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etwa sprudelndes silbernes Ziel
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sprudelndes silbernes Ziel60+ Fabriken verifiziert

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Plasma-Dampfabscheidungsmaterial Silberplatte Sputterziel für Dünnfilm-Beschichtung

Plasma-Dampfabscheidungsmaterial Silberplatte Sputterziel für Dünnfilm-Beschichtung

60,00-10.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Silberplattensputterziel für Magnetronbeschichtung

Silberplattensputterziel für Magnetronbeschichtung

99,00-6.999,00 $
1 Stück(MOQ)
Professionelle Herstellung von hochreinem runden Kobaltmetall Kobalt-Sputterziel mit niedrigem Preis

Professionelle Herstellung von hochreinem runden Kobaltmetall Kobalt-Sputterziel mit niedrigem Preis

20,00-2.000,00 $
1 Stück(MOQ)
99.9% Titan-Aluminium-Sputterziel Tial Act Ziel für Beschichtung

99.9% Titan-Aluminium-Sputterziel Tial Act Ziel für Beschichtung

50,00-900,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 J.
·Handelsunternehmen
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Reines Silbermetall-Sputterziel, 99.99 Edelmetalle Silber AG Zielanpassung

Reines Silbermetall-Sputterziel, 99.99 Edelmetalle Silber AG Zielanpassung

630,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikpreis Ruthenium-Sputterziel

Fabrikpreis Ruthenium-Sputterziel

1.000,00-5.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrik 99.95% Reines Ruthenium Sputterziel mit dem besten Preis, Edelmetall Ru IR Rh PT Zielmaterial Hersteller

Fabrik 99.95% Reines Ruthenium Sputterziel mit dem besten Preis, Edelmetall Ru IR Rh PT Zielmaterial Hersteller

1.000,00-5.000,00 $
1 Stück(MOQ)
3mm Dicke Ruthenium-Zielscheibe, Ru-Sputterziel

3mm Dicke Ruthenium-Zielscheibe, Ru-Sputterziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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TMAXCN Marke Sputterziel Silber (AG) Ziel

TMAXCN Marke Sputterziel Silber (AG) Ziel

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke VTC-16-3HD-LD 3 Rotationsziel-Plasma-Sputterbeschichtungsmaschine einschließlich 3 Zielen

TMAXCN Marke VTC-16-3HD-LD 3 Rotationsziel-Plasma-Sputterbeschichtungsmaschine einschließlich 3 Zielen

8.000,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke- VTC-3RF DC Magnetron Sputtering Option 3 Köpfe 1" RF Plasma Magnetron Sputtering Beschichtungsmaschine

TMAXCN Marke- VTC-3RF DC Magnetron Sputtering Option 3 Köpfe 1" RF Plasma Magnetron Sputtering Beschichtungsmaschine

12.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Bänktop-Magnetron-Sputterbeschichter für die Abscheidung von leitfähigen Dünnschichten

Bänktop-Magnetron-Sputterbeschichter für die Abscheidung von leitfähigen Dünnschichten

5.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Agal Legierungsziel Silber Aluminium Sputterziel für reflektierende Beschichtungen

Agal Legierungsziel Silber Aluminium Sputterziel für reflektierende Beschichtungen

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreine Silbernanoröhren AG Nanopartikel CAS 7440-22-4

Hochreine Silbernanoröhren AG Nanopartikel CAS 7440-22-4

35,00-1.370,00 $
1 Kg(MOQ)
Premium 99.99% Reinaluminium-Ingot für industrielle Verwendung

Premium 99.99% Reinaluminium-Ingot für industrielle Verwendung

30,00-50,00 $
1 Kg(MOQ)
Herstellung von Titan-Molybdän-Legierung, silbergrau, metallische Titan-Molybdän-Legierung, geeignet für Hochtemperaturanwendungen

Herstellung von Titan-Molybdän-Legierung, silbergrau, metallische Titan-Molybdän-Legierung, geeignet für Hochtemperaturanwendungen

