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etwa cu Ziel
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cu Ziel300+ Fabriken verifiziert

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Kupfer T2 Rotes Cu Sputterziel Günstiger Preis Herstellung

Kupfer T2 Rotes Cu Sputterziel Günstiger Preis Herstellung

100,00-500,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochwertiges Kupfer T2 Rotes Cu Sputterziel Ni-Bindung

Hochwertiges Kupfer T2 Rotes Cu Sputterziel Ni-Bindung

100,00-500,00 $
1 Kg(MOQ)
Kupfer-Nickel Cu/Ni Multi-PCS Konstruktionslegierung Beschichtungssubstrat

Kupfer-Nickel Cu/Ni Multi-PCS Konstruktionslegierung Beschichtungssubstrat

300,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Kupfer Cu Planar Tubular Sputterziel Wert Preis Fabrik

Hochreines Kupfer Cu Planar Tubular Sputterziel Wert Preis Fabrik

100,00-500,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Fabrikpreis Kupfer Multi-Arc Kupfer Cu Ziel 99.95% für Beschichtung

Fabrikpreis Kupfer Multi-Arc Kupfer Cu Ziel 99.95% für Beschichtung

35,00-40,00 $
1 Stück(MOQ)
Xinkang 4n-6n Metallmaterial Kupferziel PVD Vakuum Cu Kupfersputterziel

Xinkang 4n-6n Metallmaterial Kupferziel PVD Vakuum Cu Kupfersputterziel

45,00-125,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Kupfer/Cu Vakuumbeschichtung Sputter/Sputtering Target

Hochreines Kupfer/Cu Vakuumbeschichtung Sputter/Sputtering Target

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hochwertige Kupfersulfid Cu2s Sputterziele mit gebundenem Platten

Hochwertige Kupfersulfid Cu2s Sputterziele mit gebundenem Platten

150,00-600,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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Chinesische Fabrik Hochreines 6n Kupfer (Cu) 99.9999% Sputterziel

Chinesische Fabrik Hochreines 6n Kupfer (Cu) 99.9999% Sputterziel

89,00-180,00 $
1.000 kilograms(MOQ)
C110/C10100/Tu00 5n Hochreiner Sputterzielkupfer 99.999% für optische Beschichtung

C110/C10100/Tu00 5n Hochreiner Sputterzielkupfer 99.999% für optische Beschichtung

79,99 $
50 Kg(MOQ)
99.9999% 6n Hochreine Metallkupfer-Sputtertargets Trägerplatte

99.9999% 6n Hochreine Metallkupfer-Sputtertargets Trägerplatte

335,00-350,00 $
100 Kg(MOQ)
99.9999% Reine Kupferpellets 6n 3mm Cu-Ofe/C10100 für Vakuumabscheidung &3D Druck

99.9999% Reine Kupferpellets 6n 3mm Cu-Ofe/C10100 für Vakuumabscheidung &3D Druck

45,99-59,99 $
100 kilograms(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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TMAXCN Marke auf Lager 99.99 % Hochreines Kupfer Cu Sputterziel

TMAXCN Marke auf Lager 99.99 % Hochreines Kupfer Cu Sputterziel

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TEM&SEM Handbuch für thermische Verdampfung Verdampfermaschine für Kohlenstoff, Ag, Cu Ablagerung

TEM&SEM Handbuch für thermische Verdampfung Verdampfermaschine für Kohlenstoff, Ag, Cu Ablagerung

6.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Glovebox Automatischer Smart Magnetron-Sputterbeschichter für empfindliche und oxidationsempfindliche Proben von SEM, Batterie, Biologie

Glovebox Automatischer Smart Magnetron-Sputterbeschichter für empfindliche und oxidationsempfindliche Proben von SEM, Batterie, Biologie

5.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Lab Mini Auto PVD-Ionen-Sputterbeschichter für Kohlenstoffbeschichtung

Lab Mini Auto PVD-Ionen-Sputterbeschichter für Kohlenstoffbeschichtung

5.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Cu Kupfer Sputterziel Metall Kupfer Rotationsziel für Magnetron-Sputtern

Cu Kupfer Sputterziel Metall Kupfer Rotationsziel für Magnetron-Sputtern

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.99% Igzo Keramisches Ziel Indium Gallium Zinkoxid Sputterziel

99.99% Igzo Keramisches Ziel Indium Gallium Zinkoxid Sputterziel

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreines 99.99% ITO Indium-Zinn-Oxid Sputterziel für PVD-Beschichtung

