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etwa Zinn-Sputterziel
  • Technologische Innovation
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Zinn-Sputterziel40+ Fabriken verifiziert

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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AuSn Legierung Ziel Gold-Zinn Legierung (70: 30wt%) Sputterziel für elektronische Bauteile Chips

AuSn Legierung Ziel Gold-Zinn Legierung (70: 30wt%) Sputterziel für elektronische Bauteile Chips

45.200,00 $
1 Kg(MOQ)
ITO-Ziel Hoch Density>99.8% Niedrige Dichte: 60% Indium-Zinn-Oxid-Sputterziel für LCD/LED-Touchpanel

ITO-Ziel Hoch Density>99.8% Niedrige Dichte: 60% Indium-Zinn-Oxid-Sputterziel für LCD/LED-Touchpanel

340,00 $
1 Kg(MOQ)
TiN-Beschichtungskeramikkörper für optische Dünnfilm-Beschichtung/PVD-Film-Beschichtung

TiN-Beschichtungskeramikkörper für optische Dünnfilm-Beschichtung/PVD-Film-Beschichtung

25,00-100,00 $
1 Kg(MOQ)
SeSn Ziel Selen- Zinn-Sputterkeramisches Ziel für Filmbeschichtung

SeSn Ziel Selen- Zinn-Sputterkeramisches Ziel für Filmbeschichtung

40,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Plattensputterziel Stannum Zinn Sn Metall für PVD-Maschine

Plattensputterziel Stannum Zinn Sn Metall für PVD-Maschine

60,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Metall-Sputterziel Zinn Stannum Sn günstiger Preis

Metall-Sputterziel Zinn Stannum Sn günstiger Preis

60,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Planarer Sputterziel Zinn Sn Stannum Metall angepasst

Planarer Sputterziel Zinn Sn Stannum Metall angepasst

60,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Zinn Stannum Sn Sputterziel Fabrik Bindungsdienst

Zinn Stannum Sn Sputterziel Fabrik Bindungsdienst

60,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Zinnziel 99.99% Metall Zinn Sn Magnetron-Sputterziel für Dünnfilm-Beschichtung

Zinnziel 99.99% Metall Zinn Sn Magnetron-Sputterziel für Dünnfilm-Beschichtung

35,00-800,00 $
1 Stück(MOQ)
99.99% Reines Rundzinn-Sputterzielmetall Sn-Ziel für PVD-Beschichtung

99.99% Reines Rundzinn-Sputterzielmetall Sn-Ziel für PVD-Beschichtung

45,00-125,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Zink-Zinn-Sputterziel 99.99% Znsn-Platte für PVD-Abscheidung

Hochreines Zink-Zinn-Sputterziel 99.99% Znsn-Platte für PVD-Abscheidung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hochreines 99.99% 4n Metallzinn Sn Sputterziel mit Kupferbindung

Hochreines 99.99% 4n Metallzinn Sn Sputterziel mit Kupferbindung

45,00-125,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Zto Keramisches Ziel Zink Zinnoxid Sputterziel für Dünnfilm-Beschichtung

Zto Keramisches Ziel Zink Zinnoxid Sputterziel für Dünnfilm-Beschichtung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.95% Znsn Metalllegierungs-Magnetron Zink Zinn Sputterziel

99.95% Znsn Metalllegierungs-Magnetron Zink Zinn Sputterziel

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreines 99.99% ITO Indium-Zinn-Oxid Sputterziel für PVD-Beschichtung

Hochreines 99.99% ITO Indium-Zinn-Oxid Sputterziel für PVD-Beschichtung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
ATO-Keramische Ziele mit Antimon-dotiertem Zinnoxid-Sputterziel

ATO-Keramische Ziele mit Antimon-dotiertem Zinnoxid-Sputterziel

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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99.99% Hochreines Gold-Zinn-Legierung Sputterziel

99.99% Hochreines Gold-Zinn-Legierung Sputterziel

265.000,00 $
10 Stücke(MOQ)
Indium-Zinn-Oxid ITO Ziel Vakuum-Sputtern PVD Ziel

Indium-Zinn-Oxid ITO Ziel Vakuum-Sputtern PVD Ziel

4.600,00 $
1 Stück(MOQ)
Zinn Silber Kupfer Materialien Hochreines Legierungszielmaterial

Zinn Silber Kupfer Materialien Hochreines Legierungszielmaterial

25.500,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Jiangxi CNP New Chemical Materials Co., Ltd.

