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etwa Silber-Sputterziel
  • Technologische Innovation
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Silber-Sputterziel60+ Fabriken verifiziert

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Plasma-Dampfabscheidungsmaterial Silberplatte Sputterziel für Dünnfilm-Beschichtung

Plasma-Dampfabscheidungsmaterial Silberplatte Sputterziel für Dünnfilm-Beschichtung

60,00-10.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Silberplattensputterziel für Magnetronbeschichtung

Silberplattensputterziel für Magnetronbeschichtung

99,00-6.999,00 $
1 Stück(MOQ)
99.9% Titan-Aluminium-Sputterziel Tial Act Ziel für Beschichtung

99.9% Titan-Aluminium-Sputterziel Tial Act Ziel für Beschichtung

50,00-900,00 $
1 Stück(MOQ)
Kupfer-Nickel-Sputterziel CuNi-Sputterziel für PVD-Beschichtung

Kupfer-Nickel-Sputterziel CuNi-Sputterziel für PVD-Beschichtung

30,00-999,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 J.
·Handelsunternehmen
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Reines Silbermetall-Sputterziel, 99.99 Edelmetalle Silber AG Zielanpassung

Reines Silbermetall-Sputterziel, 99.99 Edelmetalle Silber AG Zielanpassung

630,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikpreis Ruthenium-Sputterziel

Fabrikpreis Ruthenium-Sputterziel

1.000,00-5.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrik 99.95% Reines Ruthenium Sputterziel mit dem besten Preis, Edelmetall Ru IR Rh PT Zielmaterial Hersteller

Fabrik 99.95% Reines Ruthenium Sputterziel mit dem besten Preis, Edelmetall Ru IR Rh PT Zielmaterial Hersteller

1.000,00-5.000,00 $
1 Stück(MOQ)
3mm Dicke Ruthenium-Zielscheibe, Ru-Sputterziel

3mm Dicke Ruthenium-Zielscheibe, Ru-Sputterziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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TMAXCN Marke Sputterziel Silber (AG) Ziel

TMAXCN Marke Sputterziel Silber (AG) Ziel

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke VTC-16-3HD-LD 3 Rotationsziel-Plasma-Sputterbeschichtungsmaschine einschließlich 3 Zielen

TMAXCN Marke VTC-16-3HD-LD 3 Rotationsziel-Plasma-Sputterbeschichtungsmaschine einschließlich 3 Zielen

8.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Bänktop-Magnetron-Sputterbeschichter für die Abscheidung von leitfähigen Dünnschichten

Bänktop-Magnetron-Sputterbeschichter für die Abscheidung von leitfähigen Dünnschichten

5.000,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke VTC-3HD-VP 3 Köpfe RF/DC Plasma-Sputterbeschichtungsmaschine für Pulver mit 1 PPM Gasreinigungssystem

TMAXCN Marke VTC-3HD-VP 3 Köpfe RF/DC Plasma-Sputterbeschichtungsmaschine für Pulver mit 1 PPM Gasreinigungssystem

13.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Agal Legierungsziel Silber Aluminium Sputterziel für reflektierende Beschichtungen

Agal Legierungsziel Silber Aluminium Sputterziel für reflektierende Beschichtungen

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Herstellung von Titan-Chrom-Legierungsgranulaten, silbergrau, metallische Legierung, geeignet für die Luft- und Raumfahrt, Biomedizin und chemische Industrie

Herstellung von Titan-Chrom-Legierungsgranulaten, silbergrau, metallische Legierung, geeignet für die Luft- und Raumfahrt, Biomedizin und chemische Industrie

25,00-80,00 $
1 Kg(MOQ)
Herstellung von Titan-Molybdän-Legierung, silbergrau, metallische Titan-Molybdän-Legierung, geeignet für Hochtemperaturanwendungen

Herstellung von Titan-Molybdän-Legierung, silbergrau, metallische Titan-Molybdän-Legierung, geeignet für Hochtemperaturanwendungen

