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etwa Nickel-Sputterziele
  • Technologische Innovation
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Nickel-Sputterziele60+ Fabriken verifiziert

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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CuNiTi Legierung Ziel Kupfer Nickel Titan Legierung Sputterziel für LCD/Touchpanel

CuNiTi Legierung Ziel Kupfer Nickel Titan Legierung Sputterziel für LCD/Touchpanel

50,00 $
1 Kg(MOQ)
NiCr Legierungsziel Chrom Nickel Legierung Sputterziel für LCD/Integrierte Schaltungen

NiCr Legierungsziel Chrom Nickel Legierung Sputterziel für LCD/Integrierte Schaltungen

35,00 $
1 Kg(MOQ)
NiV Legierung Ziel Nickel Vanadium Legierung Sputterziel für LCD/Halbleiter

NiV Legierung Ziel Nickel Vanadium Legierung Sputterziel für LCD/Halbleiter

100,00 $
1 Kg(MOQ)
Ni Target Nickel Sputterziel für Halbleiter

Ni Target Nickel Sputterziel für Halbleiter

100,00-130,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Xinkang Hochreine Nickellegierungsziele Nickel Vanadium Niv7% Sputterziele

Xinkang Hochreine Nickellegierungsziele Nickel Vanadium Niv7% Sputterziele

35,00-40,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochwertiges Nickel-Chrom-Legierungs-Sputterziel für Beschichtungen

Hochwertiges Nickel-Chrom-Legierungs-Sputterziel für Beschichtungen

35,00-40,00 $
1 Stück(MOQ)
Wettbewerbsfähiger Preis Nickellegierungsplatte 99.95% Nickelvanadium-Sputterziel für PVD-Prozess

Wettbewerbsfähiger Preis Nickellegierungsplatte 99.95% Nickelvanadium-Sputterziel für PVD-Prozess

35,00-40,00 $
1 Stück(MOQ)
Vakuumgeformte Nickel-Titan-Diskenzielscheibe für Halbleiter-Sputterprozesse

Vakuumgeformte Nickel-Titan-Diskenzielscheibe für Halbleiter-Sputterprozesse

145,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Nickel-Chrom-Multi-PCS-Konstruktionslegierung-Sputterziel 99.99% Reines China PVD-Beschichtung

Nickel-Chrom-Multi-PCS-Konstruktionslegierung-Sputterziel 99.99% Reines China PVD-Beschichtung

80,00-800,00 $
1 Stück(MOQ)
PVD-Beschichtung Sputterziel planar rund Kupfer-Nickel-Legierung Cu/Ni Fabrik

PVD-Beschichtung Sputterziel planar rund Kupfer-Nickel-Legierung Cu/Ni Fabrik

300,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochwertige Nickel-Sputterziele Ni-Bindung

Hochwertige Nickel-Sputterziele Ni-Bindung

300,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
PVD-Beschichtung Sputterziel Planar Rund Nickel-Chrom Ni/Cr Legierung Fabrik

PVD-Beschichtung Sputterziel Planar Rund Nickel-Chrom Ni/Cr Legierung Fabrik

80,00-800,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 J.
·Handelsunternehmen
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Wolfram Nickel Chrom Sputterziel

Wolfram Nickel Chrom Sputterziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
W-Ni-Cr/W-Ni/Ni-Cr Beschichtungssputterziel Wolfram Nickel Chrom Legierung Ziel

W-Ni-Cr/W-Ni/Ni-Cr Beschichtungssputterziel Wolfram Nickel Chrom Legierung Ziel

2.000,00-3.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Wolfram-Nickel-Chrom-Wolfram-Nickel-Nickel-Chrom-Sputterziel für die Dünnschichtindustrie

Hochreines Wolfram-Nickel-Chrom-Wolfram-Nickel-Nickel-Chrom-Sputterziel für die Dünnschichtindustrie

2.000,00-3.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Tantalmetall-Sputterziel für Dünnfilm-Beschichtung

Hochreines Tantalmetall-Sputterziel für Dünnfilm-Beschichtung

300,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 J.·5.0
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Msgp maßgeschneiderte Nickel-Sputterziele - Ideal für Anwendungen der Dünnfilmabscheidung

