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etwa Vakuumbeschichtung Ziel
  • Technologische Innovation
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Vakuumbeschichtung Ziel200+ Fabriken verifiziert

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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99.9% Nickel-Chrom-Aluminium-Vakuumbeschichtung-Sputterziel für PVD-Prozess Chrom-Tantal-Ziel

99.9% Nickel-Chrom-Aluminium-Vakuumbeschichtung-Sputterziel für PVD-Prozess Chrom-Tantal-Ziel

55,00 $
1 Stück(MOQ)
Heißer Verkauf Hochhärte Neue Vakuumbeschichtung Zirkoniumplatte Ziel für die Industrie

Heißer Verkauf Hochhärte Neue Vakuumbeschichtung Zirkoniumplatte Ziel für die Industrie

69,00 $
1 Stück(MOQ)
Wettbewerbsfähiger Preis von Vakuumbeschichtungsmaterialien Zirkoniumziel

Wettbewerbsfähiger Preis von Vakuumbeschichtungsmaterialien Zirkoniumziel

10,00 $
1 Stück(MOQ)
Hitzebeständiger und hervorragender chemischer Stabilität Titanziel für Vakuumbeschichtung

Hitzebeständiger und hervorragender chemischer Stabilität Titanziel für Vakuumbeschichtung

60,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Hochreiner Chromtarget für Vakuum/PVD-Beschichtung

Hochreiner Chromtarget für Vakuum/PVD-Beschichtung

1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Silizium-Rundziel hohe Reinheit für Vakuum/PVD-Beschichtung

Silizium-Rundziel hohe Reinheit für Vakuum/PVD-Beschichtung

6.200,00 $
1 Stück(MOQ)
99.99% Hochreines Gold-Zinn-Legierung Sputterziel

99.99% Hochreines Gold-Zinn-Legierung Sputterziel

265.000,00 $
10 Stücke(MOQ)
Platin-Sputterziel Hochwertiges Vakuumbeschichtungsziel

Platin-Sputterziel Hochwertiges Vakuumbeschichtungsziel

850.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 J.
·Handelsunternehmen
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99.99% Reines Palladium (Pd) Sputterziel für Vakuumbeschichtung

99.99% Reines Palladium (Pd) Sputterziel für Vakuumbeschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
99.95% Tantal-Ziel, Vakuumbeschichtung mit Ta-Sputterziel maßgeschneiderte Verarbeitung

99.95% Tantal-Ziel, Vakuumbeschichtung mit Ta-Sputterziel maßgeschneiderte Verarbeitung

500,00-600,00 $
1 Stück(MOQ)
99.99% -99.9999% Titan Ti Sputterplatte Titanziel für Vakuumbeschichtung

99.99% -99.9999% Titan Ti Sputterplatte Titanziel für Vakuumbeschichtung

100,00-200,00 $
10 Stücke(MOQ)
Osmium-Rhenium-Sputterziel für Vakuum-Sputterbeschichtung

Osmium-Rhenium-Sputterziel für Vakuum-Sputterbeschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Vakuumverpackte Aluminium-Zink-Legierungsbeschichtung Ziel

Vakuumverpackte Aluminium-Zink-Legierungsbeschichtung Ziel

75,00-85,00 $
1 Stück(MOQ)
Xinkang 99.9% Fe2o3 Ferritoxid-Keramikziel für Vakuumbeschichtung

Xinkang 99.9% Fe2o3 Ferritoxid-Keramikziel für Vakuumbeschichtung

110,00-120,00 $
1 Stück(MOQ)
Maßgeschneiderte Größe Reines Znsn50wt% Sputterbeschichtung Ziel in Vakuumverpackung

Maßgeschneiderte Größe Reines Znsn50wt% Sputterbeschichtung Ziel in Vakuumverpackung

75,00-85,00 $
1 Stück(MOQ)
Xinkang 99.99% Aluminium Magnesium Ziel Almg Ziel für Vakuumbeschichtung

Xinkang 99.99% Aluminium Magnesium Ziel Almg Ziel für Vakuumbeschichtung

Verhandelbar
1 pieces(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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TMAXCN Marke Hochrein Hafnium/Hf PVD Magnetron-Sputterziel für Vakuumbeschichtung