Hochreines 99.99% ITO Indium-Zinn-Oxid Sputterziel für PVD-Beschichtung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.99% VSI2 Keramische Ziele Vanadiumdisilizid Sputterziele

99.99% VSI2 Keramische Ziele Vanadiumdisilizid Sputterziele

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Geomaster Group

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Geomaster Premier Prisma-Baugruppe (Prisma, Halter & Ziel) für Vermessungsinstrumente, automatische Niveaus, Theodoliten, Totalstationen, Robotikstationen

Geomaster Premier Prisma-Baugruppe (Prisma, Halter & Ziel) für Vermessungsinstrumente, automatische Niveaus, Theodoliten, Totalstationen, Robotikstationen

25,00 $
50 Stücke(MOQ)
Geomaster Premier Prisma-Baugruppe (Prisma, Halter & Ziel) für Vermessungsinstrumente, automatische Niveaus, Theodoliten, Totalstationen, Robotikstationen

Geomaster Premier Prisma-Baugruppe (Prisma, Halter & Ziel) für Vermessungsinstrumente, automatische Niveaus, Theodoliten, Totalstationen, Robotikstationen

25,00 $
50 Stücke(MOQ)
Geomaster 62mm Schweizer Stil L-Bar Überwachungsprisma mit natürlichem anodisiertem Montageset für Vermessungsinstrumente, Theodoliten

Geomaster 62mm Schweizer Stil L-Bar Überwachungsprisma mit natürlichem anodisiertem Montageset für Vermessungsinstrumente, Theodoliten

50,00 $
50 Stücke(MOQ)
Geomaster 62mm Schweizer Stil L-Bar Überwachungsprisma mit schwarzem eloxiertem Montageset für Vermessungsinstrumente, Theodoliten, reflektorlose Totalstationen

Geomaster 62mm Schweizer Stil L-Bar Überwachungsprisma mit schwarzem eloxiertem Montageset für Vermessungsinstrumente, Theodoliten, reflektorlose Totalstationen

50,00 $
50 Stücke(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 J.
·Handelsunternehmen
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Fabrikpreis Verkauf Ho-Cu Holmium Kupferlegierung Ziel

Fabrikpreis Verkauf Ho-Cu Holmium Kupferlegierung Ziel

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Samarium Metall Zielstab Granulat CAS Nr 7440-19-9 Sm 3n 4n

Samarium Metall Zielstab Granulat CAS Nr 7440-19-9 Sm 3n 4n

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Europium Metall Zielstab Granulat CAS Nr 7440-53-1 EU 3n 4n

Europium Metall Zielstab Granulat CAS Nr 7440-53-1 EU 3n 4n

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Terbium Metall Zielstab Granulat CAS Nr 7440-27-9 Tb 3n 4n

Terbium Metall Zielstab Granulat CAS Nr 7440-27-9 Tb 3n 4n

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Cu-Sputterziel Kupfer Rotationsziel für metallbeschichtete Leiter/ Halbleiter

Cu-Sputterziel Kupfer Rotationsziel für metallbeschichtete Leiter/ Halbleiter

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
In2O3+Cu Keramisches Ziel-Indiumoxid+Kupfer-Keramisches Sputterziel für LCD/Touch-Panel

In2O3+Cu Keramisches Ziel-Indiumoxid+Kupfer-Keramisches Sputterziel für LCD/Touch-Panel

40,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Magnetron-Sputterziel Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Magnetron-Sputterziel Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

500,00 $
1 Stück(MOQ)
99.99% Galliumoxid-Sputterziel Flachziel Ga2o3 Ziel

99.99% Galliumoxid-Sputterziel Flachziel Ga2o3 Ziel

300,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Spritzziel Titan Al Cu Chrom Ni Magnetron-Röhrenrotations-PVD-Beschichtung

Spritzziel Titan Al Cu Chrom Ni Magnetron-Röhrenrotations-PVD-Beschichtung

0,50-10,00 $
10 Stücke(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Hochreines Kupfer-Rückzieltarget-Vakuum-Sputtern

Hochreines Kupfer-Rückzieltarget-Vakuum-Sputtern

2.200,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Hitzebeständigkeit und ausgezeichnete chemische Stabilität Niobium Rundziel

Hitzebeständigkeit und ausgezeichnete chemische Stabilität Niobium Rundziel

19,00 $
5 Stücke(MOQ)
99.9% Nickel-Chrom-Aluminium-Vakuumbeschichtung-Sputterziel für PVD-Prozess Chrom-Tantal-Ziel