25,00-80,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreine Silbernanoröhren AG Nanopartikel CAS 7440-22-4

Hochreine Silbernanoröhren AG Nanopartikel CAS 7440-22-4

35,00-1.370,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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AlSc Legierung Ziel Aluminium Scandium Legierung Sputterziel für Halbleiter

AlSc Legierung Ziel Aluminium Scandium Legierung Sputterziel für Halbleiter

9.400,00 $
1 Kg(MOQ)
AlTi Legierung Ziel Aluminium Titan Legierung Sputterziel für integrierte Schaltungen Vakuumbeschichtung

AlTi Legierung Ziel Aluminium Titan Legierung Sputterziel für integrierte Schaltungen Vakuumbeschichtung

50,00-80,00 $
1 Kg(MOQ)
WTi Legierungsziel Wolfram Titan Legierung Sputterziel für Halbleiter /Speicherchips

WTi Legierungsziel Wolfram Titan Legierung Sputterziel für Halbleiter /Speicherchips

270,00 $
1 Kg(MOQ)
Mo-Ziel Molybdän-Sputterziel für LCD/integrierte Schaltungen

Mo-Ziel Molybdän-Sputterziel für LCD/integrierte Schaltungen

100,00-130,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 J.·5.0
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Präzisionsnickel-Sputterziele für präzise Instrumentenleitungsfilme

Präzisionsnickel-Sputterziele für präzise Instrumentenleitungsfilme

110,00-130,00 $
50 kilograms(MOQ)
Msgp Reine Nickel Planar Sputterziele für die Sensorherstellung Kern Garantie

Msgp Reine Nickel Planar Sputterziele für die Sensorherstellung Kern Garantie

160,00-200,00 $
50 kilograms(MOQ)
Msgp Hochdichte Nickel-Sputterziele - Perfekt geeignet für Beschichtungsanwendungen in der Medizintechnik

Msgp Hochdichte Nickel-Sputterziele - Perfekt geeignet für Beschichtungsanwendungen in der Medizintechnik

260,00-280,00 $
50 kilograms(MOQ)
Hochreine Nickel-Röhren-Sputtertargets - Anpassbar für PV-Solarzellen

Hochreine Nickel-Röhren-Sputtertargets - Anpassbar für PV-Solarzellen

200,00-220,00 $
50 kilograms(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Hochreines Mo Molybdän Planar Tubular Sputterziel Wert Preis Fabrik

Hochreines Mo Molybdän Planar Tubular Sputterziel Wert Preis Fabrik

80,00-500,00 $
1 Kg(MOQ)
PVD-Beschichtung Sputterziel Planar Rundchromfabrik

PVD-Beschichtung Sputterziel Planar Rundchromfabrik

50,00-300,00 $
1 Stück(MOQ)
Bi-Planar-Röhren-Sputterziel für PVD-Beschichtung zu einem günstigen Preis

Bi-Planar-Röhren-Sputterziel für PVD-Beschichtung zu einem günstigen Preis

80,00-500,00 $
1 Stück(MOQ)
99.999% Reinheit 5n Aluminium Al Beschichtung Ziel Herstellung in China

99.999% Reinheit 5n Aluminium Al Beschichtung Ziel Herstellung in China

80,00-500,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

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Gold-Sputterziel 99.99% Hochwertiges Au-Ziel Reines Goldziel

Gold-Sputterziel 99.99% Hochwertiges Au-Ziel Reines Goldziel

200,00 $
100 g(MOQ)
99.99% Hochwertiges Gold-Sputterziel, Au-Ziel

99.99% Hochwertiges Gold-Sputterziel, Au-Ziel

200,00 $
100 g(MOQ)
Hochreines Gold-Sputterzielmaterial maßgeschneiderte Verarbeitung