25,00-80,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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AlSc Legierung Ziel Aluminium Scandium Legierung Sputterziel für Halbleiter

AlSc Legierung Ziel Aluminium Scandium Legierung Sputterziel für Halbleiter

9.400,00 $
1 Kg(MOQ)
AlTi Legierung Ziel Aluminium Titan Legierung Sputterziel für integrierte Schaltungen Vakuumbeschichtung

AlTi Legierung Ziel Aluminium Titan Legierung Sputterziel für integrierte Schaltungen Vakuumbeschichtung

50,00-80,00 $
1 Kg(MOQ)
Ni Target Nickel Sputterziel für Halbleiter

Ni Target Nickel Sputterziel für Halbleiter

100,00-130,00 $
1 Kg(MOQ)
Ti Target Titan-Sputterziel / Titan-Rotationsziel für Halbleiter / Vakuumbeschichtungssputtern

Ti Target Titan-Sputterziel / Titan-Rotationsziel für Halbleiter / Vakuumbeschichtungssputtern

20,00-100,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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PVD-Beschichtung Sputterziel planar rund Aluminium Al Fabrik

PVD-Beschichtung Sputterziel planar rund Aluminium Al Fabrik

80,00-500,00 $
1 Stück(MOQ)
Chromium Cr Multi-PCS Konstruktion Sputterziel 99.99% Reines China PVD Beschichtung

Chromium Cr Multi-PCS Konstruktion Sputterziel 99.99% Reines China PVD Beschichtung

50,00-300,00 $
1 Stück(MOQ)
Plattensputterziel Stannum Zinn Sn Metall für PVD-Maschine

Plattensputterziel Stannum Zinn Sn Metall für PVD-Maschine

60,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Aluminium Al Planarer Rohr-Sputterziel Günstiger Preis Fabrik

Hochreines Aluminium Al Planarer Rohr-Sputterziel Günstiger Preis Fabrik

80,00-500,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 J.·5.0
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Msgp maßgeschneiderte Nickel-Sputterziele - Ideal für Anwendungen der Dünnfilmabscheidung

Msgp maßgeschneiderte Nickel-Sputterziele - Ideal für Anwendungen der Dünnfilmabscheidung

100,00-120,00 $
50 kilograms(MOQ)
Präzisionsnickel-Sputterziele für präzise Instrumentenleitungsfilme

Präzisionsnickel-Sputterziele für präzise Instrumentenleitungsfilme

110,00-130,00 $
50 kilograms(MOQ)
Msgp Reine Nickel Planar Sputterziele für die Sensorherstellung Kern Garantie

Msgp Reine Nickel Planar Sputterziele für die Sensorherstellung Kern Garantie

160,00-200,00 $
50 kilograms(MOQ)
Verschleißfeste Nickel-Sputtertargets für die Beschichtung von elektronischen Sensorsystemen in der Automobilindustrie

Verschleißfeste Nickel-Sputtertargets für die Beschichtung von elektronischen Sensorsystemen in der Automobilindustrie

120,00-140,00 $
50 kilograms(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

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Hochreines Gold-Sputterziel, geeignet für 5g Materialien

Hochreines Gold-Sputterziel, geeignet für 5g Materialien

200,00 $
100 g(MOQ)
Hochreines Gold-Sputterzielmaterial maßgeschneiderte Verarbeitung

Hochreines Gold-Sputterzielmaterial maßgeschneiderte Verarbeitung

200,00 $
100 g(MOQ)
99.99% Hochwertiges Gold-Sputterziel, Au-Ziel

99.99% Hochwertiges Gold-Sputterziel, Au-Ziel

200,00 $
100 g(MOQ)
99.99% Hochwertiger Gold-Sputtertarget aus reinem Gold

99.99% Hochwertiger Gold-Sputtertarget aus reinem Gold

200,00 $
10 g(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Hochreines Titan-Sputtertarget, planar für die Halbleiterindustrie, integrierte Schaltungen, Bau- und Automobilglas

