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etwa Nickel-Sputterziel
  • Technologische Innovation
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Nickel-Sputterziel60+ Fabriken verifiziert

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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CuNiTi Legierung Ziel Kupfer Nickel Titan Legierung Sputterziel für LCD/Touchpanel

CuNiTi Legierung Ziel Kupfer Nickel Titan Legierung Sputterziel für LCD/Touchpanel

50,00 $
1 Kg(MOQ)
NiV Legierung Ziel Nickel Vanadium Legierung Sputterziel für LCD/Halbleiter

NiV Legierung Ziel Nickel Vanadium Legierung Sputterziel für LCD/Halbleiter

100,00 $
1 Kg(MOQ)
Ni Target Nickel Sputterziel für Halbleiter

Ni Target Nickel Sputterziel für Halbleiter

100,00-130,00 $
1 Kg(MOQ)
NiCr Legierungsziel Chrom Nickel Legierung Sputterziel für LCD/Integrierte Schaltungen

NiCr Legierungsziel Chrom Nickel Legierung Sputterziel für LCD/Integrierte Schaltungen

35,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Xinkang Hochreine Nickellegierungsziele Nickel Vanadium Niv7% Sputterziele

Xinkang Hochreine Nickellegierungsziele Nickel Vanadium Niv7% Sputterziele

35,00-40,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochwertiges Nickel-Chrom-Legierungs-Sputterziel für Beschichtungen

Hochwertiges Nickel-Chrom-Legierungs-Sputterziel für Beschichtungen

35,00-40,00 $
1 Stück(MOQ)
Nife PVD Ziel 3n5 Nickellegierung Sputterziel Nickel-Eisen-Legierungsziel

Nife PVD Ziel 3n5 Nickellegierung Sputterziel Nickel-Eisen-Legierungsziel

45,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
99.95% Reines Magnetron-Nickel-Vanadium-Sputterziel

99.95% Reines Magnetron-Nickel-Vanadium-Sputterziel

30,00-999,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Nickel-Sputterziel günstiger Preis Herstellung

Nickel-Sputterziel günstiger Preis Herstellung

300,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Ni/Cr Nickel-Chrom-Legierungsplanarer röhrenförmiger Sputterziel

Hochreines Ni/Cr Nickel-Chrom-Legierungsplanarer röhrenförmiger Sputterziel

80,00-800,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochwertige Nickel-Sputterziele Ni-Bindung

Hochwertige Nickel-Sputterziele Ni-Bindung

300,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Kupfer-Nickel Cu/Ni Multi-PCS Konstruktionslegierung Beschichtungssubstrat

Kupfer-Nickel Cu/Ni Multi-PCS Konstruktionslegierung Beschichtungssubstrat

300,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 J.·5.0
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Msgp maßgeschneiderte Nickel-Sputterziele - Ideal für Anwendungen der Dünnfilmabscheidung

Msgp maßgeschneiderte Nickel-Sputterziele - Ideal für Anwendungen der Dünnfilmabscheidung

100,00-120,00 $
50 kilograms(MOQ)
Präzisionsnickel-Sputterziele für präzise Instrumentenleitungsfilme

Präzisionsnickel-Sputterziele für präzise Instrumentenleitungsfilme

110,00-130,00 $
50 kilograms(MOQ)
Msgp Reine Nickel Planar Sputterziele für die Sensorherstellung Kern Garantie

Msgp Reine Nickel Planar Sputterziele für die Sensorherstellung Kern Garantie

160,00-200,00 $
50 kilograms(MOQ)
Hochreine Nickel-Röhren-Sputtertargets - Anpassbar für PV-Solarzellen

Hochreine Nickel-Röhren-Sputtertargets - Anpassbar für PV-Solarzellen

200,00-220,00 $
50 kilograms(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 J.
·Handelsunternehmen
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Wolfram Nickel Chrom Sputterziel

Wolfram Nickel Chrom Sputterziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
W-Ni-Cr/W-Ni/Ni-Cr Beschichtungssputterziel Wolfram Nickel Chrom Legierung Ziel

W-Ni-Cr/W-Ni/Ni-Cr Beschichtungssputterziel Wolfram Nickel Chrom Legierung Ziel

2.000,00-3.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Quadratisches oder rechteckiges Wolfram-Nickel-Legierung-Sputterziel

