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etwa pvd-Ziel
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pvd-Ziel100+ Fabriken verifiziert

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.95% Reines Chrom-Sputterziel Hochreines Chromziel für PVD-Beschichtung

99.95% Reines Chrom-Sputterziel Hochreines Chromziel für PVD-Beschichtung

30,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
CuNi56/44wt% CuNi10wt% CuNi35wt% 99.95% Reine Kupfer-Nickel-Legierungsziele für PVD-Film-Beschichtung

CuNi56/44wt% CuNi10wt% CuNi35wt% 99.95% Reine Kupfer-Nickel-Legierungsziele für PVD-Film-Beschichtung

50,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
99.9% Reines Lanthanhexaborid-Sputtertarget für PVD-Beschichtung, maßgeschneiderte Größen

99.9% Reines Lanthanhexaborid-Sputtertarget für PVD-Beschichtung, maßgeschneiderte Größen

55,00-85,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Titan-Vanadium-Legierungsziel Tiv (70/30wt%) für PVD-Beschichtung

Hochreines Titan-Vanadium-Legierungsziel Tiv (70/30wt%) für PVD-Beschichtung

45,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Zirkonium Zr702 Zr705 Sputterfolie Zielscheibe für PVD-Beschichtung Zirkoniumscheibe

Zirkonium Zr702 Zr705 Sputterfolie Zielscheibe für PVD-Beschichtung Zirkoniumscheibe

1,00-3.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrik Zirkonium Zr702 Zr705 Sputterfolie Zielscheibe für PVD-Beschichtung Zirkoniumscheibe

Fabrik Zirkonium Zr702 Zr705 Sputterfolie Zielscheibe für PVD-Beschichtung Zirkoniumscheibe

1,00-3.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Zirkonium-Zielröhre Zr702 Zirkonium-Ziel für PVD-Beschichtung

Zirkonium-Zielröhre Zr702 Zirkonium-Ziel für PVD-Beschichtung

1,00-3.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochwertige Zirkonium Zr702 Zr705 Sputterfolienzielscheibe für PVD-Beschichtung Zirkoniumscheibe

Hochwertige Zirkonium Zr702 Zr705 Sputterfolienzielscheibe für PVD-Beschichtung Zirkoniumscheibe

1,00-3.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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PVD-Beschichtung Sputterziel Planar Rund Nickel-Chrom Ni/Cr Legierung Fabrik

PVD-Beschichtung Sputterziel Planar Rund Nickel-Chrom Ni/Cr Legierung Fabrik

80,00-800,00 $
1 Stück(MOQ)
Nickel-Chrom-Multi-PCS-Konstruktionslegierung-Sputterziel 99.99% Reines China PVD-Beschichtung

Nickel-Chrom-Multi-PCS-Konstruktionslegierung-Sputterziel 99.99% Reines China PVD-Beschichtung

80,00-800,00 $
1 Stück(MOQ)
Bismut Bi Multi-PCS Konstruktion Sputterziel 99.99% Reines China PVD Beschichtung

Bismut Bi Multi-PCS Konstruktion Sputterziel 99.99% Reines China PVD Beschichtung

300,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Chromium Cr Multi-PCS Konstruktion Sputterziel 99.99% Reines China PVD Beschichtung

Chromium Cr Multi-PCS Konstruktion Sputterziel 99.99% Reines China PVD Beschichtung

50,00-300,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 J.
·Handelsunternehmen
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Hochreines Titanziel für PVD-Beschichtungsmaschine

Hochreines Titanziel für PVD-Beschichtungsmaschine

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Gr1 Gr2 Titan-Sputterziel für PVD

Hochreines Gr1 Gr2 Titan-Sputterziel für PVD

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines 99.99% Titan-Arc-Ziel für Vakuum- / PVD-Beschichtungsmaschine

Hochreines 99.99% Titan-Arc-Ziel für Vakuum- / PVD-Beschichtungsmaschine

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines 99.6% PVD M86 Titanziel Od 98X40mm Ti Ziel Titan

Hochreines 99.6% PVD M86 Titanziel Od 98X40mm Ti Ziel Titan

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Kupferziel PVD-Vakuum-Sputterziel

Kupferziel PVD-Vakuum-Sputterziel

35.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Silizium-Rundziel hohe Reinheit für Vakuum/PVD-Beschichtung

Silizium-Rundziel hohe Reinheit für Vakuum/PVD-Beschichtung

6.200,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreiner Chromtarget für Vakuum/PVD-Beschichtung