TMAXCN Marke Hochrein Hafnium/Hf PVD Magnetron-Sputterziel für Vakuumbeschichtung

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke Hochreines 99.95% Chrom Chrom/Cr PVD Magnetron-Sputterziel für Vakuumbeschichtung

TMAXCN Marke Hochreines 99.95% Chrom Chrom/Cr PVD Magnetron-Sputterziel für Vakuumbeschichtung

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
RF&DC&MF Dual Target PVD Sputterbeschichtungsgerät für leitfähige Multilagenschichten

RF&DC&MF Dual Target PVD Sputterbeschichtungsgerät für leitfähige Multilagenschichten

45.000,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke VTC-16-3HD-LD 3 Rotationsziel-Plasma-Sputterbeschichtungsmaschine einschließlich 3 Zielen

TMAXCN Marke VTC-16-3HD-LD 3 Rotationsziel-Plasma-Sputterbeschichtungsmaschine einschließlich 3 Zielen

8.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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AlTi Legierung Ziel Aluminium Titan Legierung Sputterziel für integrierte Schaltungen Vakuumbeschichtung

AlTi Legierung Ziel Aluminium Titan Legierung Sputterziel für integrierte Schaltungen Vakuumbeschichtung

50,00-80,00 $
1 Kg(MOQ)
Ti Target Titan-Sputterziel / Titan-Rotationsziel für Halbleiter / Vakuumbeschichtungssputtern

Ti Target Titan-Sputterziel / Titan-Rotationsziel für Halbleiter / Vakuumbeschichtungssputtern

20,00-100,00 $
1 Kg(MOQ)
NdFeB-Ziel Neodym-Eisen-Bor-Legierung Sputterziel für magnetischen Antrieb

NdFeB-Ziel Neodym-Eisen-Bor-Legierung Sputterziel für magnetischen Antrieb

50,00-80,00 $
1 Kg(MOQ)
Cu-Sputterziel Kupfer Rotationsziel für metallbeschichtete Leiter/ Halbleiter

Cu-Sputterziel Kupfer Rotationsziel für metallbeschichtete Leiter/ Halbleiter

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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99.9% Zink-Aluminium-Legierung Sputterziel für Vakuumbeschichtung

99.9% Zink-Aluminium-Legierung Sputterziel für Vakuumbeschichtung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreines Zirkonium Sputterziel Vakuumbeschichtung Sputterziel

Hochreines Zirkonium Sputterziel Vakuumbeschichtung Sputterziel

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Tiox Legierung Keramisches Ziel Titanoxid Sputterziel

Tiox Legierung Keramisches Ziel Titanoxid Sputterziel

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.99% Reines Magnesium Mg Sputterziel für Beschichtung

99.99% Reines Magnesium Mg Sputterziel für Beschichtung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Ti Target Titan-Sputterziel / Titan-Rotationsziel für Halbleiter / Vakuumbeschichtungssputtern

Ti Target Titan-Sputterziel / Titan-Rotationsziel für Halbleiter / Vakuumbeschichtungssputtern

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Titan-Sputtertarget, planar für die Halbleiterindustrie, integrierte Schaltungen, Bau- und Automobilglas

Hochreines Titan-Sputtertarget, planar für die Halbleiterindustrie, integrierte Schaltungen, Bau- und Automobilglas

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikpreis 99.95% Reines Tantal Sputterziel Metall Ta Tantalum Planare Ziele

Fabrikpreis 99.95% Reines Tantal Sputterziel Metall Ta Tantalum Planare Ziele

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Premium-Zirkonium-Ziel für überlegene Dünnfilmabscheidung

Premium-Zirkonium-Ziel für überlegene Dünnfilmabscheidung

10,00-1.000,00 $
10 piece(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Vakuumbeschichtung Titanziel

Vakuumbeschichtung Titanziel

30,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Titanium Ziel Hersteller Lieferant

Titanium Ziel Hersteller Lieferant

30,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Hersteller PVD-Beschichtungsmaschine für Wasserhahn Möbel Edelstahl

