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etwa cu Ziel
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cu Ziel300+ Fabriken verifiziert

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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99.99% Reinheit 4n Kupfer-Nickel Cu Ni Legierung Sputterziel PVD-Beschichtung

99.99% Reinheit 4n Kupfer-Nickel Cu Ni Legierung Sputterziel PVD-Beschichtung

300,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Cu/Ni Legierung Sputterziel Angepasst China Fabrik

Hochreines Cu/Ni Legierung Sputterziel Angepasst China Fabrik

300,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Kupfer T2 Rotes Cu Sputterziel Günstiger Preis Herstellung

Kupfer T2 Rotes Cu Sputterziel Günstiger Preis Herstellung

100,00-500,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochwertiges Kupfer T2 Rotes Cu Sputterziel Ni-Bindung

Hochwertiges Kupfer T2 Rotes Cu Sputterziel Ni-Bindung

100,00-500,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Xinkang 4n-6n Metallmaterial Kupferziel PVD Vakuum Cu Kupfersputterziel

Xinkang 4n-6n Metallmaterial Kupferziel PVD Vakuum Cu Kupfersputterziel

45,00-125,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikpreis Kupfer Multi-Arc Kupfer Cu Ziel 99.95% für Beschichtung

Fabrikpreis Kupfer Multi-Arc Kupfer Cu Ziel 99.95% für Beschichtung

35,00-40,00 $
1 Stück(MOQ)
Metall Kupfer T2 Rotes Cu Sputterziel Kupfer Planar Rundziel

Metall Kupfer T2 Rotes Cu Sputterziel Kupfer Planar Rundziel

50,00-125,00 $
1 Stück(MOQ)
Keramischer Si3n4 Sputterziel mit Cu-Bindung

Keramischer Si3n4 Sputterziel mit Cu-Bindung

30,00-700,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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Chinesische Fabrik Hochreines 6n Kupfer (Cu) 99.9999% Sputterziel

Chinesische Fabrik Hochreines 6n Kupfer (Cu) 99.9999% Sputterziel

89,00-180,00 $
1.000 kilograms(MOQ)
C110/C10100/Tu00 5n Hochreiner Sputterzielkupfer 99.999% für optische Beschichtung

C110/C10100/Tu00 5n Hochreiner Sputterzielkupfer 99.999% für optische Beschichtung

79,99 $
50 Kg(MOQ)
99.9999% 6n Hochreine Metallkupfer-Sputtertargets Trägerplatte

99.9999% 6n Hochreine Metallkupfer-Sputtertargets Trägerplatte

335,00-350,00 $
100 Kg(MOQ)
99.9999% Reine Kupferpellets 6n 3mm Cu-Ofe/C10100 für Vakuumabscheidung &3D Druck

99.9999% Reine Kupferpellets 6n 3mm Cu-Ofe/C10100 für Vakuumabscheidung &3D Druck

45,99-59,99 $
100 kilograms(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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TMAXCN Marke auf Lager 99.99 % Hochreines Kupfer Cu Sputterziel

TMAXCN Marke auf Lager 99.99 % Hochreines Kupfer Cu Sputterziel

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TEM&SEM Handbuch für thermische Verdampfung Verdampfermaschine für Kohlenstoff, Ag, Cu Ablagerung

TEM&SEM Handbuch für thermische Verdampfung Verdampfermaschine für Kohlenstoff, Ag, Cu Ablagerung

6.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Handschuhkasten 4-Target Multi-Modus Metall PVD-Sputter-Abscheidungsanlage für Forschung und Entwicklung

Handschuhkasten 4-Target Multi-Modus Metall PVD-Sputter-Abscheidungsanlage für Forschung und Entwicklung

50.000,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke- VTC-3RF DC Magnetron Sputtering Option 3 Köpfe 1" RF Plasma Magnetron Sputtering Beschichtungsmaschine

TMAXCN Marke- VTC-3RF DC Magnetron Sputtering Option 3 Köpfe 1" RF Plasma Magnetron Sputtering Beschichtungsmaschine

12.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Cu Kupfer Sputterziel Metall Kupfer Rotationsziel für Magnetron-Sputtern

Cu Kupfer Sputterziel Metall Kupfer Rotationsziel für Magnetron-Sputtern

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.99% Cr3c2 Ziele für Chromkarbid-Keramik-Sputterziele

99.99% Cr3c2 Ziele für Chromkarbid-Keramik-Sputterziele

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.99% Wsi2 Keramische Ziele Wolframdisilizid Sputterziele