Hochreiner Chromtarget für Vakuum/PVD-Beschichtung

1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
99.99% Hochreines Gold-Zinn-Legierung Sputterziel

99.99% Hochreines Gold-Zinn-Legierung Sputterziel

265.000,00 $
10 Stücke(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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TMAXCN Marke Hochrein Hafnium/Hf PVD Magnetron-Sputterziel für Vakuumbeschichtung

TMAXCN Marke Hochrein Hafnium/Hf PVD Magnetron-Sputterziel für Vakuumbeschichtung

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke 3n/4n/4n5 PVD-Beschichtungsmaterialien Wti Wolfram Titanlegierung Sputterziel

TMAXCN Marke 3n/4n/4n5 PVD-Beschichtungsmaterialien Wti Wolfram Titanlegierung Sputterziel

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke Hochreines 3n5 Chrom-Chromium/Cr Beschichtungssputterziel für PVD-Beschichtung

TMAXCN Marke Hochreines 3n5 Chrom-Chromium/Cr Beschichtungssputterziel für PVD-Beschichtung

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke Hochreines 99.95% Chrom Chrom/Cr PVD Magnetron-Sputterziel für Vakuumbeschichtung

TMAXCN Marke Hochreines 99.95% Chrom Chrom/Cr PVD Magnetron-Sputterziel für Vakuumbeschichtung

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Nicrsi Legierungsziel Nickel Chrom Silizium Sputterziel für PVD-Beschichtung

Nicrsi Legierungsziel Nickel Chrom Silizium Sputterziel für PVD-Beschichtung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.99% Nicu Nickel-Kupfer-Legierung Sputterziel für PVD-Beschichtung

99.99% Nicu Nickel-Kupfer-Legierung Sputterziel für PVD-Beschichtung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.95% Reiner Niobium-Disk Nb Niobium-Sputterziele für PVD-Prozess

99.95% Reiner Niobium-Disk Nb Niobium-Sputterziele für PVD-Prozess

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreines 99.99% Ru Ruthenium Metall Sputterziel für PVD-Beschichtung

Hochreines 99.99% Ru Ruthenium Metall Sputterziel für PVD-Beschichtung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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SiO2 Sprühkeramisches Ziel Siliziumoxid Sprühkeramisches Ziel für PVD-Film-Beschichtung

SiO2 Sprühkeramisches Ziel Siliziumoxid Sprühkeramisches Ziel für PVD-Film-Beschichtung

25,00-100,00 $
1 Kg(MOQ)
Mn Ziel Mangan Sputterziel für optische Dünnfilm-Beschichtung/PVD-Film-Beschichtung

Mn Ziel Mangan Sputterziel für optische Dünnfilm-Beschichtung/PVD-Film-Beschichtung

500,00 $
1 Kg(MOQ)
TiN-Beschichtungskeramikkörper für optische Dünnfilm-Beschichtung/PVD-Film-Beschichtung

TiN-Beschichtungskeramikkörper für optische Dünnfilm-Beschichtung/PVD-Film-Beschichtung

25,00-100,00 $
1 Kg(MOQ)
NiV Legierung Ziel Nickel Vanadium Legierung Sputterziel für LCD/Halbleiter

NiV Legierung Ziel Nickel Vanadium Legierung Sputterziel für LCD/Halbleiter

100,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 J.
·Handelsunternehmen
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Hochreines quadratisches Rutheniumziel Sputterziel für PVD-Beschichtung China Hersteller Lieferung

Hochreines quadratisches Rutheniumziel Sputterziel für PVD-Beschichtung China Hersteller Lieferung

2.000,00-30.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Ru-Ziel Sputterziel für PVD-Beschichtung China Hersteller Lieferung

Hochreines Ru-Ziel Sputterziel für PVD-Beschichtung China Hersteller Lieferung

700,00 $
1 Stück(MOQ)
Wolfram-Rhenium-Legierung-Sputterziel für physikalische Dampfabscheidung (PVD)

Wolfram-Rhenium-Legierung-Sputterziel für physikalische Dampfabscheidung (PVD)

2.000,00-3.000,00 $
1 kilograms(MOQ)
Hochreines 99.99% Re Rhenium-Sputterziel, Re-Metall-Rundziel

Hochreines 99.99% Re Rhenium-Sputterziel, Re-Metall-Rundziel

1.000,00-4.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shanghai Tankii Alloy Material Co., Ltd.