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Zinnoxid (SnO2) Verdampfungsmaterial Pellet 1-10mm Reinheit 99.99% Sputterziel

Zinnoxid (SnO2) Verdampfungsmaterial Pellet 1-10mm Reinheit 99.99% Sputterziel

200,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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ITO-Ziel für LCD, PDP, OLED, Verbundziel aus Zinn, Indium und Sauerstoff

ITO-Ziel für LCD, PDP, OLED, Verbundziel aus Zinn, Indium und Sauerstoff

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
3mm Dicke Ruthenium-Zielscheibe, Ru-Sputterziel

3mm Dicke Ruthenium-Zielscheibe, Ru-Sputterziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hochreines 99.99% Re Rhenium-Sputterziel, Re-Metall-Rundziel

Hochreines 99.99% Re Rhenium-Sputterziel, Re-Metall-Rundziel

1.000,00-4.000,00 $
1 Stück(MOQ)
99.999% Anpassung von kreisförmigen Wolfram-Zielen, 5n Wolfram-Sputterziel

99.999% Anpassung von kreisförmigen Wolfram-Zielen, 5n Wolfram-Sputterziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Guangdong Fabrik Kupferplatte Indium Zinn Oxid ITO Sputterziele

Guangdong Fabrik Kupferplatte Indium Zinn Oxid ITO Sputterziele

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Guangdong Fabrik Großhandel Reine 99,95% Kupfer Platte Sputtering Ziel Herstellung

Guangdong Fabrik Großhandel Reine 99,95% Kupfer Platte Sputtering Ziel Herstellung

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Großhandel Sputtering Target Materials Fabriken für die Halbleiterindustrie

Großhandel Sputtering Target Materials Fabriken für die Halbleiterindustrie

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Factory Cu Sputtering Target Kupfer Rotary für metallbeschichtete Leiterhalbleiter

Factory Cu Sputtering Target Kupfer Rotary für metallbeschichtete Leiterhalbleiter

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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ITO (Indium Zinn-Oxid) Zielmaterial, Indium Zinn-Oxid Halbleiter Transparente leitfähige Folie, Magnetron Sputtering Target, kundenspezifische Spezifikationen

ITO (Indium Zinn-Oxid) Zielmaterial, Indium Zinn-Oxid Halbleiter Transparente leitfähige Folie, Magnetron Sputtering Target, kundenspezifische Spezifikationen

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hochreine PVD-Ziele (Physical Vapor Deposition), die Sputterziele sind: Titan (Ti) Target, Titandioxid (TiO2) Target, Titannitrid (TIN) Target und Titaniu

Hochreine PVD-Ziele (Physical Vapor Deposition), die Sputterziele sind: Titan (Ti) Target, Titandioxid (TiO2) Target, Titannitrid (TIN) Target und Titaniu

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Hochreine PVD-Ziele (Physical Vapor Deposition), die Sputterziele erreichen: Titan (Ti), Titandioxid (TiO2), Titannitrid (TIN),

Hochreine PVD-Ziele (Physical Vapor Deposition), die Sputterziele erreichen: Titan (Ti), Titandioxid (TiO2), Titannitrid (TIN),

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
ITO (Indium Zinn-Oxid) Zielmaterial, Indium Zinn-Oxid Halbleiter Transparente leitfähige Folie, Magnetron Sputtering Target

ITO (Indium Zinn-Oxid) Zielmaterial, Indium Zinn-Oxid Halbleiter Transparente leitfähige Folie, Magnetron Sputtering Target

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Shenzhen Silver Technologies Ltd

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Hochreines Gold-Sputterziel, geeignet für 5g Materialien

Hochreines Gold-Sputterziel, geeignet für 5g Materialien

200,00 $
100 g(MOQ)
Gold-Sputterziel 99.99% Hochwertiges Au-Ziel Reines Goldziel

Gold-Sputterziel 99.99% Hochwertiges Au-Ziel Reines Goldziel

200,00 $
100 g(MOQ)
99.99% Hochwertiger Gold-Sputtertarget aus reinem Gold

99.99% Hochwertiger Gold-Sputtertarget aus reinem Gold

200,00 $
10 g(MOQ)
4n Hochwertiges Sputtertarget aus reinem Gold

4n Hochwertiges Sputtertarget aus reinem Gold

200,00 $
10 g(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Ti Target Titan-Sputterziel / Titan-Rotationsziel für Halbleiter / Vakuumbeschichtungssputtern