Msgp maßgeschneiderte Nickel-Sputterziele - Ideal für Anwendungen der Dünnfilmabscheidung

100,00-120,00 $
50 kilograms(MOQ)
Präzisionsnickel-Sputterziele für präzise Instrumentenleitungsfilme

Präzisionsnickel-Sputterziele für präzise Instrumentenleitungsfilme

110,00-130,00 $
50 kilograms(MOQ)
Msgp Nickel Magnetron-Sputterziele - Überlegene Leistung in der Display- und LED-Industrie

Msgp Nickel Magnetron-Sputterziele - Überlegene Leistung in der Display- und LED-Industrie

130,00-160,00 $
50 kilograms(MOQ)
Msgp Hochdichte Nickel-Sputterziele - Perfekt geeignet für Beschichtungsanwendungen in der Medizintechnik

Msgp Hochdichte Nickel-Sputterziele - Perfekt geeignet für Beschichtungsanwendungen in der Medizintechnik

260,00-280,00 $
50 kilograms(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.9% Ni Nickel Sputterziel Metallmaterial Magnetron Ni Nickel Rotationssputterziele

99.9% Ni Nickel Sputterziel Metallmaterial Magnetron Ni Nickel Rotationssputterziele

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
3n, 4n, 5n Ni3c Ziel Nickelkarbid Keramische Sputterziele

3n, 4n, 5n Ni3c Ziel Nickelkarbid Keramische Sputterziele

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.9% Nisi2 Keramische Ziele Nickel-Silizium-Sputterziele

99.9% Nisi2 Keramische Ziele Nickel-Silizium-Sputterziele

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreine Nickellegierungsziele Niv Nickel Vanadium Sputterziel

Hochreine Nickellegierungsziele Niv Nickel Vanadium Sputterziel

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Hochreiner Magnetron-Sputter-Nickelziel

Hochreiner Magnetron-Sputter-Nickelziel

800,00 $
1 Stück(MOQ)
Nickel Ziel 99.99 Hochreines Sputterplattenziel

Nickel Ziel 99.99 Hochreines Sputterplattenziel

1.500,00 $
1 Stück(MOQ)
Ni-Fe Legierung Hochreines Nickel-Eisen Beschichtungssubstrat

Ni-Fe Legierung Hochreines Nickel-Eisen Beschichtungssubstrat

6.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreine Nickel-Vakuumverdampfte Partikel

Hochreine Nickel-Vakuumverdampfte Partikel

350,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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TMAXCN Marke Hochreines 99.99% Nickel Ni Sputterziel für Metall-Dünnfilm-Beschichtung

TMAXCN Marke Hochreines 99.99% Nickel Ni Sputterziel für Metall-Dünnfilm-Beschichtung

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke Hochrein 99.95% Eisen-Nickel Fe-Ni Sputterziel für metallische Dünnfilm-Beschichtung

TMAXCN Marke Hochrein 99.95% Eisen-Nickel Fe-Ni Sputterziel für metallische Dünnfilm-Beschichtung

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke VTC-16-3HD-LD 3 Rotationsziel-Plasma-Sputterbeschichtungsmaschine einschließlich 3 Zielen

TMAXCN Marke VTC-16-3HD-LD 3 Rotationsziel-Plasma-Sputterbeschichtungsmaschine einschließlich 3 Zielen

8.000,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke VTC-150-H Labor PVD / CVD Hybridbeschichtungsmaschine Pulver Magnetron-Sputterbeschichtung für Mehrschichtfilm-Beschichtung

TMAXCN Marke VTC-150-H Labor PVD / CVD Hybridbeschichtungsmaschine Pulver Magnetron-Sputterbeschichtung für Mehrschichtfilm-Beschichtung

7.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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99.9% Nickel-Chrom-Aluminium-Vakuumbeschichtung-Sputterziel für PVD-Prozess Chrom-Tantal-Ziel

99.9% Nickel-Chrom-Aluminium-Vakuumbeschichtung-Sputterziel für PVD-Prozess Chrom-Tantal-Ziel

55,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochwertiges Nickelrundziel für Sputterziele