5.0
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Am häufigsten verwendete Art der PVD-Beschichtung: Plattenart-Chrom-Sputterziel

Am häufigsten verwendete Art der PVD-Beschichtung: Plattenart-Chrom-Sputterziel

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Niedriger Preis maßgeschneiderter Hersteller hochreines reines Chrommetall Cr Sputterziel für PVD-Beschichtung

Niedriger Preis maßgeschneiderter Hersteller hochreines reines Chrommetall Cr Sputterziel für PVD-Beschichtung

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf 99.999% Chrom Sputterziel Cr

Fabrikpreis Verkauf 99.999% Chrom Sputterziel Cr

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikverkauf Chrom-Sputterziel zur Herstellung von dünnen filmresistiven Dehnungsmessstreifen

Fabrikverkauf Chrom-Sputterziel zur Herstellung von dünnen filmresistiven Dehnungsmessstreifen

60,00-150,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Zylindrischer Magnetron-Sputtertarget für PVD-Vakuumbeschichtung Titanrohr Metallrohre Rohmaterialien Beschichtung Kathoden

Zylindrischer Magnetron-Sputtertarget für PVD-Vakuumbeschichtung Titanrohr Metallrohre Rohmaterialien Beschichtung Kathoden

800,00-1.500,00 $
1 Stück(MOQ)
Bogenabscheidung Kathodenbogen-Ionenbeschichtung Beschichtungsgerät Ziel

Bogenabscheidung Kathodenbogen-Ionenbeschichtung Beschichtungsgerät Ziel

2.500,00-2.600,00 $
3 sets(MOQ)
Maßgeschneiderter Hochreiner Titanblock Vakuum-Titanmaterial Multi-Bogen-Ionenbeschichtungsmaterial Metallziel

Maßgeschneiderter Hochreiner Titanblock Vakuum-Titanmaterial Multi-Bogen-Ionenbeschichtungsmaterial Metallziel

500,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Magnetronpistole mit kreisförmigem Planarziel für PVD-Vakuumbeschichtung

Magnetronpistole mit kreisförmigem Planarziel für PVD-Vakuumbeschichtung

11.900,00-12.000,00 $
2 sets(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 J.
·Hersteller/Werk
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Hochvakuum-Magnetron-Sputterquelle-Ziel für PVD-Beschichtungsprozess

Hochvakuum-Magnetron-Sputterquelle-Ziel für PVD-Beschichtungsprozess

1.800,00-2.000,00 $
1 set(MOQ)
Dreifach-Sputterziel mit DC-Strom PVD-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine

Dreifach-Sputterziel mit DC-Strom PVD-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine

38.000,00-39.500,00 $
1 set(MOQ)
Desktop-Dual-Ziel-Plasmasputterbeschichter für SEM-Proben und Chrom

Desktop-Dual-Ziel-Plasmasputterbeschichter für SEM-Proben und Chrom

7.900,00-8.500,00 $
1 Stück(MOQ)
Pulver Edelstahl Triple Target Plasma Beschichter mit 150W DC Hochspannungs-Stromversorgung für chirurgische Instrumente

Pulver Edelstahl Triple Target Plasma Beschichter mit 150W DC Hochspannungs-Stromversorgung für chirurgische Instrumente

12.000,00-13.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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99.9% Nickel-Chrom-Aluminium-Vakuumbeschichtung-Sputterziel für PVD-Prozess Chrom-Tantal-Ziel

99.9% Nickel-Chrom-Aluminium-Vakuumbeschichtung-Sputterziel für PVD-Prozess Chrom-Tantal-Ziel

55,00 $
1 Stück(MOQ)
Hitzebeständiger und hervorragender chemischer Stabilität Titanziel für Vakuumbeschichtung

Hitzebeständiger und hervorragender chemischer Stabilität Titanziel für Vakuumbeschichtung

60,00 $
1 Stück(MOQ)
Hitzebeständigkeit und ausgezeichnete chemische Stabilität Niobium Rundziel

Hitzebeständigkeit und ausgezeichnete chemische Stabilität Niobium Rundziel

19,00 $
5 Stücke(MOQ)
Titanium Rundziel als maßgefertigt Dí a 100*40

Titanium Rundziel als maßgefertigt Dí a 100*40

60,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Ti-Sputtering-Titan-Ziel Titan-Sputter-Ziel Vakuumbeschichtung Titan-Ziel für PVD-Multi-Arc-Vakuumbeschichtungsmaschine

