• 4N Aluminiumoxid-Ziel Al2O3-Ziel, Aluminiumoxid-Rotationsopfer/flache Ziele
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4N Aluminiumoxid-Ziel Al2O3-Ziel, Aluminiumoxid-Rotationsopfer/flache Ziele

Application: Industrial
Formel: Alumimium Oxide
Klassifizierung: Ceramic Traget
Sortenstandard: Industriequalität
Zertifizierung: iso
Form: Rotary,Flat,Round

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Gold Mitglied Seit 2023

Lieferanten mit verifizierten Geschäftslizenzen

Guangdong, China
, um alle verifizierten Stärkelabels (14) anzuzeigen.

Grundlegende Informationen.

Modell Nr.
CYT-AL2O3
Transportpaket
Wooden Box
Spezifikation
Customized Size
Warenzeichen
CANYUAN
Herkunft
China
Produktionskapazität
1000PCS

Produktbeschreibung

4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
PRODUKTBESCHREIBUNG

Aluminiumoxid-Zielmaterialien werden durch Vakuum-Heißpressen und Atmosphärensinterverfahren gewonnen, um Aluminiumoxid-Zielrohlinge zu erhalten, die dann bearbeitet werden, um das endgültige Ziel zu produzieren. Rotierende Ziele werden normalerweise an ein Trägerrohr gebunden, während flache Ziele in Vakuumsintern verwendet werden.

Es wird empfohlen, das Oberflächenziel zu verwenden, das an einer Kupferrückwandplatine befestigt ist, und die Größe kann entsprechend den Kundenanforderungen angepasst werden.

Technische Parameter

Reinheit: 99,99 %.

Anwendungsbereiche: Mechanische Ausrüstung, optisches Feld, Mikroelektronik, Halbleiter.
Wir können flache AL2O3 und rotierende Sputterziele machen.
Spezifikation und Reinheit können individuell angepasst werden.
Die Beschreibung und die Analyse der Zusammensetzung Tabelle von 4N
AL2O3
  wie folgt:
 Zielspezifikation  
Anwendung PVD-Sputtermaterialien
Material Al2O3 (Aluminiumoxid)
Reinheit 4N
Größe Angepasst
Dicke Angepasst
Form Drehsputterziel, Ringtyp, Blechtyp, Platt-Typ und Rohrtyp
Dichte -g/cm3
Schmelzpunkt -ºC
Methode erzeugen HÜFTE

4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
Unser Vorteil
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets


Vorgang
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets

Bild Wird Verpackt
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets


Anwendung:
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets
4n Alumina Target Al2O3 Target, Alumimium Oxide Rotary Targets/Flat Targets

Produkt In Beziehung Zu Bringen
Material Reinheit
(N)
Komponenten
(wt%)
Dichte Schmelzen
 Punkt
Thermisch
Leitfähigkeit
(WM-1K-1)
Koeffizient von
 Erweiterung
(10-6k-1)
Produktion
 Prozess
Al-Legierung 5N - 2,7 660 235 23,1 Schmelzen
Cr 3N5 - 7,22 1907 94 4,9 HÜFTE
Cu 4N - 8,9 1084 400 16,5 Schmelzen
Mo-Legierung 3N5 - 10,28 2623 139 4,8 HÜFTE
Anm. 4N - 8,6 2477 54 7,3 Schmelzen
Ta 4N - 16,7 3017 57 6,3 Schmelzen
Si 4N - 2,33 1414 150 2,6 Sintern Und Sprühen
TI 5N - 4,5 1670 22 8,6 Schmelzen
W 4N - 19,25 3422 174 4,5 HÜFTE
AZO 3N5 98:2 Uhr 5,6 1975 22 1,5 Sintern
ITO 4N 90:10 Uhr 7,15 2000 15 2,0 Sintern
GZO 3N5 WIE GEWÜNSCHT 7,15 - - - Sintern
IGZO 4N WIE GEWÜNSCHT - - - - Sintern
NBox 4N - 4,6 1460 5 1,5 Sintern Und Sprühen
TiOx 4N - 4,23 1800 4 7,14 Sintern Und Sprühen
 

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Hersteller/Werk
Hauptprodukte
Sputtering Target
Anzahl der Angestellten
6