Hochwertiges Nickelrundziel für Sputterziele

10,00 $
1 pcs(MOQ)
Neue metallische Glanz Nickel Stärke runder Zielscheibe

Neue metallische Glanz Nickel Stärke runder Zielscheibe

12,00 $
5 Stücke(MOQ)
Hochharter polierter Oberflächen- und höherreiner Nickelrohrziel

Hochharter polierter Oberflächen- und höherreiner Nickelrohrziel

30,00 $
10 Stücke(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Hochreines Nickel-Kobalt-Yttrium-Sputterziel für fortschrittliche optische Beschichtungen

Hochreines Nickel-Kobalt-Yttrium-Sputterziel für fortschrittliche optische Beschichtungen

115,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)
Premium anpassbare Sputtertargets aus seltenen Erden für Solarenergie

Premium anpassbare Sputtertargets aus seltenen Erden für Solarenergie

115,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreiner Yttrium-Sputterziel für fortschrittliche Lasertechnologie

Hochreiner Yttrium-Sputterziel für fortschrittliche Lasertechnologie

115,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Ytterbium-Metall-Sputterziel für fortschrittliche Anwendungen

Hochreines Ytterbium-Metall-Sputterziel für fortschrittliche Anwendungen

190,00-199,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 J.
·Handelsunternehmen
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Hochreines 99.6% PVD M86 Titanziel Od 98X40mm Ti Ziel Titan

Hochreines 99.6% PVD M86 Titanziel Od 98X40mm Ti Ziel Titan

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Gr1 Gr2 Titan-Sputterziel für PVD

Hochreines Gr1 Gr2 Titan-Sputterziel für PVD

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
Titan-Aluminium-Legierung PVD-Ziele Titan-Sputterziele Tial-Legierungsziel für Beschichtungen

Titan-Aluminium-Legierung PVD-Ziele Titan-Sputterziele Tial-Legierungsziel für Beschichtungen

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
Anpassung von Titan-Sputtertargets für spezialisierte Beschichtungsbedürfnisse

Anpassung von Titan-Sputtertargets für spezialisierte Beschichtungsbedürfnisse

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shandong Quansheng Material Technology Group Co., LTD

3 J.
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Premium Wolfram-Sputterziele für Vakuumbeschichtungsprozesse

Premium Wolfram-Sputterziele für Vakuumbeschichtungsprozesse

56,00-61,00 $
5 Kg(MOQ)
Industrielle Verwendung Niobiumrohr hochtemperaturbeständig nahtlose Extrusion

Industrielle Verwendung Niobiumrohr hochtemperaturbeständig nahtlose Extrusion

300,00-450,00 $
1 Kg(MOQ)
C129y Niobiumstäbe für Anwendungen in der chemischen Industrie

C129y Niobiumstäbe für Anwendungen in der chemischen Industrie

101,00-186,00 $
5 Kg(MOQ)
Haltbares reines Niobrohr für industrielle medizinische Lösungen

Haltbares reines Niobrohr für industrielle medizinische Lösungen

300,00-450,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Hochreines Nickel-Beschichtungsmaterial Drehmagnetron Sputtering Target

Hochreines Nickel-Beschichtungsmaterial Drehmagnetron Sputtering Target

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreine, Vakuumbeschichtete Elektronische Bauteile Mit Titansputterzielen

Hochreine, Vakuumbeschichtete Elektronische Bauteile Mit Titansputterzielen

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Großhandel von hochreinen PVD-Fabrik für flache Kupfer-Zielmaterialien

Großhandel von hochreinen PVD-Fabrik für flache Kupfer-Zielmaterialien

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Titan Sputtering Target Titanium Platte für Farbbeschichtung Uhr elektronisch Komponenten

Titan Sputtering Target Titanium Platte für Farbbeschichtung Uhr elektronisch Komponenten

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 J.
·Hersteller/Werk
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Fabrikpreis Magnetron-Sputterbeschichter für Metall und Nickel-Chrom

Fabrikpreis Magnetron-Sputterbeschichter für Metall und Nickel-Chrom

19.000,00-23.000,00 $
1 Stück(MOQ)
4-Inch Magnetron Ziel Einzelziel DC Magnetron Sputterbeschichter für Oxidfilm