99.9% Nickel-Chrom-Aluminium-Vakuumbeschichtung-Sputterziel für PVD-Prozess Chrom-Tantal-Ziel

55,00 $
1 Stück(MOQ)
Farbige Duktilität Wärmebeständigkeit Zirkonium Rundziel

Farbige Duktilität Wärmebeständigkeit Zirkonium Rundziel

15,00 $
5 Stücke(MOQ)
Wettbewerbsfähiger Preis von Vakuumbeschichtungsmaterialien Zirkoniumziel

Wettbewerbsfähiger Preis von Vakuumbeschichtungsmaterialien Zirkoniumziel

10,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Factory Cu Sputtering Target Kupfer Rotary für metallbeschichtete Leiterhalbleiter

Factory Cu Sputtering Target Kupfer Rotary für metallbeschichtete Leiterhalbleiter

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Fabrik PVD Beschichtung Cu Platte Multi Arc Sputtering Target Kupfer Rotary Semiconductor

Fabrik PVD Beschichtung Cu Platte Multi Arc Sputtering Target Kupfer Rotary Semiconductor

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
China Cu High Purity Kupferlegierung Sputtering Ziel für PVD Beschichtung

China Cu High Purity Kupferlegierung Sputtering Ziel für PVD Beschichtung

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreines 99,9995 % Kupfer Cu Sputterziel für Halbleiter Metallbeschichteter Leiter

Hochreines 99,9995 % Kupfer Cu Sputterziel für Halbleiter Metallbeschichteter Leiter

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd.

8 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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W-Cu stationärer Anode für Röntgenröhrenverbrauchsmaterialien

W-Cu stationärer Anode für Röntgenröhrenverbrauchsmaterialien

25,00-40,00 $
30 Stücke(MOQ)
6mm Plasmasprühdüse für F4 Gewehr

6mm Plasmasprühdüse für F4 Gewehr

95,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
F4 Thermische Sprühanoden für Plasma-Spritzpistole

F4 Thermische Sprühanoden für Plasma-Spritzpistole

95,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
F4 Anoden und Kathoden für Plasma-Sprühgeräte

F4 Anoden und Kathoden für Plasma-Sprühgeräte

95,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Drehbares Kupfer-Target Cu Sputtering Target für Kupfer Farbe dünn Film

Drehbares Kupfer-Target Cu Sputtering Target für Kupfer Farbe dünn Film

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Reines Metallkupfer (Cu) Ziel mit 99,9999 % Reinheit, Magnetron Sputterschicht Kupferziel in Partikelform, Ziel Cuinse2

Reines Metallkupfer (Cu) Ziel mit 99,9999 % Reinheit, Magnetron Sputterschicht Kupferziel in Partikelform, Ziel Cuinse2

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Reines Metallkupfer (Cu) Ziel mit 99,9999% Reinheit, Magnetron Sputtering Beschichtung Kupferziel in Partikelform

Reines Metallkupfer (Cu) Ziel mit 99,9999% Reinheit, Magnetron Sputtering Beschichtung Kupferziel in Partikelform

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Rheniumet Ltd.

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3mm Dicke Ruthenium-Zielscheibe, Ru-Sputterziel

3mm Dicke Ruthenium-Zielscheibe, Ru-Sputterziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hochreines 99.99% Re Rhenium-Sputterziel, Re-Metall-Rundziel

Hochreines 99.99% Re Rhenium-Sputterziel, Re-Metall-Rundziel

1.000,00-4.000,00 $
1 Stück(MOQ)
99.95%Min Hochreiner Molybdän-Ziel für die Dünnschichtindustrie, Sputterziel-Hersteller Direktlieferung

99.95%Min Hochreiner Molybdän-Ziel für die Dünnschichtindustrie, Sputterziel-Hersteller Direktlieferung

200,00-500,00 $
1 kilograms(MOQ)
Hochreiner Sputter-Palladium-Sputterziel, PT runder Metallziel

Hochreiner Sputter-Palladium-Sputterziel, PT runder Metallziel

1.000,00-5.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Hochreiner Gadolinium-Sputtertarget für die Elektronikfertigung

Hochreiner Gadolinium-Sputtertarget für die Elektronikfertigung

55,00-85,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Gadolinium-Metall-Sputterziel für PVD-Anwendungen

Hochreines Gadolinium-Metall-Sputterziel für PVD-Anwendungen

55,00-85,00 $
1 Stück(MOQ)
99.9% Reinheit Gadolinium Metallplatte Gd Sputterziel für magnetische Verwendung seltener Erden