Ti Target Titan-Sputterziel / Titan-Rotationsziel für Halbleiter / Vakuumbeschichtungssputtern

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Titan-Sputtertarget, planar für die Halbleiterindustrie, integrierte Schaltungen, Bau- und Automobilglas

Hochreines Titan-Sputtertarget, planar für die Halbleiterindustrie, integrierte Schaltungen, Bau- und Automobilglas

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikpreis 99.95% Reines Tantal Sputterziel Metall Ta Tantalum Planare Ziele

Fabrikpreis 99.95% Reines Tantal Sputterziel Metall Ta Tantalum Planare Ziele

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Zielhersteller Titan-Sputterziel Metall Titanplatte für Dekorationsbeschichtung

Zielhersteller Titan-Sputterziel Metall Titanplatte für Dekorationsbeschichtung

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Chrom Cr PVD Zielplanar-Bonding auf Cooper-Trägerplatte Oder Tube

Chrom Cr PVD Zielplanar-Bonding auf Cooper-Trägerplatte Oder Tube

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Rotary Indium Target in Sputtering Target

Rotary Indium Target in Sputtering Target

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
PVD Target Aluminium Al zylindrisch drehbarer Sputter Target 99,999% Reinheit 2N-5N verfügbar

PVD Target Aluminium Al zylindrisch drehbarer Sputter Target 99,999% Reinheit 2N-5N verfügbar

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Drehbares Tiox Sial Silber Sputtering Target Cathode Tube Hohe Qualität Reinheit für PVD Nano Dünnschichtmaterial

Drehbares Tiox Sial Silber Sputtering Target Cathode Tube Hohe Qualität Reinheit für PVD Nano Dünnschichtmaterial

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 J.
·Handelsunternehmen
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Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges ITO Rotationssputterziel 4n In2o3 und Sno2

Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges ITO Rotationssputterziel 4n In2o3 und Sno2

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Niedrige Dichte 4n ITO Kleine Runde Zielscheibe

Fabrikpreis Verkauf Niedrige Dichte 4n ITO Kleine Runde Zielscheibe

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Hochreinheit ITO Ziel für Rpd 4n

Fabrikpreis Verkauf Hochreinheit ITO Ziel für Rpd 4n

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges Izo Metallziel In2o3 und ZnO Indiumtrioxid und Zinkoxid

Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges Izo Metallziel In2o3 und ZnO Indiumtrioxid und Zinkoxid

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
1/4

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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ITO Ziel, ITO Drehziel, Ziel TP-Tn Stn TFT-LCD ITO

ITO Ziel, ITO Drehziel, Ziel TP-Tn Stn TFT-LCD ITO

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
ITO planares Spritzenziel, ITO Glasschicht, Tp/Tn/Stn/TFT-LCD ITO Ziel

ITO planares Spritzenziel, ITO Glasschicht, Tp/Tn/Stn/TFT-LCD ITO Ziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
ATO-Ziel, IR-Fenster-Film ATO, Antimon-Zinn-Oxid-Ziel

ATO-Ziel, IR-Fenster-Film ATO, Antimon-Zinn-Oxid-Ziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
ITO Ziel, LED/OLED/Ziel TP-ITO, Typenstein des LED-Halbleiter-ITO

ITO Ziel, LED/OLED/Ziel TP-ITO, Typenstein des LED-Halbleiter-ITO

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Xi'an Kefeng Powder Metallurgy Co., Ltd.

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Kefeng Hochwertige Wolframfolie mit einer Dicke von 0.001inches (0.025mm) bis 0.08 Zoll (2 mm)

Kefeng Hochwertige Wolframfolie mit einer Dicke von 0.001inches (0.025mm) bis 0.08 Zoll (2 mm)

50,00-500,00 $
10 Kg(MOQ)
99.95% Reines Wolfram: Ihr vertrauenswürdiger Lieferant aus China

99.95% Reines Wolfram: Ihr vertrauenswürdiger Lieferant aus China

50,00-500,00 $
10 Kg(MOQ)
Wolframstangen, -bleche, -blöcke 99.95% Wolfram-Material ASTM B760 Standard

Wolframstangen, -bleche, -blöcke 99.95% Wolfram-Material ASTM B760 Standard

50,00-500,00 $
10 Kg(MOQ)
Hochdichte Hochschmelzpunkt Wolframboot 99.95% Bearbeitete Teile

Hochdichte Hochschmelzpunkt Wolframboot 99.95% Bearbeitete Teile

50,00-500,00 $
10 Kg(MOQ)
1/4

UV Tech Material Co., Ltd.

