Laboratoriumsoptisches Glaswafer-Vakuum-Plasma-Reiniger für Ätzreinigung

Produktdetails
Art: Reinigungsmaschine
Merkmal: Plasmareinigung
Bescheinigung: CE
Gold Mitglied Seit 2023

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Überblick

Grundlegende Informationen.

Modell Nr.
TN-PC13.56M-5L-500SS
Zustand
Neu
Kundenspezifische
Kundenspezifische
Produktname
Plasmareiniger
Kammermaterial
Hochreiner Quarz
Kammergröße
200*340mm
hf-Leistung
0-500/1000W
Frequenz
13,56MHz
Gaskanal
2
Vakuumpumpe
Drehschieber-Vakuumpumpe
Transportpaket
Holzkiste
Spezifikation
600*650*560mm
Warenzeichen
tn
Herkunft
China
Produktionskapazität
50 Sätze pro Monat

Produktbeschreibung

Labor Optischer Glaswafer Vakuum-Plasma-Reiniger für Ätzreinigung
Produktbeschreibung

Einführung von Plasmareiniger:

 
Plasma Cleaner ist eine neue Hightech-Technologie, die Plasma nutzt, um Effekte zu erzielen, die mit herkömmlichen Reinigungsmethoden nicht erreicht werden können. Plasma ist ein Zustand der Materie, auch der vierte Zustand der Materie genannt, und es ist nicht die gemeinsamen drei Zustände von Feststoff, Flüssigkeit und Gas. Geben Sie genügend Energie auf das Gas, um ionisieren und zu einem Plasmazustand zu werden. Die "aktiven" Bestandteile des Plasmas umfassen: Ionen, Elektronen, Atome, aktive Gruppen, angeregte Nuklide (metastasierbare Zustände), Photonen, usw. der Plasmareiniger nutzt die Eigenschaften dieser aktiven Komponenten, um die Oberfläche der Probe zu behandeln, um den Zweck der Reinigung, Beschichtung, etc. Zu erreichen

Anwendungen von Plasmareiniger:

Metall: Entfernen Sie Öl, fettigen Schmutz und andere organische Stoffe und Oxidschicht auf der Metalloberfläche;

Automobilherstellung: Wird für die Vorbehandlung von Kunststoffen und das Lacksprühen in den Automobilherstellungsprozessen verwendet;

Textilproduktion: Wird für Hydrophilie, Hydrophobie und Oberflächenmodifikation von Textilien, Filtersieb und Folien verwendet;

Biomedizin: Petrischalen verbessern die Aktivität, Gefäßstents, Spritzen, Katheter und Probenetzung verschiedener Materialien, vor der Kreuzbeschichtung;

Luft- und Raumfahrt: Oberflächenbeschichtung Vorbehandlung von Isoliermaterialien, elektronischen Komponenten, etc.;

Elektronik: Platinenreinigung und Ätzen. Nicht-Oxidations- und Aktivierungsbehandlung von PP und anderen Materialien, um die Lötbarkeit zu verbessern;

Halbleiterindustrie: Wafer-Verarbeitung und -Verarbeitung zur Entfernung von Fotolack, Vorbehandlung der Verpackung;

LED: Vorbehandlung vor Reinigung und Verpackung der Halterung;

Kunststoffgummi: Verbessern Sie die Oberflächenaktivität von PS, PE, PTFE, TPE, POM, AS und PP, so dass es einfach zu kleben und zu drucken.
Laboratory Optical Glass Wafer Vacuum Plasma Cleaner for Etching Cleaning

Produktparameter

Technische Parameter des 5L Plasmareinigers:

Hauptteile

Element

Parameter

Reinigung
 Kammer

Kammermaterial

Hochreiner Quarz

Kammergröße

Durchmesser 200 mm; Länge 340 mm

HF-Leistung
Versorgung

Stromversorgung
Funktionen

Das Netzteil ist ein Vollstrom-HF-Netzteil und verfügt über ein hochstabiles und hochzuverlässiges Leistungsverstärkermodul sowie ein DC-Modul, das die HF-Leistungsabgabe des Netzteils effektiv gewährleistet. Um die Zuverlässigkeit der Produkte zu gewährleisten, werden hochwertige elektronische Komponenten eingesetzt.

Leistungsvorteil

 Langer Normalbetrieb

 Einfache und flexible Bedienung

 Hohe Effizienz der Stromversorgung und geringe Wärmeentwicklung

 Mit perfekter Reflektionsfunktion

HF-Leistung

0~500W stufenlos einstellbar/0~1000W stufenlos einstellbar

Signalfrequenz

13,56MHz  ±0,005 %

Reflektierte Leistung

200W

Stabilität der Stromversorgung

±0,1 %

HF-Anschluss

N-Steckverbinder

Maschineneffizienz

75 %

Harmonisch
Komponente

-50 dBc

Kühlmethode

Zwangslüftung

Gas
Messung

Messeinheit

Schwimmer-Durchflussmesser

Gaskanal

Zwei Kanäle

Ein Kanalbereich

10~100ml

B-Kanal-Bereich

16~160ml

Vakuum

Vakuum
Messung

Digitales Vakuummeter (Widerstandsmessgerät)

Vakuumpumpe

Zweistufige Drehschieber-Vakuumpumpe

Motordrehzahl

50 Hz: 1440; 60 Hz: 1720

Förderleistung

50 Hz: 1,1l/s; 60 Hz: 1,3L/s.

Vakuumbereich

0,1Pa~10000Pa

Ultimatives Vakuum

0,5Pa

Motorgeräusche

56dB

Rohrschnittstelle

Gaseinlass: KF16; Auslassanschluss KF16.