Hochreines Titan-Sputtertarget, planar für die Halbleiterindustrie, integrierte Schaltungen, Bau- und Automobilglas

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikpreis 99.95% Reines Tantal Sputterziel Metall Ta Tantalum Planare Ziele

Fabrikpreis 99.95% Reines Tantal Sputterziel Metall Ta Tantalum Planare Ziele

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Ti Target Titan-Sputterziel / Titan-Rotationsziel für Halbleiter / Vakuumbeschichtungssputtern

Ti Target Titan-Sputterziel / Titan-Rotationsziel für Halbleiter / Vakuumbeschichtungssputtern

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Zr702 Zr705 Zirkonium-Rohrziel Wärmeleitfähigkeit Hochrein Sputterziel

Zr702 Zr705 Zirkonium-Rohrziel Wärmeleitfähigkeit Hochrein Sputterziel

1,00-3.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Hochwertige Zirkonium 705 Sputterziele für maßgeschneiderte Lösungen heute

Hochwertige Zirkonium 705 Sputterziele für maßgeschneiderte Lösungen heute

Verhandelbar
10 Kg(MOQ)
Zirkonium 705 Sputterziel für hochwertige maßgeschneiderte Metalllösungen

Zirkonium 705 Sputterziel für hochwertige maßgeschneiderte Metalllösungen

Verhandelbar
10 Kg(MOQ)
Hochverschleißumgebung Hohe Ebenheit OEM ODM Maßgeschneiderte glänzende Oberfläche Zirkoniumplatte

Hochverschleißumgebung Hohe Ebenheit OEM ODM Maßgeschneiderte glänzende Oberfläche Zirkoniumplatte

Verhandelbar
10 Kg(MOQ)
Hochtemperaturstabile Polierung OEM ODM maßgeschneiderte Zirkoniumplatte

Hochtemperaturstabile Polierung OEM ODM maßgeschneiderte Zirkoniumplatte

Verhandelbar
10 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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99.99% Hochreines Gold-Zinn-Legierung Sputterziel

99.99% Hochreines Gold-Zinn-Legierung Sputterziel

265.000,00 $
10 Stücke(MOQ)
Silberkupfer-Ziel PVD-Beschichtung Sputterziel planar rundes Ziel

Silberkupfer-Ziel PVD-Beschichtung Sputterziel planar rundes Ziel

8.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Zinn Silber Kupfer Ziel Sac Ziel

Zinn Silber Kupfer Ziel Sac Ziel

6.500,00 $
1 Stück(MOQ)
Zinn Silber Kupfer Materialien Hochreines Legierungszielmaterial

Zinn Silber Kupfer Materialien Hochreines Legierungszielmaterial

25.500,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shandong Quansheng Material Technology Group Co., LTD

3 J.
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Premium Wolfram-Sputterziele für Vakuumbeschichtungsprozesse

Premium Wolfram-Sputterziele für Vakuumbeschichtungsprozesse

56,00-61,00 $
5 Kg(MOQ)
Ultra Hochrein 99.95% Molybdän Sputterplatte für Präzisionsanwendungen

Ultra Hochrein 99.95% Molybdän Sputterplatte für Präzisionsanwendungen

61,00-69,00 $
1 Kg(MOQ)
Industrielle Verwendung Hochleistungs-Molybdänplatte Verschleißfest Maßanfertigung

Industrielle Verwendung Hochleistungs-Molybdänplatte Verschleißfest Maßanfertigung

78,00-88,00 $
100 Kg(MOQ)
Premium Molybdänplatte - 99.95% Hochreine Optionen

Premium Molybdänplatte - 99.95% Hochreine Optionen

78,00-88,00 $
100 Kg(MOQ)
1/4

BIOTIO SHANGHAI CORP CO., LTD.