4-Inch Magnetron Ziel Einzelziel DC Magnetron Sputterbeschichter für Oxidfilm

32.000,00-34.000,00 $
1 set(MOQ)
Neues Design Hochvakuum-Wickelthermische Verdampfungsbeschichtungsinstrument für Filmproben

Neues Design Hochvakuum-Wickelthermische Verdampfungsbeschichtungsinstrument für Filmproben

52.000,00-54.200,00 $
1 set(MOQ)
PVD-Beschichtungsmaschine

PVD-Beschichtungsmaschine

3.000,00-40.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Aluminium Titan Alloy/50 Sputterziel für PVD-Beschichtungsmaschine

Aluminium Titan Alloy/50 Sputterziel für PVD-Beschichtungsmaschine

3.380,00 $
1 Ton(MOQ)
Aluminium Titan Alti Beschichtungsstarget, Titan Aluminium Tial Beschichtungsstarget

Aluminium Titan Alti Beschichtungsstarget, Titan Aluminium Tial Beschichtungsstarget

3.380,00 $
1 Ton(MOQ)
1/4

Hunan Ultra Minor Metals Ltd

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Hochreines Wolfram-Nickel-Chrom/Nickel-Chrom/Wolfram-Nickel-Sputterziel Für die Dünnschichtindustrie

Hochreines Wolfram-Nickel-Chrom/Nickel-Chrom/Wolfram-Nickel-Sputterziel Für die Dünnschichtindustrie

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Sid Metal Co., Ltd

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Ti Target Titan-Sputterziel / Titan-Rotationsziel für Halbleiter / Vakuumbeschichtungssputtern

Ti Target Titan-Sputterziel / Titan-Rotationsziel für Halbleiter / Vakuumbeschichtungssputtern

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Titan-Sputtertarget, planar für die Halbleiterindustrie, integrierte Schaltungen, Bau- und Automobilglas

Hochreines Titan-Sputtertarget, planar für die Halbleiterindustrie, integrierte Schaltungen, Bau- und Automobilglas

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Zr702 Zr705 Zirkonium-Ziel Wärmeleitfähigkeit Sputterziel

Hochreines Zr702 Zr705 Zirkonium-Ziel Wärmeleitfähigkeit Sputterziel

0,05-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikpreis 99.95% Reines Tantal Sputterziel Metall Ta Tantalum Planare Ziele

Fabrikpreis 99.95% Reines Tantal Sputterziel Metall Ta Tantalum Planare Ziele

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Am häufigsten verwendete Art der PVD-Beschichtung: Plattenart-Chrom-Sputterziel

Am häufigsten verwendete Art der PVD-Beschichtung: Plattenart-Chrom-Sputterziel

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Niedriger Preis maßgeschneiderter Hersteller hochreines reines Chrommetall Cr Sputterziel für PVD-Beschichtung

Niedriger Preis maßgeschneiderter Hersteller hochreines reines Chrommetall Cr Sputterziel für PVD-Beschichtung

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikpreis 99.999% Chrom-Sputterziel Cr

Fabrikpreis 99.999% Chrom-Sputterziel Cr

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikverkauf Chrom-Sputterziel zur Herstellung von dünnen filmresistiven Dehnungsmessstreifen

Fabrikverkauf Chrom-Sputterziel zur Herstellung von dünnen filmresistiven Dehnungsmessstreifen

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Handelsunternehmen
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Wolfram-Sputterziel hohe Reinheit 99.95% Halbleiter-Dünnfilmabscheidung anpassbar ASTM-Standard

Wolfram-Sputterziel hohe Reinheit 99.95% Halbleiter-Dünnfilmabscheidung anpassbar ASTM-Standard

60,00-100,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreiner polierter Wolfram-Ziel für fortschrittliche Ionenbeschussanwendungen

Hochreiner polierter Wolfram-Ziel für fortschrittliche Ionenbeschussanwendungen

50,00-270,00 $
10 Kg(MOQ)
Premium rotierendes Wolframziel für effiziente Sputteranwendungen

Premium rotierendes Wolframziel für effiziente Sputteranwendungen

50,00-270,00 $
10 Kg(MOQ)
Molybdänscheibe ultra hochrein präzise Dicke für Vakuumofenforschung maßgeschneidert ASTM

Molybdänscheibe ultra hochrein präzise Dicke für Vakuumofenforschung maßgeschneidert ASTM

40,00-80,00 $
10 Kg(MOQ)
1/4

Zhongzheng Yejin Technology Co., Ltd.