Quadratisches oder rechteckiges Wolfram-Nickel-Legierung-Sputterziel

500,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Wolfram-Nickel-Chrom-Wolfram-Nickel-Nickel-Chrom-Sputterziel für die Dünnschichtindustrie

Hochreines Wolfram-Nickel-Chrom-Wolfram-Nickel-Nickel-Chrom-Sputterziel für die Dünnschichtindustrie

2.000,00-3.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Hochreine Nickellegierungsziele Niv Nickel Vanadium Sputterziel

Hochreine Nickellegierungsziele Niv Nickel Vanadium Sputterziel

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
3n, 4n, 5n Ni3c Ziel Nickelkarbid Keramische Sputterziele

3n, 4n, 5n Ni3c Ziel Nickelkarbid Keramische Sputterziele

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.99% Reines Nife Nickel-Eisen-Legierung-Sputterziel für fortschrittliche PVD-Prozesse

99.99% Reines Nife Nickel-Eisen-Legierung-Sputterziel für fortschrittliche PVD-Prozesse

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.9% Alni Legierungsziele Aluminium Nickel Sputterziele

99.9% Alni Legierungsziele Aluminium Nickel Sputterziele

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Hochreiner Magnetron-Sputter-Nickelziel

Hochreiner Magnetron-Sputter-Nickelziel

800,00 $
1 Stück(MOQ)
Nickel Ziel 99.99 Hochreines Sputterplattenziel

Nickel Ziel 99.99 Hochreines Sputterplattenziel

1.500,00 $
1 Stück(MOQ)
Ni-Fe Legierung Hochreines Nickel-Eisen Beschichtungssubstrat

Ni-Fe Legierung Hochreines Nickel-Eisen Beschichtungssubstrat

6.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreine Nickel-Vakuumverdampfte Partikel

Hochreine Nickel-Vakuumverdampfte Partikel

350,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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TMAXCN Marke Hochrein 99.95% Eisen-Nickel Fe-Ni Sputterziel für metallische Dünnfilm-Beschichtung

TMAXCN Marke Hochrein 99.95% Eisen-Nickel Fe-Ni Sputterziel für metallische Dünnfilm-Beschichtung

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke Hochreines 99.99% Nickel Ni Sputterziel für Metall-Dünnfilm-Beschichtung

TMAXCN Marke Hochreines 99.99% Nickel Ni Sputterziel für Metall-Dünnfilm-Beschichtung

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke VTC-16-3HD-LD 3 Rotationsziel-Plasma-Sputterbeschichtungsmaschine einschließlich 3 Zielen

TMAXCN Marke VTC-16-3HD-LD 3 Rotationsziel-Plasma-Sputterbeschichtungsmaschine einschließlich 3 Zielen

8.000,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke VTC-16-PW DC Magnetron-Sputter- und Vibrationsbühne kompakte Pulver-PVD-Beschichtungsmaschine

TMAXCN Marke VTC-16-PW DC Magnetron-Sputter- und Vibrationsbühne kompakte Pulver-PVD-Beschichtungsmaschine

6.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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99.9% Nickel-Chrom-Aluminium-Vakuumbeschichtung-Sputterziel für PVD-Prozess Chrom-Tantal-Ziel

99.9% Nickel-Chrom-Aluminium-Vakuumbeschichtung-Sputterziel für PVD-Prozess Chrom-Tantal-Ziel

55,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochwertiges Nickelrundziel für Sputterziele

Hochwertiges Nickelrundziel für Sputterziele

10,00 $
1 pcs(MOQ)
Neue metallische Glanz Nickel Stärke runder Zielscheibe

Neue metallische Glanz Nickel Stärke runder Zielscheibe

12,00 $
5 Stücke(MOQ)
Nahtloses Hochwertiges Titan-Aluminium-Rohrziel für die petrochemische Technik

Nahtloses Hochwertiges Titan-Aluminium-Rohrziel für die petrochemische Technik

50,00 $
3 Stücke(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Hochreines Nickel-Kobalt-Yttrium-Sputterziel für fortschrittliche optische Beschichtungen