Ti-Sputtering-Titan-Ziel Titan-Sputter-Ziel Vakuumbeschichtung Titan-Ziel für PVD-Multi-Arc-Vakuumbeschichtungsmaschine

35,00-50,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreine Sputter-Titanziele Preis für PVD-Beschichtung/Ti Sputter-Titanziel runde Titanziele zum Verkauf

Hochreine Sputter-Titanziele Preis für PVD-Beschichtung/Ti Sputter-Titanziel runde Titanziele zum Verkauf

80,00-300,00 $
1 Stück(MOQ)
Titan-Aluminium-Legierungs-PVD-Ziele Titan-Sputterziele Tial-Legierungsziel für Beschichtungen

Titan-Aluminium-Legierungs-PVD-Ziele Titan-Sputterziele Tial-Legierungsziel für Beschichtungen

80,00-300,00 $
1 Stück(MOQ)
PVD-Chrom-Sputterziel Chromziel/Cr-Sputterziel

PVD-Chrom-Sputterziel Chromziel/Cr-Sputterziel

130,00-300,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

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99.999% Hochreines Goldziel, Goldzielmaterial

99.999% Hochreines Goldziel, Goldzielmaterial

200,00 $
10 g(MOQ)
4n Hochwertiges Sputtertarget aus reinem Gold

4n Hochwertiges Sputtertarget aus reinem Gold

200,00 $
10 g(MOQ)
Reines Goldziel für Vakuum-Sputterbeschichtung

Reines Goldziel für Vakuum-Sputterbeschichtung

200,00 $
10 g(MOQ)
Premium 99.99% Reines Gold Sputterziel für fortschrittliche Anwendungen

Premium 99.99% Reines Gold Sputterziel für fortschrittliche Anwendungen

200,00 $
10 g(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 J.·5.0
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Chrom-Sputterziel für Präzisionselektronik und Formen

Chrom-Sputterziel für Präzisionselektronik und Formen

90,00-110,00 $
2 Stücke(MOQ)
Fabrikdirekt Hochrein Zirkoniumziel für optische Anwendungen

Fabrikdirekt Hochrein Zirkoniumziel für optische Anwendungen

90,00-99,00 $
10 Kg(MOQ)
Hochreines Molybdänfolie für Halbleiter-Sputtern (PVD) Mo-Folie anpassbare Dicke 0.01mm-0.2mm

Hochreines Molybdänfolie für Halbleiter-Sputtern (PVD) Mo-Folie anpassbare Dicke 0.01mm-0.2mm

200,00-450,00 $
50 Kg(MOQ)
Hochreines Nickelboot 99.6% Ni hitzebeständiger Nickel-Kruge für Labors, Halbleiter, Metallguss

Hochreines Nickelboot 99.6% Ni hitzebeständiger Nickel-Kruge für Labors, Halbleiter, Metallguss

22,00-26,00 $
50 Kg(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Spritzziel Titan Al Cu Chrom Ni Magnetron-Röhrenrotations-PVD-Beschichtung

Spritzziel Titan Al Cu Chrom Ni Magnetron-Röhrenrotations-PVD-Beschichtung

0,50-10,00 $
10 Stücke(MOQ)
Eloxierte Aluminium CNC-Drehteile Präzisionsmaschinen

Eloxierte Aluminium CNC-Drehteile Präzisionsmaschinen

0,50-10,00 $
10 Stücke(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Hochreines Gadolinium-Metall-Sputterziel für PVD-Anwendungen

Hochreines Gadolinium-Metall-Sputterziel für PVD-Anwendungen

55,00-85,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Aluminium Titan Alloy/50 Sputterziel für PVD-Beschichtungsmaschine

Aluminium Titan Alloy/50 Sputterziel für PVD-Beschichtungsmaschine

3.380,00 $
1 Ton(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

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Lanthanhexaborid Lab6 Keramiksputterziel für PVD-Dünnfilm-Beschichtung

Lanthanhexaborid Lab6 Keramiksputterziel für PVD-Dünnfilm-Beschichtung

50,00-200,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Vakuum-Metallisierung Titan-Aluminium-Legierung Ziel

Vakuum-Metallisierung Titan-Aluminium-Legierung Ziel

30,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Hersteller PVD-Beschichtungsmaschine für Wasserhahn Möbel Edelstahl