99.9% Reinheit Gadolinium Metallplatte Gd Sputterziel für magnetische Verwendung seltener Erden

55,00-85,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Gadolinium-Metallziel für industrielle Anwendungen

Hochreines Gadolinium-Metallziel für industrielle Anwendungen

55,00-85,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 J.·5.0
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Polierter Molybdän-Sputtertarget (99.95% rein)

Polierter Molybdän-Sputtertarget (99.95% rein)

40,00-60,00 $
1 Kg(MOQ)
Molybdänziel für Vakuum-Sputterbeschichtung

Molybdänziel für Vakuum-Sputterbeschichtung

45,00 $
1 kg(MOQ)
Hochreiner Molybdän-Sputtertarget, Moly-Scheibe

Hochreiner Molybdän-Sputtertarget, Moly-Scheibe

40,00 $
1 kg(MOQ)
China Top Hersteller Molybdänblech mit Reinheit von mehr als 99.95%, kaltgewalztem Molyblech

China Top Hersteller Molybdänblech mit Reinheit von mehr als 99.95%, kaltgewalztem Molyblech

30,00 $
1 kg(MOQ)
1/2

Zhuzhou Hongtong Tungsten Carbide Co., Ltd.

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CT-Rotationsanode-Ziel für Röntgenröhrenverbrauchsmaterialien aus Molybdän-Tungsten-Ziel

CT-Rotationsanode-Ziel für Röntgenröhrenverbrauchsmaterialien aus Molybdän-Tungsten-Ziel

65,00-70,00 $
10 Stücke(MOQ)
Stationärer Anodenziel für Röntgenröhre

Stationärer Anodenziel für Röntgenröhre

65,00-70,00 $
10 Stücke(MOQ)
Liefern Sie stationäre Anoden-Zielhalbfabrikate und Fertigprodukte für Röntgenröhrenkomponenten

Liefern Sie stationäre Anoden-Zielhalbfabrikate und Fertigprodukte für Röntgenröhrenkomponenten

65,00-70,00 $
10 Stücke(MOQ)
Fabriklieferung reines 99.95% Tantalmetallbarren

Fabriklieferung reines 99.95% Tantalmetallbarren

350,00-400,00 $
100 Kg(MOQ)
1/4

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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6n Hochreine Cu Kupfer Rotationssputterziele

6n Hochreine Cu Kupfer Rotationssputterziele

200,00-10.000,00 $
1 Stück(MOQ)
3n~6n Hochreines Cu Kupfer-Sputterzielplatte / Cu Kupfermetallziel

3n~6n Hochreines Cu Kupfer-Sputterzielplatte / Cu Kupfermetallziel

200,00-10.000,00 $
1 Stück(MOQ)
6n Hochreines Cu Kupfer-Sputterziel Flachplatte

6n Hochreines Cu Kupfer-Sputterziel Flachplatte

200,00-10.000,00 $
1 Stück(MOQ)
99.99% Reine Kupfergranulate Cu Verdampfungspellets

99.99% Reine Kupfergranulate Cu Verdampfungspellets

200,00-10.000,00 $
1 Kg(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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Hochreines 99.9995% Kupfer Cu Sputterziel für Elektronik Ofhc Kupferziel

Hochreines 99.9995% Kupfer Cu Sputterziel für Elektronik Ofhc Kupferziel

50,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreiner Kupferkessel 99.999% für optimale Wärmeleitfähigkeit

Hochreiner Kupferkessel 99.999% für optimale Wärmeleitfähigkeit

50,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)
Vakuumbeschichtung sauerstofffreies Kupfersputterziel 99.999 Reinheit Kupferzielplatte

Vakuumbeschichtung sauerstofffreies Kupfersputterziel 99.999 Reinheit Kupferzielplatte

50,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)
99.999%High Reines Kupferziel (4N-6N) Kupferplatte Kupfer-Sputterbeschichtung Ziel

99.999%High Reines Kupferziel (4N-6N) Kupferplatte Kupfer-Sputterbeschichtung Ziel

50,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)
1/2

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 4N 99. 99% Hochreines Kupferlegierung Sputterziel für Vakuum/PVD-Beschichtung

ACETRON 4N 99. 99% Hochreines Kupferlegierung Sputterziel für Vakuum/PVD-Beschichtung

99,00-9.999,00 $
1 Stück(MOQ)
ACETRON Hochreine Verdampfungsmaterialien Cu Pellets