Hochreines Gold-Sputterzielmaterial maßgeschneiderte Verarbeitung

200,00 $
100 g(MOQ)
Hochreines Gold-Sputterziel, geeignet für 5g Materialien

Hochreines Gold-Sputterziel, geeignet für 5g Materialien

200,00 $
100 g(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Fabrikpreis 99.95% Reines Tantal Sputterziel Metall Ta Tantalum Planare Ziele

Fabrikpreis 99.95% Reines Tantal Sputterziel Metall Ta Tantalum Planare Ziele

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Titan-Sputtertarget, planar für die Halbleiterindustrie, integrierte Schaltungen, Bau- und Automobilglas

Hochreines Titan-Sputtertarget, planar für die Halbleiterindustrie, integrierte Schaltungen, Bau- und Automobilglas

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Ti Target Titan-Sputterziel / Titan-Rotationsziel für Halbleiter / Vakuumbeschichtungssputtern

Ti Target Titan-Sputterziel / Titan-Rotationsziel für Halbleiter / Vakuumbeschichtungssputtern

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Zr702 Zr705 Zirkonium-Rohrziel Wärmeleitfähigkeit Hochrein Sputterziel

Zr702 Zr705 Zirkonium-Rohrziel Wärmeleitfähigkeit Hochrein Sputterziel

1,00-3.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Zirkonium 705 Sputterziel für hochwertige maßgeschneiderte Metalllösungen

Zirkonium 705 Sputterziel für hochwertige maßgeschneiderte Metalllösungen

Verhandelbar
10 Kg(MOQ)
Hochwertige Zirkonium 705 Sputterziele für maßgeschneiderte Lösungen heute

Hochwertige Zirkonium 705 Sputterziele für maßgeschneiderte Lösungen heute

Verhandelbar
10 Kg(MOQ)
Hochwertige polierte Zirkoniumplatte für vielseitige maßgeschneiderte Anwendungen

Hochwertige polierte Zirkoniumplatte für vielseitige maßgeschneiderte Anwendungen

Verhandelbar
10 Kg(MOQ)
Hohe Korrosionsbeständigkeit Hohe Ebenheit OEM ODM maßgeschneiderte reine Zirkoniumplatte

Hohe Korrosionsbeständigkeit Hohe Ebenheit OEM ODM maßgeschneiderte reine Zirkoniumplatte

Verhandelbar
10 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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99.99% Hochreines Gold-Zinn-Legierung Sputterziel

99.99% Hochreines Gold-Zinn-Legierung Sputterziel

265.000,00 $
10 Stücke(MOQ)
Silberkupfer-Ziel PVD-Beschichtung Sputterziel planar rundes Ziel

Silberkupfer-Ziel PVD-Beschichtung Sputterziel planar rundes Ziel

8.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Zinn Silber Kupfer Ziel Sac Ziel

Zinn Silber Kupfer Ziel Sac Ziel

6.500,00 $
1 Stück(MOQ)
Zinn Silber Kupfer Materialien Hochreines Legierungszielmaterial

Zinn Silber Kupfer Materialien Hochreines Legierungszielmaterial

25.500,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shandong Quansheng Material Technology Group Co., LTD

3 J.
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Premium Wolfram-Sputterziele für Vakuumbeschichtungsprozesse

Premium Wolfram-Sputterziele für Vakuumbeschichtungsprozesse

56,00-61,00 $
5 Kg(MOQ)
Ultra Hochrein 99.95% Molybdän Sputterplatte für Präzisionsanwendungen

Ultra Hochrein 99.95% Molybdän Sputterplatte für Präzisionsanwendungen

61,00-69,00 $
1 Kg(MOQ)
Bestseller ASTM-B-386 Typ Molybdänplatte Heißverkaufende Metalle & Metallprodukte

Bestseller ASTM-B-386 Typ Molybdänplatte Heißverkaufende Metalle & Metallprodukte

78,00-88,00 $
100 Kg(MOQ)
Premium Niobiumplatte 99.95% ASTM B393 für Schmuckherstellung

Premium Niobiumplatte 99.95% ASTM B393 für Schmuckherstellung

301,00-451,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Aluminium Titan Alloy/50 Sputterziel für PVD-Beschichtungsmaschine

Aluminium Titan Alloy/50 Sputterziel für PVD-Beschichtungsmaschine

3.380,00 $
1 Ton(MOQ)
Aluminium Titan Alti Beschichtungsstarget, Titan Aluminium Tial Beschichtungsstarget

Aluminium Titan Alti Beschichtungsstarget, Titan Aluminium Tial Beschichtungsstarget

3.380,00 $
1 Ton(MOQ)
1/4

BIOTIO SHANGHAI CORP CO., LTD.