Hersteller PVD-Beschichtungsmaschine für Wasserhahn Möbel Edelstahl

15.000,00-150.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Edelstahlplatte Möbel Geschirr Besteck Geschirr große PVD Vakuumbeschichtungsmaschine

Edelstahlplatte Möbel Geschirr Besteck Geschirr große PVD Vakuumbeschichtungsmaschine

26.000,00-160.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 J.
·Hersteller/Werk
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Hochvakuum-Magnetron-Sputterquelle-Ziel für PVD-Beschichtungsprozess

Hochvakuum-Magnetron-Sputterquelle-Ziel für PVD-Beschichtungsprozess

1.800,00-2.000,00 $
1 set(MOQ)
Al, ITO, Cr Beschichtungssubstrat für thermische Verdampfung und Magnetron-Sputtermaschine

Al, ITO, Cr Beschichtungssubstrat für thermische Verdampfung und Magnetron-Sputtermaschine

30,00-200,00 $
1 Stück(MOQ)
Pulver Edelstahl Triple Target Plasma Beschichter mit 150W DC Hochspannungs-Stromversorgung für chirurgische Instrumente

Pulver Edelstahl Triple Target Plasma Beschichter mit 150W DC Hochspannungs-Stromversorgung für chirurgische Instrumente

12.000,00-13.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Einzelne Duale Dreifache Ziel-Magnetron-Sputter-Beschichtung mit Filmdickenmonitor

Einzelne Duale Dreifache Ziel-Magnetron-Sputter-Beschichtung mit Filmdickenmonitor

60.000,00-61.200,00 $
1 set(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Zylindrischer Magnetron-Sputtertarget für PVD-Vakuumbeschichtung Titanrohr Metallrohre Rohmaterialien Beschichtung Kathoden

Zylindrischer Magnetron-Sputtertarget für PVD-Vakuumbeschichtung Titanrohr Metallrohre Rohmaterialien Beschichtung Kathoden

800,00-1.500,00 $
1 Stück(MOQ)
Maßgeschneiderter Hochreiner Titanblock Vakuum-Titanmaterial Multi-Bogen-Ionenbeschichtungsmaterial Metallziel

Maßgeschneiderter Hochreiner Titanblock Vakuum-Titanmaterial Multi-Bogen-Ionenbeschichtungsmaterial Metallziel

500,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Bogenabscheidung Kathodenbogen-Ionenbeschichtung Beschichtungsgerät Ziel

Bogenabscheidung Kathodenbogen-Ionenbeschichtung Beschichtungsgerät Ziel

2.500,00-2.600,00 $
3 sets(MOQ)
5-200kw Typische Sputterquelle für die Dünnfilm-Beschichtungsindustrie Rotationsmagnetron-Sputterkathode Rotationssputterziel

5-200kw Typische Sputterquelle für die Dünnfilm-Beschichtungsindustrie Rotationsmagnetron-Sputterkathode Rotationssputterziel

6.900,00-7.000,00 $
2 sets(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Ti-Sputtering-Titan-Ziel Titan-Sputter-Ziel Vakuumbeschichtung Titan-Ziel

Ti-Sputtering-Titan-Ziel Titan-Sputter-Ziel Vakuumbeschichtung Titan-Ziel

100,00-300,00 $
1 Stück(MOQ)
Reiner Titan Ziel Bester Preis Gr2 Titan Ziel Vakuum-Sputterziel Beschichtung mit Titan Ziel

Reiner Titan Ziel Bester Preis Gr2 Titan Ziel Vakuum-Sputterziel Beschichtung mit Titan Ziel

100,00-300,00 $
1 Stück(MOQ)
Ti-Sputtering-Titan-Ziel Titan-Sputter-Ziel Vakuumbeschichtung Titan-Ziel für PVD-Multi-Arc-Vakuumbeschichtungsmaschine

Ti-Sputtering-Titan-Ziel Titan-Sputter-Ziel Vakuumbeschichtung Titan-Ziel für PVD-Multi-Arc-Vakuumbeschichtungsmaschine