Hersteller PVD-Beschichtungsmaschine für Wasserhahn Möbel Edelstahl

15.000,00-150.000,00 $
1 Stück(MOQ)
PVD-Vakuumbeschichtungsmaschine, PVD-Vakuumbeschichtungsanlagen, PVD-Beschichtungsausrüstung, PVD-Beschichtungsmaschine

PVD-Vakuumbeschichtungsmaschine, PVD-Vakuumbeschichtungsanlagen, PVD-Beschichtungsausrüstung, PVD-Beschichtungsmaschine

25.000,00-88.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Edelstahlplatte Möbel Geschirr Besteck Geschirr große PVD Vakuumbeschichtungsmaschine

Edelstahlplatte Möbel Geschirr Besteck Geschirr große PVD Vakuumbeschichtungsmaschine

26.000,00-160.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Handelsunternehmen
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Hochreines Molybdänziel für fortschrittliche industrielle Anwendungen

Hochreines Molybdänziel für fortschrittliche industrielle Anwendungen

30,00-60,00 $
1 Kg(MOQ)
Premium rotierendes Wolframziel für effiziente Sputteranwendungen

Premium rotierendes Wolframziel für effiziente Sputteranwendungen

50,00-270,00 $
10 Kg(MOQ)
Nanograde geschmiedete Molybdän-Zielscheibe für gleichmäßige PVD-Beschichtung

Nanograde geschmiedete Molybdän-Zielscheibe für gleichmäßige PVD-Beschichtung

30,00-60,00 $
1 Kg(MOQ)
Anpassbarer Molybdän-Sputtertarget mit hoher Dichte für Halbleiter- und Glasbeschichtungsanwendungen

Anpassbarer Molybdän-Sputtertarget mit hoher Dichte für Halbleiter- und Glasbeschichtungsanwendungen

30,00-80,00 $
10 Kg(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Drehbares Tiox Sial Silber Sputtering Target Cathode Tube Hohe Qualität Reinheit für PVD Nano Dünnschichtmaterial

Drehbares Tiox Sial Silber Sputtering Target Cathode Tube Hohe Qualität Reinheit für PVD Nano Dünnschichtmaterial

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Uvtm Fabrik Sputtering Ziel Hersteller in China 18 Jahre Erfahrung Für Msvd und PVD Vakuum kontinuierliche Sputter Beschichtung Produktionslinie Vicky 13249153016

Uvtm Fabrik Sputtering Ziel Hersteller in China 18 Jahre Erfahrung Für Msvd und PVD Vakuum kontinuierliche Sputter Beschichtung Produktionslinie Vicky 13249153016

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
PVD Target Aluminium Al zylindrisch drehbarer Sputter Target 99,999% Reinheit 2N-5N verfügbar

PVD Target Aluminium Al zylindrisch drehbarer Sputter Target 99,999% Reinheit 2N-5N verfügbar

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Chrom Cr PVD Zielplanar-Bonding auf Cooper-Trägerplatte Oder Tube

Chrom Cr PVD Zielplanar-Bonding auf Cooper-Trägerplatte Oder Tube

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Customization Chrom Multi Arc Target Material Magnetron Sputtering für PVD-Beschichtung

Customization Chrom Multi Arc Target Material Magnetron Sputtering für PVD-Beschichtung

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
China Cu High Purity Kupferlegierung Sputtering Ziel für PVD Beschichtung

China Cu High Purity Kupferlegierung Sputtering Ziel für PVD Beschichtung

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Fabrik PVD Beschichtung Cu Platte Multi Arc Sputtering Target Kupfer Rotary Semiconductor

Fabrik PVD Beschichtung Cu Platte Multi Arc Sputtering Target Kupfer Rotary Semiconductor

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
99,999% Titanium Target Ti Target für PVD-Beschichtungsmaschine

99,999% Titanium Target Ti Target für PVD-Beschichtungsmaschine

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)

Sino Resources Import & Export (Liao Ning) Co., Ltd.