5.0
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Aluminiumkugeln API-625 Sputterziel hohe Reinheit 99.999% auf Lager

Aluminiumkugeln API-625 Sputterziel hohe Reinheit 99.999% auf Lager

3.180,00-8.500,00 $
1 Ton(MOQ)
Aluminiumkugeln APP-512 Sputterziel hohe Reinheit 99.999% auf Lager

Aluminiumkugeln APP-512 Sputterziel hohe Reinheit 99.999% auf Lager

3.180,00-8.500,00 $
1 Ton(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Pusheng Iron &Steel Co., Ltd.

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Rohstoffe Hochrein 99.7% Siliziumblöcke Metallziele Reines Siliziumblock Sputterziele

Rohstoffe Hochrein 99.7% Siliziumblöcke Metallziele Reines Siliziumblock Sputterziele

2.000,00-2.500,00 $
22 Tonnen(MOQ)
Hochreines 99.999% polykristallines Silizium Si Sputterziel Polysilizium

Hochreines 99.999% polykristallines Silizium Si Sputterziel Polysilizium

2.769,00-3.100,00 $
22 Tonnen(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Drehbares Tiox Sial Silber Sputtering Target Cathode Tube Hohe Qualität Reinheit für PVD Nano Dünnschichtmaterial

Drehbares Tiox Sial Silber Sputtering Target Cathode Tube Hohe Qualität Reinheit für PVD Nano Dünnschichtmaterial

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Uvtm Fabrik Sputtering Ziel Hersteller in China 18 Jahre Erfahrung Für Msvd und PVD Vakuum kontinuierliche Sputter Beschichtung Produktionslinie Vicky 13249153016

Uvtm Fabrik Sputtering Ziel Hersteller in China 18 Jahre Erfahrung Für Msvd und PVD Vakuum kontinuierliche Sputter Beschichtung Produktionslinie Vicky 13249153016

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
AZO Sputtertarget Beschichtungsmaterial Keramik Target für die Glasindustrie Dünnschichtbeschichtung

AZO Sputtertarget Beschichtungsmaterial Keramik Target für die Glasindustrie Dünnschichtbeschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Uvtm Ziele auf Ausstellung für Spritzenbeschichtung Vicky13249153016

Uvtm Ziele auf Ausstellung für Spritzenbeschichtung Vicky13249153016

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 J.
·Hersteller/Werk
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Lab DC Magnetron-Sputterbeschichter mit Silber-, Gold- und Platin-Sputterziel

Lab DC Magnetron-Sputterbeschichter mit Silber-, Gold- und Platin-Sputterziel

18.000,00-19.500,00 $
1 set(MOQ)
Neues Design PVD-Magnetron-Sputtersystem zur Beschichtung von Gold, Silber, Platin

Neues Design PVD-Magnetron-Sputtersystem zur Beschichtung von Gold, Silber, Platin

39.500,00 $
1 Stück(MOQ)
Desktop-Dual-Ziel-Plasmasputterbeschichter für SEM-Proben und Chrom

Desktop-Dual-Ziel-Plasmasputterbeschichter für SEM-Proben und Chrom

7.900,00-8.500,00 $
1 Stück(MOQ)
Pulver Edelstahl Triple Target Plasma Beschichter mit 150W DC Hochspannungs-Stromversorgung für chirurgische Instrumente