99.99% Wsi2 Keramische Ziele Wolframdisilizid Sputterziele

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Nbc zielt auf Niobiumkarbid-Keramiksputtertargets ab

Nbc zielt auf Niobiumkarbid-Keramiksputtertargets ab

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Geomaster Group

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Geomaster Premier Prisma-Baugruppe (Prisma, Halter & Ziel) für Vermessungsinstrumente, automatische Niveaus, Theodoliten, Totalstationen, Robotikstationen

Geomaster Premier Prisma-Baugruppe (Prisma, Halter & Ziel) für Vermessungsinstrumente, automatische Niveaus, Theodoliten, Totalstationen, Robotikstationen

25,00 $
50 Stücke(MOQ)
Geomaster Premier Prisma-Baugruppe (Prisma, Halter & Ziel) für Vermessungsinstrumente, automatische Niveaus, Theodoliten, Totalstationen, Robotikstationen

Geomaster Premier Prisma-Baugruppe (Prisma, Halter & Ziel) für Vermessungsinstrumente, automatische Niveaus, Theodoliten, Totalstationen, Robotikstationen

25,00 $
50 Stücke(MOQ)
Geomaster 64mm Kupferbeschichtetes Prisma mit schwarzem Halter für Theodoliten, Totalstationen, Robotikstationen, Scanstationen, Multistationen

Geomaster 64mm Kupferbeschichtetes Prisma mit schwarzem Halter für Theodoliten, Totalstationen, Robotikstationen, Scanstationen, Multistationen

45,00 $
50 Stücke(MOQ)
Geomaster Kupferbeschichtete Wasserfeste L-Stange (3"×3") Überwachungs-Mini-Prisma (38.1mm) für Vermessungsinstrumente Scanstationen, Multistationen, Laser-Tracker,

Geomaster Kupferbeschichtete Wasserfeste L-Stange (3"×3") Überwachungs-Mini-Prisma (38.1mm) für Vermessungsinstrumente Scanstationen, Multistationen, Laser-Tracker,

17,35 $
50 Stücke(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 J.
·Handelsunternehmen
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Fabrikpreis Verkauf Ho-Cu Holmium Kupferlegierung Ziel

Fabrikpreis Verkauf Ho-Cu Holmium Kupferlegierung Ziel

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Praseodym Metall Zielstab Granulat CAS Nr 7440-10-0 Pr 2n5 3n

Praseodym Metall Zielstab Granulat CAS Nr 7440-10-0 Pr 2n5 3n

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Terbium Metall Zielstab Granulat CAS Nr 7440-27-9 Tb 3n 4n

Terbium Metall Zielstab Granulat CAS Nr 7440-27-9 Tb 3n 4n

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Lutetium Metall Zielstab granular mit CAS-Nr. 7439-94-3 Lu 3n 4n

Lutetium Metall Zielstab granular mit CAS-Nr. 7439-94-3 Lu 3n 4n

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Cu-Sputterziel Kupfer Rotationsziel für metallbeschichtete Leiter/ Halbleiter

Cu-Sputterziel Kupfer Rotationsziel für metallbeschichtete Leiter/ Halbleiter

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
In2O3+Cu Keramisches Ziel-Indiumoxid+Kupfer-Keramisches Sputterziel für LCD/Touch-Panel

In2O3+Cu Keramisches Ziel-Indiumoxid+Kupfer-Keramisches Sputterziel für LCD/Touch-Panel

40,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Magnetron-Sputterziel Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Magnetron-Sputterziel Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

500,00 $
1 Stück(MOQ)
99.99% Galliumoxid-Sputterziel Flachziel Ga2o3 Ziel

99.99% Galliumoxid-Sputterziel Flachziel Ga2o3 Ziel

300,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Spritzziel Titan Al Cu Chrom Ni Magnetron-Röhrenrotations-PVD-Beschichtung

Spritzziel Titan Al Cu Chrom Ni Magnetron-Röhrenrotations-PVD-Beschichtung

0,50-10,00 $
10 Stücke(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Hochreines Kupfer-Rückzieltarget-Vakuum-Sputtern

Hochreines Kupfer-Rückzieltarget-Vakuum-Sputtern

2.200,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Hitzebeständigkeit und ausgezeichnete chemische Stabilität Niobium Rundziel

Hitzebeständigkeit und ausgezeichnete chemische Stabilität Niobium Rundziel

19,00 $
5 Stücke(MOQ)
99.9% Nickel-Chrom-Aluminium-Vakuumbeschichtung-Sputterziel für PVD-Prozess Chrom-Tantal-Ziel

