3N High Purity Titan-Aluminium Sputtering Target Flat Plate / Titan-Aluminium Rotierende Ziele

• Anwendung: Industriell
• Formel: Titanium-Aluminum
• Klassifizierung: Alloy Traget
• Sortenstandard: Industriequalität
• Zertifizierung: iso
• Form: Rotary,Flat,Round
• Modell Nr.: CYT-AlTi
• Transportpaket: Wooden Box
• Spezifikation: Customized Size
• Warenzeichen: CANYUAN
• Herkunft: China
• Produktionskapazität: 1000PCS

Produktbeschreibung

PRODUKTBESCHREIBUNG

Das Titan-Aluminium-Drehziel wird im Spritzguss- oder Vakuumgussverfahren hergestellt und kann eine maximale Länge von 4000mm mm produzieren, wobei die Dicke und Proportionen nach Kundenwunsch angepasst werden.

Das planare Titan-Aluminium-Target wird mit Vakuumschmelz- und Gießtechnologie (wenn der Titanatomialgehalt größer oder gleich 50% ist) oder mit Heißisostatik-Presstechnologie hergestellt und kann eine maximale Länge von 1600mm, eine maximale Breite von 400mm und ein Größenverhältnis von 1:1 erreichen.

Beispiel: Kundenspezifisch angepasst.

TECHNISCHE PARAMETER

Reinheit: 99,8-99,99%; gemeinsames Verhältnis: 90-10Alwt%, 80-20Al Gew.-%, 70-30 Gew.-%, 50-50Alwt%, 40-60Al Gew.-%, 33-67Al bei % usw.

Anwendungsbereiche: Dekorative Beschichtung und Werkzeugbeschichtung, Halbleiterelektronik, Schneidwerkzeuge, Hartmetallbohrer, Hartmetallkeramikwerkzeuge, Hartmetall-Formen, als harte Beschichtung.
Wir können flache  Titan-Aluminium- und rotierende Sputterziele herstellen.
Spezifikation und Reinheit können individuell angepasst werden.
Die Beschreibung und die Zusammensetzung Analyse Tabelle 3N hochreines  Titan-Aluminium  wie folgt:

Zielspezifikation
Anwendung	PVD-Sputtermaterialien
Material	Titan-Aluminium
Reinheit	3N~5N
Größe	Angepasst
Dicke	Angepasst
Form	Drehsputterziel, Ringtyp, Blechtyp, Platt-Typ und Rohrtyp
Dichte	-g/cm3
Schmelzpunkt	-ºC
Methode erzeugen	Schmelzen und Mischen

Unser Vorteil

Vorgang

Bild Wird Verpackt

Anwendung:

Produkt In Beziehung Zu Bringen

Material	Reinheit (N)	Komponenten (wt%)	Dichte	Schmelzen  Punkt	Thermisch Leitfähigkeit (WM-1K-1)	Koeffizient von  Erweiterung (10-6k-1)	Produktion  Prozess
Al-Legierung	5N	-	2,7	660	235	23,1	Schmelzen
Cr	3N5	-	7,22	1907	94	4,9	HÜFTE
Cu	4N	-	8,9	1084	400	16,5	Schmelzen
Mo-Legierung	3N5	-	10,28	2623	139	4,8	HÜFTE
Anm.	4N	-	8,6	2477	54	7,3	Schmelzen
Ta	4N	-	16,7	3017	57	6,3	Schmelzen
Si	4N	-	2,33	1414	150	2,6	Sintern Und Sprühen
TI	5N	-	4,5	1670	22	8,6	Schmelzen
W	4N	-	19,25	3422	174	4,5	HÜFTE
AZO	3N5	98:2 Uhr	5,6	1975	22	1,5	Sintern
ITO	4N	90:10 Uhr	7,15	2000	15	2,0	Sintern
GZO	3N5	WIE GEWÜNSCHT	7,15	-	-	-	Sintern
IGZO	4N	WIE GEWÜNSCHT	-	-	-	-	Sintern
NBox	4N	-	4,6	1460	5	1,5	Sintern Und Sprühen
TiOx	4N	-	4,23	1800	4	7,14	Sintern Und Sprühen