky 13249153016

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Msvd Glasbeschichtung Ziele Lastbehälter für Export Vicky-Chan@Uvtm. KOM

Msvd Glasbeschichtung Ziele Lastbehälter für Export Vicky-Chan@Uvtm. KOM

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Uvtm Ziele auf Ausstellung für Spritzenbeschichtung Vicky13249153016

Uvtm Ziele auf Ausstellung für Spritzenbeschichtung Vicky13249153016

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
Anfrage Absenden
Kupferziel, Vakuumbeschichtungsziel

Kupferziel, Vakuumbeschichtungsziel

692,00 $
10 Stücke(MOQ)
Mini-Plasma-Sputterbeschichter mit Vakuumpumpe Goldziel, 1.5" Max Probe

Mini-Plasma-Sputterbeschichter mit Vakuumpumpe Goldziel, 1.5" Max Probe

5.600,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikpreis Mini-Plasma-Sputter-Beschichtungsgerät mit Quarzglas-Kammer

Fabrikpreis Mini-Plasma-Sputter-Beschichtungsgerät mit Quarzglas-Kammer

3.300,00-4.400,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Jiangxi He Quan Chem Co., Ltd

Anfrage Absenden
99.99% ITO Indium-Zinn-Oxid-Spritzenziel mit kupferner Platte

99.99% ITO Indium-Zinn-Oxid-Spritzenziel mit kupferner Platte

99,00-169,00 $
1 Piece(MOQ)

Changsha Xinkang Advanced Materials Co, Ltd

Anfrage Absenden
Kupfernes Indium-Spritzenziel

Kupfernes Indium-Spritzenziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

Anfrage Absenden
Spritzenziel

Spritzenziel

18,00-20,00 $
1 Stück(MOQ)

China Material Technology Co., Ltd.

Anfrage Absenden
Durchmesser 60mm Cuingase Ziel-Copper Indium Gallium Selenide Ziel-Sputtering Target (Matte-KN)

Durchmesser 60mm Cuingase Ziel-Copper Indium Gallium Selenide Ziel-Sputtering Target (Matte-KN)

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 J.
·Hersteller/Werk
Anfrage Absenden
Kleines Labor 2 Rotationsziel PVD Metall kompakter Plasma-Sputter-Beschichter für Gold, Platin, Indium und Silberbeschichtungen

Kleines Labor 2 Rotationsziel PVD Metall kompakter Plasma-Sputter-Beschichter für Gold, Platin, Indium und Silberbeschichtungen

11.000,00-12.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Gold-, Platin-, Indium- und Silber-Plasma-Sputterbeschichter mit dreifachem Rotationsziel

Gold-, Platin-, Indium- und Silber-Plasma-Sputterbeschichter mit dreifachem Rotationsziel

8.900,00-9.100,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Xianxian Zhonglu Tongda Testing Instrument and Equipment Factory

10 J.
·Handelsunternehmen
Anfrage Absenden
Nicht zerstörende schnelle elementare Analyse Laborgeräte Röntgenfluoreszenz-Spektrometer

Nicht zerstörende schnelle elementare Analyse Laborgeräte Röntgenfluoreszenz-Spektrometer

39.500,00-40.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Industrielles Qualitätskontrolllegierung Metall Element Nachweissystem Röntgenfluoreszenz-Spektrometer

Industrielles Qualitätskontrolllegierung Metall Element Nachweissystem Röntgenfluoreszenz-Spektrometer

39.500,00-40.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Fortgeschrittene Detektortechnologie Weitreichende Anwendungselementmessgerät Röntgenfluoreszenzspektrometer

Fortgeschrittene Detektortechnologie Weitreichende Anwendungselementmessgerät Röntgenfluoreszenzspektrometer

39.500,00-40.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Schnelle Reaktions-Multi-Matrix-Proben-Elementanalyse-Lösung Röntgenfluoreszenz-Spektrometer

Schnelle Reaktions-Multi-Matrix-Proben-Elementanalyse-Lösung Röntgenfluoreszenz-Spektrometer

39.500,00-40.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Handelsunternehmen
Anfrage Absenden
Ultrahochtemperatur-Wolfram-Keramik für Kristallwachstumsanwendungen

Ultrahochtemperatur-Wolfram-Keramik für Kristallwachstumsanwendungen

79,00-168,00 $
10 Kg(MOQ)
Hochreine Wolfram-Keramik (99.95%) Verwendet für das Wachstum von Saphirkristallen

Hochreine Wolfram-Keramik (99.95%) Verwendet für das Wachstum von Saphirkristallen

79,00-168,00 $
10 Kg(MOQ)
1/4

Wuxi Taixie Metal Material Co., Ltd.