99.9% Nickel-Chrom-Aluminium-Vakuumbeschichtung-Sputterziel für PVD-Prozess Chrom-Tantal-Ziel

55,00 $
1 Stück(MOQ)
Ausgezeichnete chemische Stabilität und Duktilität Titan Rundziel

Ausgezeichnete chemische Stabilität und Duktilität Titan Rundziel

10,00 $
1 pcs(MOQ)
Hitzebeständigkeit, Festigkeit und Zähigkeit Titan Rundziel

Hitzebeständigkeit, Festigkeit und Zähigkeit Titan Rundziel

10,00 $
5 Stücke(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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China Cu High Purity Kupferlegierung Sputtering Ziel für PVD Beschichtung

China Cu High Purity Kupferlegierung Sputtering Ziel für PVD Beschichtung

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Fabrik PVD Beschichtung Cu Platte Multi Arc Sputtering Target Kupfer Rotary Semiconductor

Fabrik PVD Beschichtung Cu Platte Multi Arc Sputtering Target Kupfer Rotary Semiconductor

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreines 99,9995 % Kupfer Cu Sputterziel für Halbleiter Metallbeschichteter Leiter

Hochreines 99,9995 % Kupfer Cu Sputterziel für Halbleiter Metallbeschichteter Leiter

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Factory Cu Sputtering Target Kupfer Rotary für metallbeschichtete Leiterhalbleiter

Factory Cu Sputtering Target Kupfer Rotary für metallbeschichtete Leiterhalbleiter

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd.

8 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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W-Cu stationärer Anode für Röntgenröhrenverbrauchsmaterialien

W-Cu stationärer Anode für Röntgenröhrenverbrauchsmaterialien

25,00-40,00 $
30 Stücke(MOQ)
6mm Plasmasprühdüse für F4 Gewehr

6mm Plasmasprühdüse für F4 Gewehr

95,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Drehbares Kupfer-Target Cu Sputtering Target für Kupfer Farbe dünn Film

Drehbares Kupfer-Target Cu Sputtering Target für Kupfer Farbe dünn Film

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Reines Metallkupfer (Cu) Ziel mit 99,9999% Reinheit, Magnetron Sputtering Beschichtung Kupferziel in Partikelform

Reines Metallkupfer (Cu) Ziel mit 99,9999% Reinheit, Magnetron Sputtering Beschichtung Kupferziel in Partikelform

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Reines Metallkupfer (Cu) Ziel mit 99,9999 % Reinheit, Magnetron Sputterschicht Kupferziel in Partikelform, Ziel Cuinse2

Reines Metallkupfer (Cu) Ziel mit 99,9999 % Reinheit, Magnetron Sputterschicht Kupferziel in Partikelform, Ziel Cuinse2

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Rheniumet Ltd.

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3mm Dicke Ruthenium-Zielscheibe, Ru-Sputterziel

3mm Dicke Ruthenium-Zielscheibe, Ru-Sputterziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hochreines 99.99% Re Rhenium-Sputterziel, Re-Metall-Rundziel

Hochreines 99.99% Re Rhenium-Sputterziel, Re-Metall-Rundziel

1.000,00-4.000,00 $
1 Stück(MOQ)
99.99% Runde Rhenium Re Beschichtungsscheibe für die Dünnschichtindustrie aus China

99.99% Runde Rhenium Re Beschichtungsscheibe für die Dünnschichtindustrie aus China

200,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreiner Rhenium-Ziel in der Dünnschichtabscheidung

Hochreiner Rhenium-Ziel in der Dünnschichtabscheidung

1.000,00-4.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Luoyang Modi Tungsten & Molybdenum Material Co., Ltd.

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Ta-Mo Alloy Plate Tantalum Molybdenum Sputtering Target

Ta-Mo Alloy Plate Tantalum Molybdenum Sputtering Target

57,00-72,00 $
1 Kg(MOQ)
99.95% Mo1 Molybdenum Round Sputtering Target From Luoyang Factory

99.95% Mo1 Molybdenum Round Sputtering Target From Luoyang Factory

57,00-72,00 $
1 Kg(MOQ)
99.95% Molybdenum Round Metal Sputtering Target

99.95% Molybdenum Round Metal Sputtering Target

57,00-72,00 $
1 Kg(MOQ)
Pure Molybdenum, Tzm, Mola Alloy Molybdenum Sheet/Plate Target

Pure Molybdenum, Tzm, Mola Alloy Molybdenum Sheet/Plate Target

57,00-72,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Premium Hochrein Gadolinium Metallziel für industrielle Anwendungen

