Nanowin 2~4 Zoll freistehende GaN Substratflächen (Gallium-Nitrid) /U-GaN, N-GaN, Si-GaN
Mindest. Befehl: | 1 piece |
---|---|
Hafen: | Shanghai, China |
Produktionskapazität: | 50000PCS/Month |
Zahlungsbedingungen: | T/T |
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Produktbeschreibung
Firmeninfo
Die Anschrift:
112 Minziqian Road, Lixia District, Jinan, Shandong, China
Unternehmensart:
Hersteller/Werk
Geschäftsbereich:
Elektronik
Zertifizierung des Managementsystems:
ISO 9001, ISO 9000, ISO 14000, OHSAS/ OHSMS 18001, IATF16949, QC 080000
Firmenvorstellung:
Advanced Semiconductor Materials Co., Ltd. (ASMC) ist eine Niederlassung von Suzhou Nanowin Science and Technology Co., Ltd (Nanowin).
Wir sind verpflichtet, beste Qualität und kostengünstige Wide Band GAP Materialien zu entwickeln und herzustellen: Gan, SiC, AlN, Diamant Einkristall Substrate und Epi Wafer.
Unsere Hauptprodukte:
Galliumnitrid
2-6 Zoll frei stehende GaN-Substrate
2-8 Zoll Standard GaN Epitaxial Wafer
Kundenspezifische Epitaxial Wafer für PIN/SBD/HEMT/MOS/LED etc.
Aluminium Nitrid
2 Zoll frei stehende AlN-Substrate,
2-4 Zoll AlN Epitaxial Wafer.
Siliziumkarbid
4-6 Zoll hochwertige, halbisolierende SiC-Substrate
4-6 Zoll SiC epi-Substrate
Diamant
10*10*0,3mm, 10*10*0,5mm Einkristall-Diamant oder Polykristalline Diamant (optische Qualität, elektronische Qualität)
Bitte lassen Sie uns wissen, wenn Sie an unseren Produkten interessiert sind.: )
Wir sind verpflichtet, beste Qualität und kostengünstige Wide Band GAP Materialien zu entwickeln und herzustellen: Gan, SiC, AlN, Diamant Einkristall Substrate und Epi Wafer.
Unsere Hauptprodukte:
Galliumnitrid
2-6 Zoll frei stehende GaN-Substrate
2-8 Zoll Standard GaN Epitaxial Wafer
Kundenspezifische Epitaxial Wafer für PIN/SBD/HEMT/MOS/LED etc.
Aluminium Nitrid
2 Zoll frei stehende AlN-Substrate,
2-4 Zoll AlN Epitaxial Wafer.
Siliziumkarbid
4-6 Zoll hochwertige, halbisolierende SiC-Substrate
4-6 Zoll SiC epi-Substrate
Diamant
10*10*0,3mm, 10*10*0,5mm Einkristall-Diamant oder Polykristalline Diamant (optische Qualität, elektronische Qualität)
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