Pulver Edelstahl Triple Target Plasma Beschichter mit 150W DC Hochspannungs-Stromversorgung für chirurgische Instrumente

12.000,00-13.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Handelsunternehmen
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Anpassbarer Molybdän-Sputtertarget mit hoher Dichte für Halbleiter- und Glasbeschichtungsanwendungen

Anpassbarer Molybdän-Sputtertarget mit hoher Dichte für Halbleiter- und Glasbeschichtungsanwendungen

30,00-80,00 $
10 Kg(MOQ)
Hochreines Molybdänziel für fortschrittliche industrielle Anwendungen

Hochreines Molybdänziel für fortschrittliche industrielle Anwendungen

30,00-60,00 $
1 Kg(MOQ)
Premium rotierendes Wolframziel für effiziente Sputteranwendungen

Premium rotierendes Wolframziel für effiziente Sputteranwendungen

50,00-270,00 $
10 Kg(MOQ)
Reines Molybdänziel Ultra Dicht 99.9% 100mm Durchmesser Dünnfilm-Beschichtung Optional RoHS

Reines Molybdänziel Ultra Dicht 99.9% 100mm Durchmesser Dünnfilm-Beschichtung Optional RoHS

30,00-60,00 $
10 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 J.
·Handelsunternehmen
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Hochwertiges Niobium-Sputterziel mit CAS-Nr. 7440-03-1

Hochwertiges Niobium-Sputterziel mit CAS-Nr. 7440-03-1

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Samarium Metall Zielstab Granulat CAS Nr 7440-19-9 Sm 3n 4n

Samarium Metall Zielstab Granulat CAS Nr 7440-19-9 Sm 3n 4n

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges ITO Rotationssputterziel 4n In2o3 und Sno2

Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges ITO Rotationssputterziel 4n In2o3 und Sno2

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Niedrige Dichte 4n ITO Kleine Runde Zielscheibe

Fabrikpreis Verkauf Niedrige Dichte 4n ITO Kleine Runde Zielscheibe

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Hochreines Silbergraues Dehnbarkeit Tantalblech Ziel für Vakuumbeschichtung

Hochreines Silbergraues Dehnbarkeit Tantalblech Ziel für Vakuumbeschichtung

73,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochharter polierter Oberflächen- und höherreiner Nickelrohrziel

Hochharter polierter Oberflächen- und höherreiner Nickelrohrziel

30,00 $
10 Stücke(MOQ)
1/4

Jiyuan Yujin Target Material Technology Co., Ltd

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Sputternde Silberziele für Low-E-Glas

Sputternde Silberziele für Low-E-Glas

Verhandelbar
1 Kg(MOQ)
Sputtering Silver Target für elektronische Bauteile

Sputtering Silver Target für elektronische Bauteile

Verhandelbar
1 Kg(MOQ)

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Magnetron Sputtering High-Purity Silver (AG) Beschichtungsziele, Silberlegierungsröhren, Drähte, Partikel, Silberplatten, PVD-Beschichtungsmaterialien.

Magnetron Sputtering High-Purity Silver (AG) Beschichtungsziele, Silberlegierungsröhren, Drähte, Partikel, Silberplatten, PVD-Beschichtungsmaterialien.

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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5-200kw Typische Sputterquelle für die Dünnfilm-Beschichtungsindustrie Rotationsmagnetron-Sputterkathode Rotationssputterziel

5-200kw Typische Sputterquelle für die Dünnfilm-Beschichtungsindustrie Rotationsmagnetron-Sputterkathode Rotationssputterziel

6.900,00-7.000,00 $
2 sets(MOQ)
Vakuum-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine für die Herstellung von Silber-Spiegeln

Vakuum-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine für die Herstellung von Silber-Spiegeln

500.000,00-800.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Vakuum-Silber-Sputterbeschichtung Flachglas-Spiegel Produktionslinie

Vakuum-Silber-Sputterbeschichtung Flachglas-Spiegel Produktionslinie

560.000,00-1.200.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Vakuum-Glas-Magnetron-Sputterbeschichtungsanlage für Aluminium-Silber-Spiegel

Vakuum-Glas-Magnetron-Sputterbeschichtungsanlage für Aluminium-Silber-Spiegel

1.200.000,00 $
1 sets(MOQ)
1/4

UV Tech Material Co., Ltd.