Hochreines Nickel-Kobalt-Yttrium-Sputterziel für fortschrittliche optische Beschichtungen

115,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)
Premium Rund Seltene Erden Optische Beschichtung Metall Ziel für Präzisionsanwendungen

Premium Rund Seltene Erden Optische Beschichtung Metall Ziel für Präzisionsanwendungen

115,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Lanthanmetallziel für fortschrittliche Sputtertechniken

Hochreines Lanthanmetallziel für fortschrittliche Sputtertechniken

150,00-350,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Yttrium-Metallziel für fortschrittliche Datenspeicherung

Hochreines Yttrium-Metallziel für fortschrittliche Datenspeicherung

115,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 J.
·Handelsunternehmen
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Hochreines Gr1 Gr2 Titan-Sputterziel für PVD

Hochreines Gr1 Gr2 Titan-Sputterziel für PVD

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines 99.6% PVD M86 Titanziel Od 98X40mm Ti Ziel Titan

Hochreines 99.6% PVD M86 Titanziel Od 98X40mm Ti Ziel Titan

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
Titan-Aluminium-Legierung PVD-Ziele Titan-Sputterziele Tial-Legierungsziel für Beschichtungen

Titan-Aluminium-Legierung PVD-Ziele Titan-Sputterziele Tial-Legierungsziel für Beschichtungen

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
Preis für maßgeschneiderte PVD-Titan-Sputterziele

Preis für maßgeschneiderte PVD-Titan-Sputterziele

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shandong Quansheng Material Technology Group Co., LTD

3 J.
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Premium Wolfram-Sputterziele für Vakuumbeschichtungsprozesse

Premium Wolfram-Sputterziele für Vakuumbeschichtungsprozesse

56,00-61,00 $
5 Kg(MOQ)
Nbti47 Niob-Titan-Legierungs-Industriestangen 76.2mm

Nbti47 Niob-Titan-Legierungs-Industriestangen 76.2mm

101,00-186,00 $
5 Kg(MOQ)
Industrielle Niobiumstange Nb1nb2 2000℃ Hochtemperaturbeständig Fabrikdirekt Anpassbar

Industrielle Niobiumstange Nb1nb2 2000℃ Hochtemperaturbeständig Fabrikdirekt Anpassbar

101,00-186,00 $
1 Kg(MOQ)
Bester Preis 99.95% Hohe Qualität R04210 Niobiumstab/-stange

Bester Preis 99.95% Hohe Qualität R04210 Niobiumstab/-stange

300,00-450,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Hochreines Nickel-Beschichtungsmaterial Drehmagnetron Sputtering Target

Hochreines Nickel-Beschichtungsmaterial Drehmagnetron Sputtering Target

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
99,999% Titanium Target Ti Target für PVD-Beschichtungsmaschine

99,999% Titanium Target Ti Target für PVD-Beschichtungsmaschine

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Titan Sputtering Target Titanium Platte für Farbbeschichtung Uhr elektronisch Komponenten

Titan Sputtering Target Titanium Platte für Farbbeschichtung Uhr elektronisch Komponenten

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Großhandel von hochreinen PVD-Fabrik für flache Kupfer-Zielmaterialien

Großhandel von hochreinen PVD-Fabrik für flache Kupfer-Zielmaterialien

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 J.
·Hersteller/Werk
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Fabrikpreis Magnetron-Sputterbeschichter für Metall und Nickel-Chrom

Fabrikpreis Magnetron-Sputterbeschichter für Metall und Nickel-Chrom

19.000,00-23.000,00 $
1 Stück(MOQ)
4-Inch Magnetron Ziel Einzelziel DC Magnetron Sputterbeschichter für Oxidfilm

4-Inch Magnetron Ziel Einzelziel DC Magnetron Sputterbeschichter für Oxidfilm

32.000,00-34.000,00 $
1 set(MOQ)
Neues Design Hochvakuum-Wickelthermische Verdampfungsbeschichtungsinstrument für Filmproben

Neues Design Hochvakuum-Wickelthermische Verdampfungsbeschichtungsinstrument für Filmproben

52.000,00-54.200,00 $
1 set(MOQ)
Lab Nickel-Chrom-Beschichtungsgerät Magnetron-Sputterbeschichter mit Gleichstromversorgung