ACETRON Hochreine Verdampfungsmaterialien Cu Pellets

10,00-2.999,00 $
1 Kg(MOQ)
ACETRON 3N7 99.97% Hochreines Kupferrohr-Ziel für PVD-Beschichtung

ACETRON 3N7 99.97% Hochreines Kupferrohr-Ziel für PVD-Beschichtung

99,00-99.999,00 $
1 Stück(MOQ)
ACETRON Hochreine Verdampfungsmaterialien Kupferpellets

ACETRON Hochreine Verdampfungsmaterialien Kupferpellets

10,00-2.999,00 $
1 Kg(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 J.
·Hersteller/Werk
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Zwei Waffen Aufwärts Magnetron Sputterbeschichter

Zwei Waffen Aufwärts Magnetron Sputterbeschichter

26.500,00 $
1 Stück(MOQ)
Dreifach 2 Zoll Rotationsziel Vakuum Plasma Beschichter für Cu Film Beschichtung

Dreifach 2 Zoll Rotationsziel Vakuum Plasma Beschichter für Cu Film Beschichtung

8.500,00-9.500,00 $
1 Stück(MOQ)
3 Köpfe Kompakte Desktop 2" Magnetron-Sputterbeschichter

3 Köpfe Kompakte Desktop 2" Magnetron-Sputterbeschichter

28.000,00-28.999,00 $
1 Stück(MOQ)
Dreifach-Rotationsziel-Plasma-Sputterbeschichter für Kupferfilm-Beschichtung

Dreifach-Rotationsziel-Plasma-Sputterbeschichter für Kupferfilm-Beschichtung

9.000,00-9.900,00 $
1 set(MOQ)
1/4

UV Tech Material Co., Ltd.

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Drehbares Kupferziel 99,99% Hochreines Gesprühtes Cu-Ziel

Drehbares Kupferziel 99,99% Hochreines Gesprühtes Cu-Ziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Maßgeschneiderte Hochreine Kupfer Cu Sputterziele

Maßgeschneiderte Hochreine Kupfer Cu Sputterziele

0,01-0,09 $
1 Stück(MOQ)
Planar Copper Sputtering Target CD/DVD-Tintenlacquer

Planar Copper Sputtering Target CD/DVD-Tintenlacquer

0,01-0,09 $
1 Stück(MOQ)
Cu Sputtering Target, Kupfer Target, Hochreines Importiertes Material, Magnetron Sputtering Target

Cu Sputtering Target, Kupfer Target, Hochreines Importiertes Material, Magnetron Sputtering Target

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Kupfer Cu Ebene Sputtering Target

Kupfer Cu Ebene Sputtering Target

10,00 $
10 Stücke(MOQ)
Hochreines Kupferpellets 99,999 % 5N Metall Cu Kupfergranulat Für Verdampfungsmaterialien

Hochreines Kupferpellets 99,999 % 5N Metall Cu Kupfergranulat Für Verdampfungsmaterialien

100,00-200,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochwertiger 6MHz Sensor Gold Cr/Au Alloy Quarz Monitor Kristall Herstellung

Hochwertiger 6MHz Sensor Gold Cr/Au Alloy Quarz Monitor Kristall Herstellung

0,80-1,00 $
100 Stücke(MOQ)
Hohe Reinheit Cu Kupfer Liner Kupfer Tiegel Herstellung China

Hohe Reinheit Cu Kupfer Liner Kupfer Tiegel Herstellung China

5,00-50,00 $
10 Stücke(MOQ)

Hebei Zhongyi Import and Export Co., Ltd.

2 J.
·Handelsunternehmen
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Hochreines Wolframdisulfid Ws2 Keramisches Sputterziel für Beschichtungsanwendungen

Hochreines Wolframdisulfid Ws2 Keramisches Sputterziel für Beschichtungsanwendungen

9,00-12,00 $
10 Kg(MOQ)
Reines Wolframdisulfid Ws2 Keramikbeschichtungs-Sputterziel für hochwertige Beschichtungen

Reines Wolframdisulfid Ws2 Keramikbeschichtungs-Sputterziel für hochwertige Beschichtungen

9,00-12,00 $
10 Kg(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

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Wti-Ziel / Sputterziele / Hochwertiges Wti

Wti-Ziel / Sputterziele / Hochwertiges Wti

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Hochreines Zr702 Zr705 Zirkonium-Ziel Wärmeleitfähigkeit Sputterziel

Hochreines Zr702 Zr705 Zirkonium-Ziel Wärmeleitfähigkeit Sputterziel

0,05-100,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4
112
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