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Silber-Platte Sputterziel für Magnetron-Beschichtung, Edelmetall AG Silber Sputterziel für Magnetron-Beschichtung

Silber-Platte Sputterziel für Magnetron-Beschichtung, Edelmetall AG Silber Sputterziel für Magnetron-Beschichtung

Verhandelbar
2 Stücke(MOQ)
Drehbares AG-Ziel Hochwertiges Sputterziel

Drehbares AG-Ziel Hochwertiges Sputterziel

Verhandelbar
2 Stücke(MOQ)
AG Silber Sputterziel

AG Silber Sputterziel

Verhandelbar
2 Stücke(MOQ)
Planar Silver Target für Low-E Glasfolie, Solarzellen-Elektrodenfolie

Planar Silver Target für Low-E Glasfolie, Solarzellen-Elektrodenfolie

Verhandelbar
2 Stücke(MOQ)

Hubei Fotma Machinery Co., Ltd.

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Kundenspezifisches Wolframprodukt Sputtern reines Wolframziel

Kundenspezifisches Wolframprodukt Sputtern reines Wolframziel

40,00-50,00 $
1 Kg(MOQ)
99.95% Molybdän Ziel Sputtern Molybdän Ziel

99.95% Molybdän Ziel Sputtern Molybdän Ziel

5,00-200,00 $
1 Kilogram(MOQ)
99.95% Reine maschinell bearbeitete schwarze Wolframplatten Wolframblech

99.95% Reine maschinell bearbeitete schwarze Wolframplatten Wolframblech

1,00-20,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Tengzhou Fast Silver Trading Co., Limited.

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99,99% Reinheit Material Metall Titan Sputtering Ziel Rund Ti Titan Ziel

99,99% Reinheit Material Metall Titan Sputtering Ziel Rund Ti Titan Ziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Reine Metallstücke hoher Reinheitsgrad-silberne Spritzenziel-AG für Dünnfilm-Absetzung

Reine Metallstücke hoher Reinheitsgrad-silberne Spritzenziel-AG für Dünnfilm-Absetzung

200,00 $
1 Stück(MOQ)
Hoher Reinheitsgrad-Goldziel-Au-Spritzenziel für Halbleiter-Dünnfilm-Absetzung

Hoher Reinheitsgrad-Goldziel-Au-Spritzenziel für Halbleiter-Dünnfilm-Absetzung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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99.9999% 6n Hochreine Metallkupfer-Sputtertargets Trägerplatte

99.9999% 6n Hochreine Metallkupfer-Sputtertargets Trägerplatte

335,00-350,00 $
100 Kg(MOQ)
99.9999% Reine Kupferpellets 6n 3mm Cu-Ofe/C10100 für Vakuumabscheidung &3D Druck

99.9999% Reine Kupferpellets 6n 3mm Cu-Ofe/C10100 für Vakuumabscheidung &3D Druck

45,99-59,99 $
100 kilograms(MOQ)
Maßgeschneiderte 2mm/3mm/5mm Hochreine 6n Kupferpellets Verdampfungsmaterialien

Maßgeschneiderte 2mm/3mm/5mm Hochreine 6n Kupferpellets Verdampfungsmaterialien

35,00-67,00 $
100 kilograms(MOQ)
1/4

Luoyang Modi Tungsten & Molybdenum Material Co., Ltd.

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Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

75,00-95,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Sputterziel für Low-E Glas Nicr80-20wt PVD-Beschichtung

Sputterziel für Low-E Glas Nicr80-20wt PVD-Beschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Spritzenziel

Spritzenziel

18,00-20,00 $
1 Stück(MOQ)
13
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