Lab Nickel-Chrom-Beschichtungsgerät Magnetron-Sputterbeschichter mit Gleichstromversorgung

16.000,00-17.500,00 $
1 set(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Aluminium Titan Alti Beschichtungsstarget, Titan Aluminium Tial Beschichtungsstarget

Aluminium Titan Alti Beschichtungsstarget, Titan Aluminium Tial Beschichtungsstarget

3.380,00 $
1 Ton(MOQ)
Aluminium Titan Alloy/50 Sputterziel für PVD-Beschichtungsmaschine

Aluminium Titan Alloy/50 Sputterziel für PVD-Beschichtungsmaschine

3.380,00 $
1 Ton(MOQ)
1/4

Hunan Ultra Minor Metals Ltd

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Hochreines Wolfram-Nickel-Chrom/Nickel-Chrom/Wolfram-Nickel-Sputterziel Für die Dünnschichtindustrie

Hochreines Wolfram-Nickel-Chrom/Nickel-Chrom/Wolfram-Nickel-Sputterziel Für die Dünnschichtindustrie

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Fabrikpreis Verkauf 99.999% Chrom Sputterziel Cr

Fabrikpreis Verkauf 99.999% Chrom Sputterziel Cr

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Am häufigsten verwendete Art der PVD-Beschichtung: Plattenart-Chrom-Sputterziel

Am häufigsten verwendete Art der PVD-Beschichtung: Plattenart-Chrom-Sputterziel

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikverkauf Chrom-Sputterziel zur Herstellung von dünnen filmresistiven Dehnungsmessstreifen

Fabrikverkauf Chrom-Sputterziel zur Herstellung von dünnen filmresistiven Dehnungsmessstreifen

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Niedriger Preis maßgeschneiderter Hersteller hochreines reines Chrommetall Cr Sputterziel für PVD-Beschichtung

Niedriger Preis maßgeschneiderter Hersteller hochreines reines Chrommetall Cr Sputterziel für PVD-Beschichtung

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Hochreines Zr702 Zr705 Zirkonium-Ziel Wärmeleitfähigkeit Sputterziel

Hochreines Zr702 Zr705 Zirkonium-Ziel Wärmeleitfähigkeit Sputterziel

0,05-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Titan-Sputtertarget, planar für die Halbleiterindustrie, integrierte Schaltungen, Bau- und Automobilglas

Hochreines Titan-Sputtertarget, planar für die Halbleiterindustrie, integrierte Schaltungen, Bau- und Automobilglas

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikpreis 99.95% Reines Tantal Sputterziel Metall Ta Tantalum Planare Ziele

Fabrikpreis 99.95% Reines Tantal Sputterziel Metall Ta Tantalum Planare Ziele

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Ti Target Titan-Sputterziel / Titan-Rotationsziel für Halbleiter / Vakuumbeschichtungssputtern

Ti Target Titan-Sputterziel / Titan-Rotationsziel für Halbleiter / Vakuumbeschichtungssputtern

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Handelsunternehmen
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Hochreiner polierter Wolfram-Ziel für fortschrittliche Ionenbeschussanwendungen

Hochreiner polierter Wolfram-Ziel für fortschrittliche Ionenbeschussanwendungen

50,00-270,00 $
10 Kg(MOQ)
Wolfram-Sputterziel hohe Reinheit 99.95% Halbleiter-Dünnfilmabscheidung anpassbar ASTM-Standard

Wolfram-Sputterziel hohe Reinheit 99.95% Halbleiter-Dünnfilmabscheidung anpassbar ASTM-Standard

60,00-100,00 $
1 Kg(MOQ)
Premium rotierendes Wolframziel für effiziente Sputteranwendungen

Premium rotierendes Wolframziel für effiziente Sputteranwendungen

50,00-270,00 $
10 Kg(MOQ)
Vielseitige Molybdänscheiben für Elektronik- und Wärme managementlösungen

Vielseitige Molybdänscheiben für Elektronik- und Wärme managementlösungen

40,00-80,00 $
10 Kg(MOQ)
1/4

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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99.99% Nickel-Sputterbeschichtung Ziel dekorative Sputtermagnetziel für Metallbeschichtung