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Hip Chrome Sputtering Target für PVD-Beschichtung 99,5 Cr Target

Hip Chrome Sputtering Target für PVD-Beschichtung 99,5 Cr Target

60,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
Hip-Chrom-Sputterziel für dekorative PVD-Beschichtung

Hip-Chrom-Sputterziel für dekorative PVD-Beschichtung

70,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Chrom Sputtering Target Hip 99,5 Cr Target für PVD

Chrom Sputtering Target Hip 99,5 Cr Target für PVD

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
High Purity Chrome Sputtering Target 99,5 Runde Cr Ziel für PVD

High Purity Chrome Sputtering Target 99,5 Runde Cr Ziel für PVD

80,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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DC RF Dual Target Magnetron-Sputterablagerung für Metall- und Oxid-Dünnfilme

DC RF Dual Target Magnetron-Sputterablagerung für Metall- und Oxid-Dünnfilme

21.000,00-26.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Desktop Edelstahl-Hohlraum Einzelziel Magnetron-Sputter-Beschichtungsgerät

Desktop Edelstahl-Hohlraum Einzelziel Magnetron-Sputter-Beschichtungsgerät

8.730,00-8.900,00 $
1 Stück(MOQ)
Angepasster Magnetron-Sputterbeschichter mit 3 Zielen zur Herstellung von Metall

Angepasster Magnetron-Sputterbeschichter mit 3 Zielen zur Herstellung von Metall

28.500,00-40.100,00 $
1 Stück(MOQ)
3 Zoll Drei Ziel Magnetron Sputterbeschichter

3 Zoll Drei Ziel Magnetron Sputterbeschichter

28.500,00-40.100,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Hochreines Aluminium-Target Al, Aluminiumoxid-Target-Material, PVD-Beschichtung (Physical Vapor Deposition), Magnetron Sputtering Aluminium Target und Schweißen

Hochreines Aluminium-Target Al, Aluminiumoxid-Target-Material, PVD-Beschichtung (Physical Vapor Deposition), Magnetron Sputtering Aluminium Target und Schweißen

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Bornitrid (BN) Keramiknitrid PVD Sputtering Target, Titandiborid, Titanborid, Kundenspezifische Größe, Trägerplatte Bonding

Bornitrid (BN) Keramiknitrid PVD Sputtering Target, Titandiborid, Titanborid, Kundenspezifische Größe, Trägerplatte Bonding

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hochreines IGZO (Indium Gallium Zinkoxid) Zielmaterial für PVD-Magnetron-Sputtering Vakuumbeschichtung, Forschung und Experimentalmaterial

Hochreines IGZO (Indium Gallium Zinkoxid) Zielmaterial für PVD-Magnetron-Sputtering Vakuumbeschichtung, Forschung und Experimentalmaterial

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Niob-Ziel, Nb2O5-Ziel (Niob-Pentoxid), Monb-Ziel (Molybdän-Niob-Legierung) für PVD (Physical Vapor Deposition)

Niob-Ziel, Nb2O5-Ziel (Niob-Pentoxid), Monb-Ziel (Molybdän-Niob-Legierung) für PVD (Physical Vapor Deposition)

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Hochreines HF-Hafniumziel, HfO2 Hafniumdioxid-Ziel, Hfzro2 Ziel, PVD-Magnetron-Sputtering-Ziel für die Vakuumbeschichtung

Hochreines HF-Hafniumziel, HfO2 Hafniumdioxid-Ziel, Hfzro2 Ziel, PVD-Magnetron-Sputtering-Ziel für die Vakuumbeschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Barium Titanat Batio3 Target, Barium Strontium Titanat Target Basrtio3, PVD Magnetron Sputtering Target, Laborverbrauchsmaterial

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Bornitrid (BN) Keramiknitrid PVD Sputtering Target, Titandiborid, Titanborid, Kundenspezifische Größe, Trägerplatte Bonding

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Hochreines Edelmetall Ruthenium Target für Magnetron Sputtering Coating Deposition, PVD Coating Material mit verdampften Partikeln

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Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

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PVD-Vakuumbeschichtungsmaschine Zielanzeige-Rohrfilter Zirkonium-Zielrohr

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Edelstahl Schmuck Magnetron-Sputter PVD Goldbeschichtungsmaschine

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60.000,00-300.000,00 $
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Hcvac Kunststoff Aluminium Verdampfung PVD Vakuum Metallisierungsbeschichtungsmaschine

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60.000,00-300.000,00 $
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Edelstahl Wasserhahn/Dusche Halter Türgriffe PVD Metallbeschichtungsmaschine

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Yangzhou Jingge Semiconductor Technology Co., Ltd.

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6N Poly Silicon Target/Mono Silicon Target/Sputtering Silicon Target/Round Silicon for PVD-Beschichtung

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10,00-99,00 $
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6N Poly Silicon Target/Mono Silicon Target/Sputtering Silicon Target/Round Silicon for PVD-Beschichtung

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10,00-99,00 $
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