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99.99% Nickel-Sputterbeschichtung Ziel dekorative Sputtermagnetziel für Metallbeschichtung

99.99% Nickel-Sputterbeschichtung Ziel dekorative Sputtermagnetziel für Metallbeschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
99.9% Hochreines Nickelziel Ni Legierungsziel Preis Nickel Sputterziel

99.9% Hochreines Nickelziel Ni Legierungsziel Preis Nickel Sputterziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Nickel-Sputterziel 99.99% Hochreines Ni-Ziel für PVD-Beschichtung

Nickel-Sputterziel 99.99% Hochreines Ni-Ziel für PVD-Beschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Heiß verkaufendes Nickel-Sputterziel mit hoher Reinheit

Heiß verkaufendes Nickel-Sputterziel mit hoher Reinheit

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
1/2

Uv Tech Material Ltd

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PVD Target Aluminium Al zylindrisch drehbarer Sputter Target 99,999% Reinheit 2N-5N verfügbar

PVD Target Aluminium Al zylindrisch drehbarer Sputter Target 99,999% Reinheit 2N-5N verfügbar

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
AZO Sputtertarget Beschichtungsmaterial Keramik Target für die Glasindustrie Dünnschichtbeschichtung

AZO Sputtertarget Beschichtungsmaterial Keramik Target für die Glasindustrie Dünnschichtbeschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Rotary Indium Target in Sputtering Target

Rotary Indium Target in Sputtering Target

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Chrom Cr PVD Zielplanar-Bonding auf Cooper-Trägerplatte Oder Tube

Chrom Cr PVD Zielplanar-Bonding auf Cooper-Trägerplatte Oder Tube

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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DC RF Dual Target Magnetron-Sputterablagerung für Metall- und Oxid-Dünnfilme

DC RF Dual Target Magnetron-Sputterablagerung für Metall- und Oxid-Dünnfilme

21.000,00-26.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Kleine thermische Verdampfungsbeschichtungsanlage zur Herstellung von leitfähigen Filmen

Kleine thermische Verdampfungsbeschichtungsanlage zur Herstellung von leitfähigen Filmen

39.500,00-64.900,00 $
1 Stück(MOQ)
Heiztemperatur 400c Verdampfungsbeschichtungssystem für organometallische Komplexe (CY-300A)

Heiztemperatur 400c Verdampfungsbeschichtungssystem für organometallische Komplexe (CY-300A)

39.500,00-64.900,00 $
1 Stück(MOQ)
Lab-Hochvakuum-Multi-Arc-Ionenbeschichtungssystem für mehrere amorphe Legierungen

Lab-Hochvakuum-Multi-Arc-Ionenbeschichtungssystem für mehrere amorphe Legierungen

35.000,00-45.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd

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99.95% Reinheit-Nickel-Chrom/Nicr Spritzenziel

99.95% Reinheit-Nickel-Chrom/Nicr Spritzenziel

30,00 $
1 Stück(MOQ)
Spritzenziel des hohen Reinheitsgrad-99.995% Ni/Nickel

Spritzenziel des hohen Reinheitsgrad-99.995% Ni/Nickel

20,00 $
1 Stück(MOQ)
99.9% Spritzenziel des Reinheit-Nickel-Copper/Nicu

99.9% Spritzenziel des Reinheit-Nickel-Copper/Nicu

30,00 $
1 Stück(MOQ)
99.9% Ziel Reinheit-Nickel-Spritzensvanadium/Niv7

99.9% Ziel Reinheit-Nickel-Spritzensvanadium/Niv7

50,00 $
1 Stück(MOQ)

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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Hochreines Titan Planar Sputterziel von 2n6 bis 4n, 4n5, 5N

Hochreines Titan Planar Sputterziel von 2n6 bis 4n, 4n5, 5N

30,00-50,00 $
1 Stück(MOQ)
Titan Sputtering Target bei hoher Reinheit

Titan Sputtering Target bei hoher Reinheit

30,00-50,00 $
1 Stück(MOQ)
Silizium Aluminium Drehsputterziel (hochwertiges Sputterziel)

Silizium Aluminium Drehsputterziel (hochwertiges Sputterziel)

200,00-300,00 $
2 Stücke(MOQ)
Sputterziel: Titan Sputterziel, Ti Ziel

Sputterziel: Titan Sputterziel, Ti Ziel

100,00 $
10 Stücke(MOQ)

Xi'an Kefeng Powder Metallurgy Co., Ltd.