5.0
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Aluminiumkugeln API-625 Sputterziel hohe Reinheit 99.999% auf Lager

Aluminiumkugeln API-625 Sputterziel hohe Reinheit 99.999% auf Lager

3.180,00-8.500,00 $
1 Ton(MOQ)
Aluminiumkugeln APP-512 Sputterziel hohe Reinheit 99.999% auf Lager

Aluminiumkugeln APP-512 Sputterziel hohe Reinheit 99.999% auf Lager

3.180,00-8.500,00 $
1 Ton(MOQ)
1/4

Jinan Hengcheng Aluminum Co., Ltd.

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Aluminium Titan Alloy/50 Sputterziel für PVD-Beschichtungsmaschine

Aluminium Titan Alloy/50 Sputterziel für PVD-Beschichtungsmaschine

3.380,00 $
1 Ton(MOQ)
Aluminium Titan Alti Beschichtungsstarget, Titan Aluminium Tial Beschichtungsstarget

Aluminium Titan Alti Beschichtungsstarget, Titan Aluminium Tial Beschichtungsstarget

3.380,00 $
1 Ton(MOQ)
1/4

Inner Mongolia Pusheng Iron &Steel Co., Ltd.

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Rohstoffe Hochrein 99.7% Siliziumblöcke Metallziele Reines Siliziumblock Sputterziele

Rohstoffe Hochrein 99.7% Siliziumblöcke Metallziele Reines Siliziumblock Sputterziele

2.000,00-2.500,00 $
22 Tonnen(MOQ)
Hochreines 99.999% polykristallines Silizium Si Sputterziel Polysilizium

Hochreines 99.999% polykristallines Silizium Si Sputterziel Polysilizium

2.769,00-3.100,00 $
22 Tonnen(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Drehbares Tiox Sial Silber Sputtering Target Cathode Tube Hohe Qualität Reinheit für PVD Nano Dünnschichtmaterial

Drehbares Tiox Sial Silber Sputtering Target Cathode Tube Hohe Qualität Reinheit für PVD Nano Dünnschichtmaterial

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
PVD Target Aluminium Al zylindrisch drehbarer Sputter Target 99,999% Reinheit 2N-5N verfügbar

PVD Target Aluminium Al zylindrisch drehbarer Sputter Target 99,999% Reinheit 2N-5N verfügbar

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Uvtm Fabrik Sputtering Ziel Hersteller in China 18 Jahre Erfahrung Für Msvd und PVD Vakuum kontinuierliche Sputter Beschichtung Produktionslinie Vicky 13249153016

Uvtm Fabrik Sputtering Ziel Hersteller in China 18 Jahre Erfahrung Für Msvd und PVD Vakuum kontinuierliche Sputter Beschichtung Produktionslinie Vicky 13249153016

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Rotary Indium Target in Sputtering Target

Rotary Indium Target in Sputtering Target

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 J.
·Hersteller/Werk
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Lab DC Magnetron-Sputterbeschichter mit Silber-, Gold- und Platin-Sputterziel

Lab DC Magnetron-Sputterbeschichter mit Silber-, Gold- und Platin-Sputterziel

18.000,00-19.500,00 $
1 set(MOQ)
Neues Design PVD-Magnetron-Sputtersystem zur Beschichtung von Gold, Silber, Platin

Neues Design PVD-Magnetron-Sputtersystem zur Beschichtung von Gold, Silber, Platin

39.500,00 $
1 Stück(MOQ)
Pulver Edelstahl Triple Target Plasma Beschichter mit 150W DC Hochspannungs-Stromversorgung für chirurgische Instrumente

Pulver Edelstahl Triple Target Plasma Beschichter mit 150W DC Hochspannungs-Stromversorgung für chirurgische Instrumente

12.000,00-13.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Desktop-Dual-Ziel-Plasmasputterbeschichter für SEM-Proben und Chrom

Desktop-Dual-Ziel-Plasmasputterbeschichter für SEM-Proben und Chrom

7.900,00-8.500,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Handelsunternehmen
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Anpassbarer Molybdän-Sputtertarget mit hoher Dichte für Halbleiter- und Glasbeschichtungsanwendungen

Anpassbarer Molybdän-Sputtertarget mit hoher Dichte für Halbleiter- und Glasbeschichtungsanwendungen