Premium Hochrein Gadolinium Metallziel für industrielle Anwendungen

55,00-85,00 $
1 Stück(MOQ)
Fortgeschrittenes Gadolinium-Zielmaterial für verbesserte Beschichtungslösungen

Fortgeschrittenes Gadolinium-Zielmaterial für verbesserte Beschichtungslösungen

55,00-85,00 $
1 Stück(MOQ)
Anpassbare dicke Premium-Gadolinium-Metallziele zu verkaufen

Anpassbare dicke Premium-Gadolinium-Metallziele zu verkaufen

55,00-85,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreiner 99.9% Gadolinium-Sputtertarget für maßgeschneiderte Anwendungen

Hochreiner 99.9% Gadolinium-Sputtertarget für maßgeschneiderte Anwendungen

55,00-85,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 J.·5.0
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Molybdänziel für Vakuum-Sputterbeschichtung

Molybdänziel für Vakuum-Sputterbeschichtung

45,00 $
1 kg(MOQ)
Polierter Molybdän-Sputtertarget (99.95% rein)

Polierter Molybdän-Sputtertarget (99.95% rein)

40,00-60,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreiner Molybdän-Sputtertarget, Moly-Scheibe

Hochreiner Molybdän-Sputtertarget, Moly-Scheibe

40,00 $
1 kg(MOQ)
1mm Dicke Molybdänplatte, hochreine Molybdänplatte

1mm Dicke Molybdänplatte, hochreine Molybdänplatte

30,00 $
1 kg(MOQ)
1/2

Zhuzhou Hongtong Tungsten Carbide Co., Ltd.

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CT-Rotationsanode-Ziel für Röntgenröhrenverbrauchsmaterialien aus Molybdän-Tungsten-Ziel

CT-Rotationsanode-Ziel für Röntgenröhrenverbrauchsmaterialien aus Molybdän-Tungsten-Ziel

65,00-70,00 $
10 Stücke(MOQ)
Stationärer Anodenziel für Röntgenröhre

Stationärer Anodenziel für Röntgenröhre

65,00-70,00 $
10 Stücke(MOQ)
Liefern Sie stationäre Anoden-Zielhalbfabrikate und Fertigprodukte für Röntgenröhrenkomponenten

Liefern Sie stationäre Anoden-Zielhalbfabrikate und Fertigprodukte für Röntgenröhrenkomponenten

65,00-70,00 $
10 Stücke(MOQ)
Fabriklieferung reines 99.95% Tantalmetallbarren

Fabriklieferung reines 99.95% Tantalmetallbarren

350,00-400,00 $
100 Kg(MOQ)
1/4

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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6n Hochreine Cu Kupfer Rotationssputterziele

6n Hochreine Cu Kupfer Rotationssputterziele

200,00-10.000,00 $
1 Stück(MOQ)
3n~6n Hochreines Cu Kupfer-Sputterzielplatte / Cu Kupfermetallziel

3n~6n Hochreines Cu Kupfer-Sputterzielplatte / Cu Kupfermetallziel

200,00-10.000,00 $
1 Stück(MOQ)
6n Hochreines Cu Kupfer-Sputterziel Flachplatte

6n Hochreines Cu Kupfer-Sputterziel Flachplatte

200,00-10.000,00 $
1 Stück(MOQ)
99.99% Reine Kupfergranulate Cu Verdampfungspellets

99.99% Reine Kupfergranulate Cu Verdampfungspellets

200,00-10.000,00 $
1 Kg(MOQ)

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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Hochreines 99.9995% Kupfer Cu Sputterziel für Elektronik Ofhc Kupferziel

Hochreines 99.9995% Kupfer Cu Sputterziel für Elektronik Ofhc Kupferziel

50,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)
99.999%High Reines Kupferziel (4N-6N) Kupferplatte Kupfer-Sputterbeschichtung Ziel

99.999%High Reines Kupferziel (4N-6N) Kupferplatte Kupfer-Sputterbeschichtung Ziel

50,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreiner Kupferkessel 99.999% für optimale Wärmeleitfähigkeit

Hochreiner Kupferkessel 99.999% für optimale Wärmeleitfähigkeit

50,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)
Vakuumbeschichtung sauerstofffreies Kupfersputterziel 99.999 Reinheit Kupferzielplatte

Vakuumbeschichtung sauerstofffreies Kupfersputterziel 99.999 Reinheit Kupferzielplatte

50,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)
1/2

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 4N 99. 99% Hochreines Kupferlegierung Sputterziel für Vakuum/PVD-Beschichtung