Verbindungsrohr

KF16 Vakuumbälge

Vakuumventil

Magnetventil

Motorleistung

400W

Andere

Stromversorgung

AC220V 50/60Hz

Gesamtleistung

1000W/1500W

Betrieb
Temperatur

-10ºC-- 40ºC

Arbeitsvakuum

40Pa

Gesamtgröße

600mm×650mm×730mm

Gesamtgewicht

80KG (einschließlich Verpackung)

Detaillierte Fotos

 

1.  BAND: 1L, 2L, 5L, 10L,20L, 30L USW.
2.  HF-STROMVERSORGUNG: 100W, 150W, 300W, 300W, 1000W, Einstellbar. 13,56MHz
3.  Dual-Kanal-Gasdurchflussmesser  
4.  Vakuum: Zweistufige Drehschieber-Vakuumpumpe, 0,5Pa
5. Kundenspezifischer Plasmareiniger entsprechend Ihren Anforderungen ist verfügbar

Laboratory Optical Glass Wafer Vacuum Plasma Cleaner for Etching CleaningLaboratory Optical Glass Wafer Vacuum Plasma Cleaner for Etching Cleaning

Laboratory Optical Glass Wafer Vacuum Plasma Cleaner for Etching Cleaning
Laboratory Optical Glass Wafer Vacuum Plasma Cleaner for Etching Cleaning

Laboratory Optical Glass Wafer Vacuum Plasma Cleaner for Etching Cleaning
Unternehmensprofil

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd ist ein umfassendes Unternehmen, das Design, Forschung und Entwicklung, Produktion und Vertrieb integriert.

Die Hauptprodukte unseres Unternehmens sind: Spinsenat, thermische Verdunstungsanlage , Magnetron Sputter  Beschichter, Plasma Sputter Beschichter, E-Beam Verdunstungsanlage, PLD Pulse Laser Coating Maschine, Plasma-Reiniger, CVD-System, PECVD -System, Diamant-Draht-Schneidemaschine, Schmelzofen / Ofen, Lichtbogen Schmelzofen, etc.

Unsere Produkte sind weit verbreitet im Bereich der materialwissenschaftlichen Forschung. Wir arbeiten eng mit heimischen Universitäten, Laboren und neuen Materialunternehmen zusammen. Es wurde erfolgreich in mehr als 20 Länder und Regionen einschließlich der Vereinigten Staaten, das Vereinigte Königreich, Deutschland, Russland, Schweiz, Kanada,  Brasilien usw. und haben langfristige Kooperationsbeziehungen mit lokalen Händlern aufgebaut.

Wenn Sie Materialforschung betreiben, kontaktieren Sie uns bitte und wir werden Ihnen maßgeschneiderte Dienstleistungen anbieten, um Ihre Forschungsexperimente reibungsloser zu gestalten! Laboratory Optical Glass Wafer Vacuum Plasma Cleaner for Etching CleaningLaboratory Optical Glass Wafer Vacuum Plasma Cleaner for Etching Cleaning

Verpackung Und Versand
Wir können den Plasmareiniger auf dem Seeweg, per Luft, per Express versenden, auch können den Versand nach Ihren Anforderungen arrangieren.
Laboratory Optical Glass Wafer Vacuum Plasma Cleaner for Etching Cleaning
FAQ

F. sind Sie Hersteller oder Handelsunternehmen?
A. Wir sind professioneller Hersteller von Laborgeräten, Wir haben professionelle R & D-Team und Werkstatt, die die Qualität und After-Sales-Service versprechen kann.  

F. wie ist Ihre Garantie?
A.  Unsere Garantie beträgt 12 Monate und bietet lebenslange Wartung. Wir bieten 24 Stunden Online-Service.

F. wie lange ist Ihre Lieferzeit? Wie lange dauert es, wenn ich das Instrument anpassen möchte?
A. 5-10 Tage im Laden. Maßgeschneiderte Produkte----Es dauert in der Regel 30-60 Tage, je nach Ihren Anforderungen.

F. Stromversorgung und Stecker?
A. Wir können Produkte liefern, die auf Ihre lokale Spannung und Stecker Standard akrodieren.

F. wie zahlen?
A.  T T, L / C, D / P USW.

F. wie ist das Paket von Waren? Liefermethoden?
A.  Standard Export Begasung Zeichen Holzbox Verpackung oder als Ihre Anforderungen.

 

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