99.99% Nickel-Sputterbeschichtung Ziel dekorative Sputtermagnetziel für Metallbeschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Nickel-Sputterziel 99.99% Hochreines Ni-Ziel für PVD-Beschichtung

Nickel-Sputterziel 99.99% Hochreines Ni-Ziel für PVD-Beschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Heiß verkaufendes Nickel-Sputterziel mit hoher Reinheit

Heiß verkaufendes Nickel-Sputterziel mit hoher Reinheit

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
99.9% Hochreines Nickelziel Ni Legierungsziel Preis Nickel Sputterziel

99.9% Hochreines Nickelziel Ni Legierungsziel Preis Nickel Sputterziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
1/2

Uv Tech Material Ltd

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Rotary Indium Target in Sputtering Target

Rotary Indium Target in Sputtering Target

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
PVD Target Aluminium Al zylindrisch drehbarer Sputter Target 99,999% Reinheit 2N-5N verfügbar

PVD Target Aluminium Al zylindrisch drehbarer Sputter Target 99,999% Reinheit 2N-5N verfügbar

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Uvtm Fabrik Sputtering Ziel Hersteller in China 18 Jahre Erfahrung Für Msvd und PVD Vakuum kontinuierliche Sputter Beschichtung Produktionslinie Vicky 13249153016

Uvtm Fabrik Sputtering Ziel Hersteller in China 18 Jahre Erfahrung Für Msvd und PVD Vakuum kontinuierliche Sputter Beschichtung Produktionslinie Vicky 13249153016

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Drehbares Tiox Sial Silber Sputtering Target Cathode Tube Hohe Qualität Reinheit für PVD Nano Dünnschichtmaterial

Drehbares Tiox Sial Silber Sputtering Target Cathode Tube Hohe Qualität Reinheit für PVD Nano Dünnschichtmaterial

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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DC RF Dual Target Magnetron-Sputterablagerung für Metall- und Oxid-Dünnfilme

DC RF Dual Target Magnetron-Sputterablagerung für Metall- und Oxid-Dünnfilme

21.000,00-26.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Kleine thermische Verdampfungsbeschichtungsanlage zur Herstellung von leitfähigen Filmen

Kleine thermische Verdampfungsbeschichtungsanlage zur Herstellung von leitfähigen Filmen

39.500,00-64.900,00 $
1 Stück(MOQ)
Heiztemperatur 400c Verdampfungsbeschichtungssystem für organometallische Komplexe (CY-300A)

Heiztemperatur 400c Verdampfungsbeschichtungssystem für organometallische Komplexe (CY-300A)

39.500,00-64.900,00 $
1 Stück(MOQ)
Lab-Hochvakuum-Multi-Arc-Ionenbeschichtungssystem für mehrere amorphe Legierungen

Lab-Hochvakuum-Multi-Arc-Ionenbeschichtungssystem für mehrere amorphe Legierungen

35.000,00-45.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd

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99.9% Spritzenziel des Reinheit-Nickel-Copper/Nicu

99.9% Spritzenziel des Reinheit-Nickel-Copper/Nicu

30,00 $
1 Stück(MOQ)
99.95% Reinheit-Nickel-Chrom/Nicr Spritzenziel

99.95% Reinheit-Nickel-Chrom/Nicr Spritzenziel

30,00 $
1 Stück(MOQ)
Spritzenziel des hohen Reinheitsgrad-99.995% Ni/Nickel

Spritzenziel des hohen Reinheitsgrad-99.995% Ni/Nickel

20,00 $
1 Stück(MOQ)
99.9% Ziel Reinheit-Nickel-Spritzensvanadium/Niv7

99.9% Ziel Reinheit-Nickel-Spritzensvanadium/Niv7

50,00 $
1 Stück(MOQ)

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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Titan Sputtering Target bei hoher Reinheit

Titan Sputtering Target bei hoher Reinheit

30,00-50,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Titan Planar Sputterziel von 2n6 bis 4n, 4n5, 5N

Hochreines Titan Planar Sputterziel von 2n6 bis 4n, 4n5, 5N

30,00-50,00 $
1 Stück(MOQ)
Silizium Aluminium Drehsputterziel (hochwertiges Sputterziel)

Silizium Aluminium Drehsputterziel (hochwertiges Sputterziel)

200,00-300,00 $
2 Stücke(MOQ)
Sputterziel: Titan Sputterziel, Ti Ziel

Sputterziel: Titan Sputterziel, Ti Ziel

100,00 $
10 Stücke(MOQ)

Xi'an Kefeng Powder Metallurgy Co., Ltd.