35,00-50,00 $
1 Stück(MOQ)
Titan-Aluminium-Legierungs-PVD-Ziele Titan-Sputterziele Tial-Legierungsziel für Beschichtungen

Titan-Aluminium-Legierungs-PVD-Ziele Titan-Sputterziele Tial-Legierungsziel für Beschichtungen

80,00-300,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shandong Quansheng Material Technology Group Co., LTD

3 J.
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Hochwertiges 15mm Tantal-Rundziel für Vakuumbeschichtung

Hochwertiges 15mm Tantal-Rundziel für Vakuumbeschichtung

351,00-601,00 $
5 Kg(MOQ)
Premium Wolfram-Sputterziele für Vakuumbeschichtungsprozesse

Premium Wolfram-Sputterziele für Vakuumbeschichtungsprozesse

56,00-61,00 $
5 Kg(MOQ)
Hochreine Molybdänbleche für fortschrittliche Vakuumbeschichtung

Hochreine Molybdänbleche für fortschrittliche Vakuumbeschichtung

78,00-88,00 $
100 Kg(MOQ)
Polierte Wolframplatte mit Spiegeloberfläche für Röntgenbeschichtung

Polierte Wolframplatte mit Spiegeloberfläche für Röntgenbeschichtung

55,00-60,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 J.·5.0
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Molybdänziel für Vakuum-Sputterbeschichtung

Molybdänziel für Vakuum-Sputterbeschichtung

45,00 $
1 kg(MOQ)
Hochreiner Molybdän-Sputtertarget, Moly-Scheibe

Hochreiner Molybdän-Sputtertarget, Moly-Scheibe

40,00 $
1 kg(MOQ)
Hochwertige Molybdänziel Molybdänplatte

Hochwertige Molybdänziel Molybdänplatte

40,00-88,00 $
1 kg(MOQ)
Molybdän Zielmaterial bester Preis Mo Ziel

Molybdän Zielmaterial bester Preis Mo Ziel

40,00-88,00 $
1 kg(MOQ)
1/2

Shaanxi Mingsheng Guangpu Metal Materials Co., Ltd.

3 J.·5.0
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Hochreines Titanplattensubstrat für überlegene Festigkeit und Haltbarkeit

Hochreines Titanplattensubstrat für überlegene Festigkeit und Haltbarkeit

190,00-198,00 $
10 Kg(MOQ)
Mehrformige Titanziele für industrielle und chemische Lösungen

Mehrformige Titanziele für industrielle und chemische Lösungen

190,00-198,00 $
10 Kg(MOQ)
Fortgeschrittener Hochreiner Gr1 Titanziel für Hochtechnologieindustrien

Fortgeschrittener Hochreiner Gr1 Titanziel für Hochtechnologieindustrien

190,00-198,00 $
10 Kg(MOQ)
Biokompatible hochreine Titan-Rundziele für industrielle Bedürfnisse

Biokompatible hochreine Titan-Rundziele für industrielle Bedürfnisse

190,00-198,00 $
10 Kg(MOQ)
1/4

Beenine Shanke Technology Co., Ltd.

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Zinn Stannum Sn Sputterziel Fabrik Bindungsdienst

Zinn Stannum Sn Sputterziel Fabrik Bindungsdienst

60,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Herstellungswert Preis Zink Zn Sputterziel China

Herstellungswert Preis Zink Zn Sputterziel China

50,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines 99.995% Zink Zn Beschichtungssubstrat

Hochreines 99.995% Zink Zn Beschichtungssubstrat

50,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Kupfer T2 Rotes Cu Sputterziel Günstiger Preis Herstellung

Kupfer T2 Rotes Cu Sputterziel Günstiger Preis Herstellung

100,00-500,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Kupferziel, Vakuumbeschichtungsziel

Kupferziel, Vakuumbeschichtungsziel

692,00 $
10 Stücke(MOQ)
Duale Zielplasma-Sputterbeschichtungsmaschine für AG Pd Film

Duale Zielplasma-Sputterbeschichtungsmaschine für AG Pd Film

3.000,00-5.000,00 $
1 set(MOQ)
Desktop Edelstahl-Hohlraum Einzelziel Magnetron-Sputter-Beschichtungsgerät

Desktop Edelstahl-Hohlraum Einzelziel Magnetron-Sputter-Beschichtungsgerät

8.730,00-8.900,00 $
1 Stück(MOQ)
DC RF Dual Target Magnetron-Sputterablagerung für Metall- und Oxid-Dünnfilme

DC RF Dual Target Magnetron-Sputterablagerung für Metall- und Oxid-Dünnfilme

21.000,00-26.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Baoji Taizehui Metal Technology Co., Ltd.