30,00-80,00 $
10 Kg(MOQ)
Reines Molybdänziel Ultra Dicht 99.9% 100mm Durchmesser Dünnfilm-Beschichtung Optional RoHS

Reines Molybdänziel Ultra Dicht 99.9% 100mm Durchmesser Dünnfilm-Beschichtung Optional RoHS

30,00-60,00 $
10 Kg(MOQ)
Hochreines Molybdänziel für fortschrittliche industrielle Anwendungen

Hochreines Molybdänziel für fortschrittliche industrielle Anwendungen

30,00-60,00 $
1 Kg(MOQ)
Premium rotierendes Wolframziel für effiziente Sputteranwendungen

Premium rotierendes Wolframziel für effiziente Sputteranwendungen

50,00-270,00 $
10 Kg(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 J.
·Handelsunternehmen
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Hochwertiges Niobium-Sputterziel mit CAS-Nr. 7440-03-1

Hochwertiges Niobium-Sputterziel mit CAS-Nr. 7440-03-1

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Samarium Metall Zielstab Granulat CAS Nr 7440-19-9 Sm 3n 4n

Samarium Metall Zielstab Granulat CAS Nr 7440-19-9 Sm 3n 4n

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges ITO Rotationssputterziel 4n In2o3 und Sno2

Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges ITO Rotationssputterziel 4n In2o3 und Sno2

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Niedrige Dichte 4n ITO Kleine Runde Zielscheibe

Fabrikpreis Verkauf Niedrige Dichte 4n ITO Kleine Runde Zielscheibe

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Hochharter polierter Oberflächen- und höherreiner Nickelrohrziel

Hochharter polierter Oberflächen- und höherreiner Nickelrohrziel

30,00 $
10 Stücke(MOQ)
Hochreines Silbergraues Dehnbarkeit Tantalblech Ziel für Vakuumbeschichtung

Hochreines Silbergraues Dehnbarkeit Tantalblech Ziel für Vakuumbeschichtung

73,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Jiyuan Yujin Target Material Technology Co., Ltd

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Sputternde Silberziele für Low-E-Glas

Sputternde Silberziele für Low-E-Glas

Verhandelbar
1 Kg(MOQ)
Sputtering Silver Target für elektronische Bauteile

Sputtering Silver Target für elektronische Bauteile

Verhandelbar
1 Kg(MOQ)

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Magnetron Sputtering High-Purity Silver (AG) Beschichtungsziele, Silberlegierungsröhren, Drähte, Partikel, Silberplatten, PVD-Beschichtungsmaterialien.

Magnetron Sputtering High-Purity Silver (AG) Beschichtungsziele, Silberlegierungsröhren, Drähte, Partikel, Silberplatten, PVD-Beschichtungsmaterialien.

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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5-200kw Typische Sputterquelle für die Dünnfilm-Beschichtungsindustrie Rotationsmagnetron-Sputterkathode Rotationssputterziel

5-200kw Typische Sputterquelle für die Dünnfilm-Beschichtungsindustrie Rotationsmagnetron-Sputterkathode Rotationssputterziel

6.900,00-7.000,00 $
2 sets(MOQ)
Magnetron-Sputter-Beschichtungsanlage für Aluminium- und Silber-Spiegel

Magnetron-Sputter-Beschichtungsanlage für Aluminium- und Silber-Spiegel

500.000,00-800.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Horizontale Vakuum-Glas-Magnetron-Sputter-Beschichtungsanlage für Aluminium-Silber-Spiegel Vakuum-Farbspiegelmaschine reflektierendes Glasgerät

Horizontale Vakuum-Glas-Magnetron-Sputter-Beschichtungsanlage für Aluminium-Silber-Spiegel Vakuum-Farbspiegelmaschine reflektierendes Glasgerät

600.000,00-1.200.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Vakuum-Glas-Magnetron-Sputterbeschichtungsanlage für Aluminium-Silber-Spiegel

Vakuum-Glas-Magnetron-Sputterbeschichtungsanlage für Aluminium-Silber-Spiegel

1.200.000,00 $
1 sets(MOQ)
1/4

UV Tech Material Co., Ltd.