17 J.
·Handelsunternehmen
Anfrage Absenden
Indiumdraht Indiumscheibe Draht

Indiumdraht Indiumscheibe Draht

375,00 $
100 Kg(MOQ)
Indium-Barren Indium-Stab Indium-Band Indium-Block Indium 99.99 Indium-Draht

Indium-Barren Indium-Stab Indium-Band Indium-Block Indium 99.99 Indium-Draht

300,00 $
50 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 J.
·Handelsunternehmen
Anfrage Absenden
Hochreines CIGS Cu in Ga Se Kupfer-Indium-Gallium-Selenid-Pulver 99.99% -100mesh

Hochreines CIGS Cu in Ga Se Kupfer-Indium-Gallium-Selenid-Pulver 99.99% -100mesh

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
1/4

KYKY Technology Co., Ltd.

26 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
Anfrage Absenden
DC-Ionen-Sputterbeschichter

DC-Ionen-Sputterbeschichter

Verhandelbar
1 Satz(MOQ)
1/3

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

Anfrage Absenden
Titan-Aluminium-Legierungs-Sputterbeschichtung Ziel Tial Legierungsziel, Ticr Legierungsziel, Legierungsziel

Titan-Aluminium-Legierungs-Sputterbeschichtung Ziel Tial Legierungsziel, Ticr Legierungsziel, Legierungsziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
99.999% hoher Reinheitsgrad-silbernes Spritzenziel 4n AG Ziel und silbernes drehendes Ziel

99.999% hoher Reinheitsgrad-silbernes Spritzenziel 4n AG Ziel und silbernes drehendes Ziel

180,00-200,00 $
1 Stück(MOQ)
Hoher Reinheitsgrad-silbernes Spritzenziel, AG Spritzenziele

Hoher Reinheitsgrad-silbernes Spritzenziel, AG Spritzenziele

180,00-200,00 $
1 Stück(MOQ)
Hoher Reinheitsgrad-Beschichtung-Material 99.99% AG-silbernes Ziel

Hoher Reinheitsgrad-Beschichtung-Material 99.99% AG-silbernes Ziel

180,00-200,00 $
1 Stück(MOQ)
1/2

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

Anfrage Absenden
Eisen (Fe) Sputterziel

Eisen (Fe) Sputterziel

45,00 $
1 Stück(MOQ)
Sputterziel für hochwertiges Kupfer-Indium-Gallium

Sputterziel für hochwertiges Kupfer-Indium-Gallium

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

Anfrage Absenden
4N reines Ta Tantal Sputtering Ziel Indium Bonding auf Kupfer Trägerplatte

4N reines Ta Tantal Sputtering Ziel Indium Bonding auf Kupfer Trägerplatte

Verhandelbar
2 Stücke(MOQ)
Über uns Erklärung Nutzungsvertrag Datenschutzerklärung Kontakt Made-in-China.com Schnellauswahl Produkte Einblicke
Sprachoptionen: English 简体中文 繁體中文 日本語 Français Español Deutsch Português Italiano Русский язык 한국어 العربية Nederlands हिन्दी ภาษาไทย Türkçe Tiếng Việt Bahasa Indonesia
Copyright ©2026 Focus Technology Co., Ltd. Alle Rechte vorbehalten
Focus Technologie ist nicht verantwortlich für Unstimmigkeiten zwischen der englischen Version und anderen Versionen dieser Website. Sollte es zu Wiedersprüchen kommen, wird die englische Version als maßgeblich angesehen.Mit der Nutzung dieser Website stimmen sie unseren AGB’s zu.