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Vakuumbeschichtung Sputterzielmaterial gebogenes Ziel hochreines Verfahren Hafniumplatte

Vakuumbeschichtung Sputterzielmaterial gebogenes Ziel hochreines Verfahren Hafniumplatte

Verhandelbar
2 Kg(MOQ)
Hochreines Tantalplatte-Ziel für Luft- und Raumfahrt- sowie Verteidigungsanwendungen

Hochreines Tantalplatte-Ziel für Luft- und Raumfahrt- sowie Verteidigungsanwendungen

Verhandelbar
10 Kg(MOQ)
Tantalum-Plattenziel für präzise Bearbeitung und fortgeschrittene Anwendungen

Tantalum-Plattenziel für präzise Bearbeitung und fortgeschrittene Anwendungen

Verhandelbar
10 Kg(MOQ)
Tantalum-Plattenziel für fortgeschrittene Materialwissenschaft und Forschungsanwendungen

Tantalum-Plattenziel für fortgeschrittene Materialwissenschaft und Forschungsanwendungen

Verhandelbar
10 Kg(MOQ)
1/4

Shenzhen Silver Technologies Ltd

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Reines Goldziel für Vakuum-Sputterbeschichtung

Reines Goldziel für Vakuum-Sputterbeschichtung

200,00 $
10 g(MOQ)
Acetron Hochrein Vakuumbeschichtungsmaterialien Kupferpellets Kupfer

Acetron Hochrein Vakuumbeschichtungsmaterialien Kupferpellets Kupfer

200,00 $
1 g(MOQ)
1/4

Zhonghe Steel (Tianjin) Co., Ltd.

5 J.
·Handelsunternehmen
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Hochreines 99.99% Titan-Arc-Ziel für Vakuum- / PVD-Beschichtungsmaschine

Hochreines 99.99% Titan-Arc-Ziel für Vakuum- / PVD-Beschichtungsmaschine

10,00-25,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Rotary-Sputterziel 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

Rotary-Sputterziel 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Magnetron-Sputterziel Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Magnetron-Sputterziel Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

500,00 $
1 Stück(MOQ)
99.99% Galliumoxid-Sputterziel Flachziel Ga2o3 Ziel

99.99% Galliumoxid-Sputterziel Flachziel Ga2o3 Ziel

300,00 $
1 Stück(MOQ)
Plasmasprühbeschichtungsausrüstung antihaftend verschleißfest Silizium Aluminium Alumina Zirkonia

Plasmasprühbeschichtungsausrüstung antihaftend verschleißfest Silizium Aluminium Alumina Zirkonia

35.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

12 J.
·Handelsunternehmen
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Biegen und Falten von Molybdän-Sputtertargets

Biegen und Falten von Molybdän-Sputtertargets

40,00-43,00 $
1 Kg(MOQ)
Molybdän-Sputterziele für komplexe Baugruppen

Molybdän-Sputterziele für komplexe Baugruppen

40,00-43,00 $
1 Kg(MOQ)
Ultrahochreine Material Molybdän-Sputterziele

Ultrahochreine Material Molybdän-Sputterziele

20,00-86,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochwertige Molybdän-Sputtertargets

Hochwertige Molybdän-Sputtertargets

66,00-77,00 $
1 Kg(MOQ)
1/1

Zhejiang Ruisheng New Materials Co., Ltd.