ACETRON 4N 99. 99% Hochreines Kupferlegierung Sputterziel für Vakuum/PVD-Beschichtung

99,00-9.999,00 $
1 Stück(MOQ)
ACETRON Hochreine Kupfergranulate Verdampfungsmaterial Sputterziel

ACETRON Hochreine Kupfergranulate Verdampfungsmaterial Sputterziel

10,00-2.999,00 $
1 Kg(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Hochreines Kupfer/Kupferrohr-Ziel für PVD-Beschichtung

ACETRON 4N 99.99% Hochreines Kupfer/Kupferrohr-Ziel für PVD-Beschichtung

99,00-99.999,00 $
1 Stück(MOQ)
ACETRON 5N 99.999% Hochreines Kupfer Rotierendes Ziel für PVD-Beschichtung

ACETRON 5N 99.999% Hochreines Kupfer Rotierendes Ziel für PVD-Beschichtung

99,00-99.999,00 $
1 Stück(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 J.
·Hersteller/Werk
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Zwei Waffen Aufwärts Magnetron Sputterbeschichter

Zwei Waffen Aufwärts Magnetron Sputterbeschichter

26.500,00 $
1 Stück(MOQ)
Dreifach 2 Zoll Rotationsziel Vakuum Plasma Beschichter für Cu Film Beschichtung

Dreifach 2 Zoll Rotationsziel Vakuum Plasma Beschichter für Cu Film Beschichtung

8.500,00-9.500,00 $
1 Stück(MOQ)
3 Köpfe Kompakte Desktop 2" Magnetron-Sputterbeschichter

3 Köpfe Kompakte Desktop 2" Magnetron-Sputterbeschichter

28.000,00-28.999,00 $
1 Stück(MOQ)
2 Zoll Ziel PVD Plasma Sputterbeschichter für Au, Ag, Cu Dünnfilmforschung

2 Zoll Ziel PVD Plasma Sputterbeschichter für Au, Ag, Cu Dünnfilmforschung

4.000,00-5.000,00 $
1 set(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Kupfer Cu Ebene Sputtering Target

Kupfer Cu Ebene Sputtering Target

10,00 $
10 Stücke(MOQ)
OFC Kupfer Cu Granule Herstellung China hohe Reinheit 99,999% 5N

OFC Kupfer Cu Granule Herstellung China hohe Reinheit 99,999% 5N

100,00-200,00 $
1 Kg(MOQ)
Kupfer Nickel CuNi Legierung Sputtering Target Fabrik China

Kupfer Nickel CuNi Legierung Sputtering Target Fabrik China

10,00 $
10 Stücke(MOQ)
Hohe Reinheit Cu Kupfer Liner Kupfer Tiegel Herstellung China

Hohe Reinheit Cu Kupfer Liner Kupfer Tiegel Herstellung China

5,00-50,00 $
10 Stücke(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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Drehbares Kupferziel 99,99% Hochreines Gesprühtes Cu-Ziel

Drehbares Kupferziel 99,99% Hochreines Gesprühtes Cu-Ziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Cu Sputtering Target, Kupfer Target, Hochreines Importiertes Material, Magnetron Sputtering Target

Cu Sputtering Target, Kupfer Target, Hochreines Importiertes Material, Magnetron Sputtering Target

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Maßgeschneiderte Hochreine Kupfer Cu Sputterziele

Maßgeschneiderte Hochreine Kupfer Cu Sputterziele

0,01-0,09 $
1 Stück(MOQ)
Planar Copper Sputtering Target CD/DVD-Tintenlacquer

Planar Copper Sputtering Target CD/DVD-Tintenlacquer

0,01-0,09 $
1 Stück(MOQ)

Hebei Zhongyi Import and Export Co., Ltd.

3 J.
·Handelsunternehmen
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Reines Wolframdisulfid Ws2 Keramikbeschichtungs-Sputterziel für hochwertige Beschichtungen

Reines Wolframdisulfid Ws2 Keramikbeschichtungs-Sputterziel für hochwertige Beschichtungen

9,00-12,00 $
10 Kg(MOQ)
Hochreines Wolframdisulfid Ws2 Keramisches Sputterziel für Beschichtungsanwendungen

Hochreines Wolframdisulfid Ws2 Keramisches Sputterziel für Beschichtungsanwendungen

9,00-12,00 $
10 Kg(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

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Wti-Ziel / Sputterziele / Hochwertiges Wti

Wti-Ziel / Sputterziele / Hochwertiges Wti

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4
113
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