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Molybdänbleche und -platten

Molybdänbleche und -platten

100,00-500,00 $
10 Kg(MOQ)
Wolframblech Platte Stange Bar in Hochtemperaturöfen Industrien

Wolframblech Platte Stange Bar in Hochtemperaturöfen Industrien

50,00-500,00 $
10 Kg(MOQ)
Chinesischer führender Hersteller hochwertiger Wolframlegierungsrohre und -ringe

Chinesischer führender Hersteller hochwertiger Wolframlegierungsrohre und -ringe

50,00-500,00 $
10 Kg(MOQ)
Wolframstange, Wolframlegierungsstange, Wolframstahlstange, reine Wolframstange, Wolframstangenbar, schwere Wolframstange, maßgeschneiderte Wolframstange, Wolframstangenlieferant

Wolframstange, Wolframlegierungsstange, Wolframstahlstange, reine Wolframstange, Wolframstangenbar, schwere Wolframstange, maßgeschneiderte Wolframstange, Wolframstangenlieferant

50,00-500,00 $
10 Kg(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Nickel Ni Plane Sputtering Target

Nickel Ni Plane Sputtering Target

50,00 $
5 Stücke(MOQ)
Hochreine 4n5 99,995% Nickel Pellets Metallverdampfung Nickel Ni Granulat zum Schmelzen

Hochreine 4n5 99,995% Nickel Pellets Metallverdampfung Nickel Ni Granulat zum Schmelzen

50,00-135,00 $
1 Kg(MOQ)
Kundenspezifisches Nickel Ni Granule Shot Manufacture China

Kundenspezifisches Nickel Ni Granule Shot Manufacture China

50,00-135,00 $
1 Kg(MOQ)
99,99% hochreines Ni Nickel Rotary Sputtering Target für Magnetron PVD-Beschichtung

99,99% hochreines Ni Nickel Rotary Sputtering Target für Magnetron PVD-Beschichtung

70,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 J.
·Handelsunternehmen
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Hochwertiges Niobium-Sputterziel mit CAS-Nr. 7440-03-1

Hochwertiges Niobium-Sputterziel mit CAS-Nr. 7440-03-1

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges Niobium Metall Ziel mit CAS Nr. 7440-03-1

Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges Niobium Metall Ziel mit CAS Nr. 7440-03-1

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Kauf Niobium Metall Sputterziel mit CAS-Nr. 7440-03-1

Fabrikpreis Kauf Niobium Metall Sputterziel mit CAS-Nr. 7440-03-1

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Hochreines Niob-Metall-Draht mit CAS-Nr. 7440-03-1

Hochreines Niob-Metall-Draht mit CAS-Nr. 7440-03-1

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co, Ltd

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Nickel-Spritzenziel

Nickel-Spritzenziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Nickel-Vanadium-Spritzenziel

Nickel-Vanadium-Spritzenziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

LORK GROUP CO., LTD

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Lork maßgeschneiderte Csf Legierung Edelmetall runde Torte 99.99% Reinheit Csf Gold Sputterzielscheibe

Lork maßgeschneiderte Csf Legierung Edelmetall runde Torte 99.99% Reinheit Csf Gold Sputterzielscheibe

30,00-40,00 $
100 Kg(MOQ)
Lork maßgeschneiderte hochreine Nickellegierung 4n5 Rundscheibe für Halbleiter-Sputterzielscheibe

Lork maßgeschneiderte hochreine Nickellegierung 4n5 Rundscheibe für Halbleiter-Sputterzielscheibe

30,00-40,00 $
100 Kg(MOQ)
1/4

HANGZHOU KING TITANIUM CO., LTD.

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R05200 Tantal-Ziel für elektronische Zwecke

R05200 Tantal-Ziel für elektronische Zwecke

200,00-800,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4
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