Handelsunternehmen
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Premium rotierendes Wolframziel für effiziente Sputteranwendungen

Premium rotierendes Wolframziel für effiziente Sputteranwendungen

50,00-270,00 $
10 Kg(MOQ)
Hochreiner polierter Wolfram-Ziel für fortschrittliche Ionenbeschussanwendungen

Hochreiner polierter Wolfram-Ziel für fortschrittliche Ionenbeschussanwendungen

50,00-270,00 $
10 Kg(MOQ)
Wolfram Boot Hochreine Verdampfung Quelle 99.95% für Vakuumbeschichtung Anpassbar ISO9001

Wolfram Boot Hochreine Verdampfung Quelle 99.95% für Vakuumbeschichtung Anpassbar ISO9001

10,00-85,00 $
1 Kg(MOQ)
Anpassbarer Molybdänboot mit hoher Temperatur- und Korrosionsbeständigkeit für Verdampfungsbeschichtungen und Vakuumanwendungen

Anpassbarer Molybdänboot mit hoher Temperatur- und Korrosionsbeständigkeit für Verdampfungsbeschichtungen und Vakuumanwendungen

30,00-70,00 $
10 Kg(MOQ)
1/4

Zhuzhou Hongtong Tungsten Carbide Co., Ltd.

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Verschiedene Formen von Wolframkarbid-Sputtertargets für DLC-Beschichtungen

Verschiedene Formen von Wolframkarbid-Sputtertargets für DLC-Beschichtungen

38,00-45,00 $
10 Kg(MOQ)
Wolframkarbid-Sputtertargets zur Herstellung von DLC-Beschichtungen

Wolframkarbid-Sputtertargets zur Herstellung von DLC-Beschichtungen

38,00-45,00 $
10 Kg(MOQ)
Wolframcarbidplatte mit einer geriffelten Fläche

Wolframcarbidplatte mit einer geriffelten Fläche

38,00-45,00 $
10 Kg(MOQ)
Wolframcarbid-Verschleißfeste Platten

Wolframcarbid-Verschleißfeste Platten

38,00-45,00 $
10 Kg(MOQ)
1/4

Uv Tech Material Ltd

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Uvtm Fabrik Sputtering Ziel Hersteller in China 18 Jahre Erfahrung Für Msvd und PVD Vakuum kontinuierliche Sputter Beschichtung Produktionslinie Vicky 13249153016

Uvtm Fabrik Sputtering Ziel Hersteller in China 18 Jahre Erfahrung Für Msvd und PVD Vakuum kontinuierliche Sputter Beschichtung Produktionslinie Vicky 13249153016

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
AZO Sputtertarget Beschichtungsmaterial Keramik Target für die Glasindustrie Dünnschichtbeschichtung

AZO Sputtertarget Beschichtungsmaterial Keramik Target für die Glasindustrie Dünnschichtbeschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Uvtm Ziele auf Ausstellung für Spritzenbeschichtung Vicky13249153016

Uvtm Ziele auf Ausstellung für Spritzenbeschichtung Vicky13249153016

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Chrom Cr PVD Zielplanar-Bonding auf Cooper-Trägerplatte Oder Tube

Chrom Cr PVD Zielplanar-Bonding auf Cooper-Trägerplatte Oder Tube

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Kundenspezifisch rund Aluminium Titan Magnetron Sputtering Legierung Ziel für Vakuum Beschichtung

Kundenspezifisch rund Aluminium Titan Magnetron Sputtering Legierung Ziel für Vakuum Beschichtung

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreine ITO-Platte PVD Vakuumbeschichtung Spleißklebende Magnetron Sputtern Von Zielen

Hochreine ITO-Platte PVD Vakuumbeschichtung Spleißklebende Magnetron Sputtern Von Zielen

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreine, Vakuumbeschichtete Elektronische Bauteile Mit Titansputterzielen

Hochreine, Vakuumbeschichtete Elektronische Bauteile Mit Titansputterzielen

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
PVD Dünnschicht-Ablageflumpung Kupfer Lichtbogenkathoden Oberfläche Vakuumbeschichtung Sputtern Von Zielen

PVD Dünnschicht-Ablageflumpung Kupfer Lichtbogenkathoden Oberfläche Vakuumbeschichtung Sputtern Von Zielen

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)

Taizhou ATS Optical Material Co., Ltd.