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Molybdänbleche und -platten

Molybdänbleche und -platten

100,00-500,00 $
10 Kg(MOQ)
Wolframblech Platte Stange Bar in Hochtemperaturöfen Industrien

Wolframblech Platte Stange Bar in Hochtemperaturöfen Industrien

50,00-500,00 $
10 Kg(MOQ)
Chinesischer führender Hersteller hochwertiger Wolframlegierungsrohre und -ringe

Chinesischer führender Hersteller hochwertiger Wolframlegierungsrohre und -ringe

50,00-500,00 $
10 Kg(MOQ)
Wolframstange, Wolframlegierungsstange, Wolframstahlstange, reine Wolframstange, Wolframstangenbar, schwere Wolframstange, maßgeschneiderte Wolframstange, Wolframstangenlieferant

Wolframstange, Wolframlegierungsstange, Wolframstahlstange, reine Wolframstange, Wolframstangenbar, schwere Wolframstange, maßgeschneiderte Wolframstange, Wolframstangenlieferant

50,00-500,00 $
10 Kg(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Nickel Ni Plane Sputtering Target

Nickel Ni Plane Sputtering Target

50,00 $
5 Stücke(MOQ)
4n5 99,995% hochreines Nickel-Ni-Segment-Metallgranulat Draht Größe 3 x 3 mm 3 x 6 mm

4n5 99,995% hochreines Nickel-Ni-Segment-Metallgranulat Draht Größe 3 x 3 mm 3 x 6 mm

50,00-135,00 $
1 Kg(MOQ)
99,99% hochreines Ni Nickel Rotary Sputtering Target für Magnetron PVD-Beschichtung

99,99% hochreines Ni Nickel Rotary Sputtering Target für Magnetron PVD-Beschichtung

70,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)
Nickel Ni Rotary Sputtering Target für die Beschichtung Fabrik China verwendet

Nickel Ni Rotary Sputtering Target für die Beschichtung Fabrik China verwendet

70,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 J.
·Handelsunternehmen
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Hochwertiges Niobium-Sputterziel mit CAS-Nr. 7440-03-1

Hochwertiges Niobium-Sputterziel mit CAS-Nr. 7440-03-1

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Hochwertige Reine Niobium Sputterzielscheibe

Fabrikpreis Verkauf Hochwertige Reine Niobium Sputterzielscheibe

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Hochreines Tantal-Niob-Carbid-Pulver mit der chemischen Formel Cnbta

Hochreines Tantal-Niob-Carbid-Pulver mit der chemischen Formel Cnbta

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges Niobium Metall Ziel mit CAS Nr. 7440-03-1

Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges Niobium Metall Ziel mit CAS Nr. 7440-03-1

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co, Ltd

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Nickel-Vanadium-Spritzenziel

Nickel-Vanadium-Spritzenziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Nickel-Spritzenziel

Nickel-Spritzenziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

LORK GROUP CO., LTD

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Lork maßgeschneiderte Csf Legierung Edelmetall runde Torte 99.99% Reinheit Csf Gold Sputterzielscheibe

Lork maßgeschneiderte Csf Legierung Edelmetall runde Torte 99.99% Reinheit Csf Gold Sputterzielscheibe

30,00-40,00 $
100 Kg(MOQ)
Lork maßgeschneiderte hochreine Nickellegierung 4n5 Rundscheibe für Halbleiter-Sputterzielscheibe

Lork maßgeschneiderte hochreine Nickellegierung 4n5 Rundscheibe für Halbleiter-Sputterzielscheibe

30,00-40,00 $
100 Kg(MOQ)
1/4

HANGZHOU KING TITANIUM CO., LTD.

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R05200 Tantal-Ziel für elektronische Zwecke

R05200 Tantal-Ziel für elektronische Zwecke

200,00-800,00 $
1 Kg(MOQ)
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