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Silber-Platte Sputterziel für Magnetron-Beschichtung, Edelmetall AG Silber Sputterziel für Magnetron-Beschichtung

Silber-Platte Sputterziel für Magnetron-Beschichtung, Edelmetall AG Silber Sputterziel für Magnetron-Beschichtung

Verhandelbar
2 Stücke(MOQ)
Planar Silver Target für Low-E Glasfolie, Solarzellen-Elektrodenfolie

Planar Silver Target für Low-E Glasfolie, Solarzellen-Elektrodenfolie

Verhandelbar
2 Stücke(MOQ)
Drehbares AG-Ziel Hochwertiges Sputterziel

Drehbares AG-Ziel Hochwertiges Sputterziel

Verhandelbar
2 Stücke(MOQ)
99,99% hochreines Metall AG Silber Sputterziel mit gutem Preis, Planar AG Silber Ziel

99,99% hochreines Metall AG Silber Sputterziel mit gutem Preis, Planar AG Silber Ziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Hubei Fotma Machinery Co., Ltd.

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99.95% Molybdän Ziel Sputtern Molybdän Ziel

99.95% Molybdän Ziel Sputtern Molybdän Ziel

5,00-200,00 $
1 Kilogram(MOQ)
Kundenspezifisches Wolframprodukt Sputtern reines Wolframziel

Kundenspezifisches Wolframprodukt Sputtern reines Wolframziel

40,00-50,00 $
1 Kg(MOQ)
99.95% Reine maschinell bearbeitete schwarze Wolframplatten Wolframblech

99.95% Reine maschinell bearbeitete schwarze Wolframplatten Wolframblech

1,00-20,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Tengzhou Fast Silver Trading Co., Limited.

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99,99% Reinheit Material Metall Titan Sputtering Ziel Rund Ti Titan Ziel

99,99% Reinheit Material Metall Titan Sputtering Ziel Rund Ti Titan Ziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hoher Reinheitsgrad-Goldziel-Au-Spritzenziel für Halbleiter-Dünnfilm-Absetzung

Hoher Reinheitsgrad-Goldziel-Au-Spritzenziel für Halbleiter-Dünnfilm-Absetzung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Reine Metallstücke hoher Reinheitsgrad-silberne Spritzenziel-AG für Dünnfilm-Absetzung

Reine Metallstücke hoher Reinheitsgrad-silberne Spritzenziel-AG für Dünnfilm-Absetzung

200,00 $
1 Stück(MOQ)

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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99.9999% 6n Hochreine Metallkupfer-Sputtertargets Trägerplatte

99.9999% 6n Hochreine Metallkupfer-Sputtertargets Trägerplatte

335,00-350,00 $
100 Kg(MOQ)
Maßgeschneiderte 2mm/3mm/5mm Hochreine 6n Kupferpellets Verdampfungsmaterialien

Maßgeschneiderte 2mm/3mm/5mm Hochreine 6n Kupferpellets Verdampfungsmaterialien

35,00-67,00 $
100 kilograms(MOQ)
99.9999% Reine Kupferpellets 6n 3mm Cu-Ofe/C10100 für Vakuumabscheidung &3D Druck

99.9999% Reine Kupferpellets 6n 3mm Cu-Ofe/C10100 für Vakuumabscheidung &3D Druck

45,99-59,99 $
100 kilograms(MOQ)
1/4

Luoyang Modi Tungsten & Molybdenum Material Co., Ltd.

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Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

Tzm Molybdenum Alloy Plate Sputtering Targets Price

75,00-95,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Sputterziel für Low-E Glas Nicr80-20wt PVD-Beschichtung

Sputterziel für Low-E Glas Nicr80-20wt PVD-Beschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Able Target Limited

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Spritzenziel, keramisches Ziel, PVD Schicht

Spritzenziel, keramisches Ziel, PVD Schicht

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
13
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