26 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Optisches Vakuumbeschichtungsmaterial Silizium Si Granulat

Optisches Vakuumbeschichtungsmaterial Silizium Si Granulat

97,50-100,00 $
1 Kg(MOQ)
99.99% Silizium Si Granulat für optische Vakuumbeschichtung

99.99% Silizium Si Granulat für optische Vakuumbeschichtung

97,50-100,00 $
1 Kg(MOQ)
Siliziumziel Si Polysiliziumstück

Siliziumziel Si Polysiliziumstück

26,00-28,00 $
1 piece(MOQ)
Siliziumziel Si-Wafer monokristallines Siliziumstück

Siliziumziel Si-Wafer monokristallines Siliziumstück

4,00-5,00 $
1 piece(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Hochreines HF-Hafniumziel, HfO2 Hafniumdioxid-Ziel, Hfzro2 Ziel, PVD-Magnetron-Sputtering-Ziel für die Vakuumbeschichtung

Hochreines HF-Hafniumziel, HfO2 Hafniumdioxid-Ziel, Hfzro2 Ziel, PVD-Magnetron-Sputtering-Ziel für die Vakuumbeschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hochreines Metall Cr (Chrom) Target für PVD Magnetron Sputtering Vakuumbeschichtung, anpassbare Partikelgröße, mit Trägerplatte Bonding Service

Hochreines Metall Cr (Chrom) Target für PVD Magnetron Sputtering Vakuumbeschichtung, anpassbare Partikelgröße, mit Trägerplatte Bonding Service

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hochreine Edelmetall-Platin-Target, Sputtering-Vakuumbeschichtung Platin-Target-Material und Platinlegierung Rohr / Crucible Verdunstung Beschichtung Partikel

Hochreine Edelmetall-Platin-Target, Sputtering-Vakuumbeschichtung Platin-Target-Material und Platinlegierung Rohr / Crucible Verdunstung Beschichtung Partikel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
ITO (Indium Zinn-Oxid) Zielmaterial, Indium Zinn-Oxid Halbleiter Transparente leitfähige Folie, Magnetron Sputtering Target

ITO (Indium Zinn-Oxid) Zielmaterial, Indium Zinn-Oxid Halbleiter Transparente leitfähige Folie, Magnetron Sputtering Target

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Guangdong Huicheng Vacuum Technology Co., Ltd.

20 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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PVD-Vakuumbeschichtungsmaschine Zielanzeige-Rohrfilter Zirkonium-Zielrohr

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Hcvac Kunststoff Aluminium Verdampfung PVD Vakuum Metallisierungsbeschichtungsmaschine

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60.000,00-300.000,00 $
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Hcvac Solarzellenpanel kontinuierliche Inline-PVD-Vakuumbeschichtungsproduktionslinie Maschine

Hcvac Solarzellenpanel kontinuierliche Inline-PVD-Vakuumbeschichtungsproduktionslinie Maschine

500.000,00-5.000.000,00 $
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Hcvac PVD Vakuumbeschichtungsmaschine für Edelstahl Keramik Glas Kunststoff

Hcvac PVD Vakuumbeschichtungsmaschine für Edelstahl Keramik Glas Kunststoff

50.000,00-300.000,00 $
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Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Hochreines HF-Hafnium-Ziel, HfO2 Hafniumdioxid-Ziel, Hfzro2 Ziel, PVD-Magnetron-Sputtering Vakuumbeschichtung-Ziel, anpassbare Größe

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Hochreines Nickel-Zielmaterial, Nickel-PVD-Zielscheibe für Vakuumbeschichtung, Ziel für Vakuumschmelze, Ziel für Nickel-Vanadium-Legierung

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Hochreines Metall Cr (Chrom) Target für PVD Magnetron Sputtering Vakuumbeschichtung, anpassbare Partikelgröße, mit Trägerplatte Bonding Service

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Hochreines Metalleisenziel, Fe2O3 (Eisenoxid)-Ziel, PVD-Magnetron-Sputtering Vakuumbeschichtung-Ziel mit anpassbarer Größe, Backplate-Bonding

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