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99,99% ITO-Ziel 97: 3 95: 5 90: 10 Indium-Zinn-Oxidsputtering-Ziel für leitfähige Folie

99,99% ITO-Ziel 97: 3 95: 5 90: 10 Indium-Zinn-Oxidsputtering-Ziel für leitfähige Folie

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Kleben ITO Zielplatte Indium Zinn Oxid Sputtering Target 99,99% 4n Keramik Target.

Kleben ITO Zielplatte Indium Zinn Oxid Sputtering Target 99,99% 4n Keramik Target.

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Indium-Zinn, Insn Sputterziel

Indium-Zinn, Insn Sputterziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
ITO Sputterziel mit Indium-Zinn-Oxid hoher Dichte & Reinheit

ITO Sputterziel mit Indium-Zinn-Oxid hoher Dichte & Reinheit

Verhandelbar
2 Stücke(MOQ)

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Sputterziel ITO Indium-Zinn-Oxid 4n 99,99% für optische Beschichtung

Sputterziel ITO Indium-Zinn-Oxid 4n 99,99% für optische Beschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Zinn-Sn-Sputterziel mit Barriere-Reinheit 99,99%

Zinn-Sn-Sputterziel mit Barriere-Reinheit 99,99%

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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99,9% Znsn Spraying Target Factory Supply Hochreine Magnetische Znsn Zinnrotierendes Sputtersprühziel

99,9% Znsn Spraying Target Factory Supply Hochreine Magnetische Znsn Zinnrotierendes Sputtersprühziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
ITO anpassbare Größe 99,99% Indium Zinn-Oxid rotierende ITO Keramik Sputterziel

ITO anpassbare Größe 99,99% Indium Zinn-Oxid rotierende ITO Keramik Sputterziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

China Leadmat Advanced Materials Co., Ltd.

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Aluminiumspritzenziel

Aluminiumspritzenziel

15,00 $
1 Stück(MOQ)
Spritzenziele

Spritzenziele

60,00 $
1 Stück(MOQ)

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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4n Hochreines Sn Zinn Sputterzielplatte / Sn Zinn Metallziel

4n Hochreines Sn Zinn Sputterzielplatte / Sn Zinn Metallziel

200,00-10.000,00 $
1 Stück(MOQ)

Jiangxi He Quan Chem Co., Ltd

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99.99% ITO Indium-Zinn-Oxid-Spritzenziel mit kupferner Platte

99.99% ITO Indium-Zinn-Oxid-Spritzenziel mit kupferner Platte

99,00-169,00 $
1 Piece(MOQ)

China Rare Metal Material Co., Ltd.

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Sputterende Ziele Aus Keramik

Sputterende Ziele Aus Keramik

100,00 $
1 Stück(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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ITO Ziel In2o3: Sno2=90: 10wt%/ITO planares Spritzenziel

ITO Ziel In2o3: Sno2=90: 10wt%/ITO planares Spritzenziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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Hochreines Titan Planar Sputterziel von 2n6 bis 4n, 4n5, 5N

Hochreines Titan Planar Sputterziel von 2n6 bis 4n, 4n5, 5N

30,00-50,00 $
1 Stück(MOQ)
Sputterziel: Titan Sputtering / Arc Target mit verschiedenen Materialien

Sputterziel: Titan Sputtering / Arc Target mit verschiedenen Materialien

50,00 $
1 Stück(MOQ)
Ti-Al Titanium Aluminium Target Titanium Aluminium Sputtering Target

Ti-Al Titanium Aluminium Target Titanium Aluminium Sputtering Target

30,00-50,00 $
1 Stück(MOQ)
Titan Sputtering Target bei hoher Reinheit

Titan Sputtering Target bei hoher Reinheit

30,00-50,00 $
1 Stück(MOQ)

SHAOXING TIANLONG TIN MATERIALS CO., LTD.

29 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Hochreines Zinkdraht für fortschrittliche Sputteranwendungen

Hochreines Zinkdraht für fortschrittliche Sputteranwendungen

4,00-5,50 $
100 Kg(MOQ)
Premium Zinn-Draht für vielseitige kreative Zielmaterialverwendungen

Premium Zinn-Draht für vielseitige kreative Zielmaterialverwendungen

31,00-33,00 $
100 Kg(MOQ)
Hochwertiger Sn47Zn53 Zink-Zinn-Legierung Sputterziel Draht

Hochwertiger Sn47Zn53 Zink-Zinn-Legierung Sputterziel Draht

16,00-19,00 $
100 Kg(MOQ)
Hochwertiger Präzisionsaluminiumdraht für globale Beschichtungslösungen

Hochwertiger Präzisionsaluminiumdraht für globale Beschichtungslösungen

4,00-6,00 $
100 Kg(MOQ)
1/4

EHW APPLIED MATERIALS CO., LTD.

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Hohe Reinheit und Qualität ITO Disc Target für Sputtermaschine Und Vakuumbeschichtung

Hohe Reinheit und Qualität ITO Disc Target für Sputtermaschine Und Vakuumbeschichtung

10,00-5.000,00 $
30 Stücke(MOQ)
Hochwertige ITO-Ziel für Sputtermaschine und Vakuumbeschichtung (90/10)

Hochwertige ITO-Ziel für Sputtermaschine und Vakuumbeschichtung (90/10)

10,00-5.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hohe Reinheit und Qualität ITO Ziel für Sputtermaschine und Vakuumbeschichtung (95/5)

Hohe Reinheit und Qualität ITO Ziel für Sputtermaschine und Vakuumbeschichtung (95/5)

10,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)

Wuxi Taixie Metal Material Co., Ltd.

17 J.
·Handelsunternehmen
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Galliumoxid Gallium Galliumpartikel Galliumbarren

Galliumoxid Gallium Galliumpartikel Galliumbarren

500,00 $
100 Kg(MOQ)
Eisen Niobium Niobiumlegierung Block Niobiumstange Geschmolzenes Niobium

Eisen Niobium Niobiumlegierung Block Niobiumstange Geschmolzenes Niobium

35.000,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Hcvac Inline-Beschichtungsmaschine für Indium-Zinn-Oxid-beschichtete Glasscheiben

Hcvac Inline-Beschichtungsmaschine für Indium-Zinn-Oxid-beschichtete Glasscheiben

150.000,00-500.000,00 $
1 Satz(MOQ)
Magnetron-Sputtern ITO Indium-Zinn-Oxid-Film Glasbeschichtungsmaschine

Magnetron-Sputtern ITO Indium-Zinn-Oxid-Film Glasbeschichtungsmaschine

1.500.000,00-5.000.000,00 $
1 Satz(MOQ)
Edelstahl Schmuck Magnetron-Sputter PVD Goldbeschichtungsmaschine

Edelstahl Schmuck Magnetron-Sputter PVD Goldbeschichtungsmaschine

60.000,00-300.000,00 $
1 Satz(MOQ)
Edelstahl Wasserhahn/Dusche Halter Türgriffe PVD Metallbeschichtungsmaschine

Edelstahl Wasserhahn/Dusche Halter Türgriffe PVD Metallbeschichtungsmaschine

80.000,00 $
1 Satz(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

5 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Spritzbeschichtung von ITO (Indiumzinnoxid) kontinuierliche Spritzbeschichtung für ein gleichmäßiges Beschichtungssystem

Spritzbeschichtung von ITO (Indiumzinnoxid) kontinuierliche Spritzbeschichtung für ein gleichmäßiges Beschichtungssystem

2.000.000,00 $
1 sets(MOQ)
Magnetron-Sputtern ITO Indium-Zinn-Oxid-Film Glasbeschichtungsmaschine

Magnetron-Sputtern ITO Indium-Zinn-Oxid-Film Glasbeschichtungsmaschine

1.500.000,00 $
1 Satz(MOQ)
Indium-Zinn-Oxid (ITO) Glas Magnetron-Sputter-Beschichtungsanlage

Indium-Zinn-Oxid (ITO) Glas Magnetron-Sputter-Beschichtungsanlage

800.000,00-3.000.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Verschleißfeste Zinn/TiAlN PVD Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine für Luxusuhrenteile

Verschleißfeste Zinn/TiAlN PVD Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine für Luxusuhrenteile

80.000,00-180.000,00 $
1 Satz(MOQ)
1/4
12
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