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etwa Keramikziele
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Keramikziele700+ Fabriken verifiziert

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Polysiliziumkeramisches Ziel für Sputterziele in der Solarphotovoltaik

Polysiliziumkeramisches Ziel für Sputterziele in der Solarphotovoltaik

35,00-50,00 $
1 Kg(MOQ)
Mono-Si Ziel monokristallines Siliziumkeramikziel für Sputterziele Solar-Photovoltaik Mobiltelefon

Mono-Si Ziel monokristallines Siliziumkeramikziel für Sputterziele Solar-Photovoltaik Mobiltelefon

35,00-75,00 $
1 Kg(MOQ)
In2O3+Cu Keramisches Ziel-Indiumoxid+Kupfer-Keramisches Sputterziel für LCD/Touch-Panel

In2O3+Cu Keramisches Ziel-Indiumoxid+Kupfer-Keramisches Sputterziel für LCD/Touch-Panel

40,00 $
1 Kg(MOQ)
SrRuO3 Zielstrontiumruthenatkeramiksputterziel für optische Dünnfilm-Beschichtung

SrRuO3 Zielstrontiumruthenatkeramiksputterziel für optische Dünnfilm-Beschichtung

40,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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99.5% Titan-Nitrid-Sputterziel Keramisches Zinnziel für Dünnfilm-Beschichtung

99.5% Titan-Nitrid-Sputterziel Keramisches Zinnziel für Dünnfilm-Beschichtung

100,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreine Keramik Sio2 Sputterziel für fortschrittliche Beschichtungen

Hochreine Keramik Sio2 Sputterziel für fortschrittliche Beschichtungen

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hochreine 99.99% Alumina/Al2O3 Keramische Sputtertargets

Hochreine 99.99% Alumina/Al2O3 Keramische Sputtertargets

100,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreine 99.99% Sio2 Keramische Zielscheibe für Beschichtungsanwendungen

Hochreine 99.99% Sio2 Keramische Zielscheibe für Beschichtungsanwendungen

55,00-85,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Hochwertiges Aluminiumcarbid-Keramik-Sputterziel Al4c3 Ziel

Hochwertiges Aluminiumcarbid-Keramik-Sputterziel Al4c3 Ziel

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.99% Zrsi2 Keramische Ziele Zirkoniumsilicid-Sputterziel

99.99% Zrsi2 Keramische Ziele Zirkoniumsilicid-Sputterziel

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.99% Sio Keramische Zielsiliziummonoxid-Sputterziele für Dünnschichtabscheidung

99.99% Sio Keramische Zielsiliziummonoxid-Sputterziele für Dünnschichtabscheidung

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreine Nb2o5 Ziele Niobiumoxid Keramiksputterziele

Hochreine Nb2o5 Ziele Niobiumoxid Keramiksputterziele

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

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Siliziumkarbid Sic hochreine beschichtete Keramikkathode Magnetron-Sputterverarbeitung Anpassung

Siliziumkarbid Sic hochreine beschichtete Keramikkathode Magnetron-Sputterverarbeitung Anpassung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Siliziumkarbid-Ziel Sic 99.9% Sputterbeschichtung Keramisches Ziel

Siliziumkarbid-Ziel Sic 99.9% Sputterbeschichtung Keramisches Ziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hochreines 99.9%- 99.99% Ruo2 Ziel, 1-10inch Rutheniumdioxid-Sputterziel

Hochreines 99.9%- 99.99% Ruo2 Ziel, 1-10inch Rutheniumdioxid-Sputterziel

2.000,00-4.000,00 $
1 Stück(MOQ)
99.95% Hochreines Tantalmetall-Sputterziel für Dünnfilm-Beschichtung

99.95% Hochreines Tantalmetall-Sputterziel für Dünnfilm-Beschichtung

700,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

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Lanthanhexaborid Lab6 Keramikscheibe Sputterziel

Lanthanhexaborid Lab6 Keramikscheibe Sputterziel

50,00-200,00 $
1 Stück(MOQ)
Lanthanhexaborid Lab6 Keramiksputterziel für PVD-Dünnfilm-Beschichtung

Lanthanhexaborid Lab6 Keramiksputterziel für PVD-Dünnfilm-Beschichtung

50,00-200,00 $
1 Stück(MOQ)
Hoch Elektronenaussendungs-Lanthanhhexaborid Lab6 Keramische Ziele

Hoch Elektronenaussendungs-Lanthanhhexaborid Lab6 Keramische Ziele

50,00-200,00 $
1 Stück(MOQ)
Maßgeschneiderte Bn-Gas-Atomisierungsdüse aus Bornitridkeramik

Maßgeschneiderte Bn-Gas-Atomisierungsdüse aus Bornitridkeramik

5,00-50,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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TMAXCN Marke 99.5% Sic Keramisches Ziel Siliziumkarbid Sputterziel für Beschichtung

TMAXCN Marke 99.5% Sic Keramisches Ziel Siliziumkarbid Sputterziel für Beschichtung

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke Hochrein 99.5% Reines Borcarbid B4c Keramisches Sputterziel

TMAXCN Marke Hochrein 99.5% Reines Borcarbid B4c Keramisches Sputterziel

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke 1600c Multi-Zonen Mini-Rohrofen mit Alumina-Keramiktube

TMAXCN Marke 1600c Multi-Zonen Mini-Rohrofen mit Alumina-Keramiktube

3.650,00-8.100,00 $
1 Stück(MOQ)
Bänktop DC/RF Magnetron-Sputterbeschichter für Metalle, Oxide, Keramiken und Halbleiter

Bänktop DC/RF Magnetron-Sputterbeschichter für Metalle, Oxide, Keramiken und Halbleiter

15.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Vakuum-Metallisierung Titan-Aluminium-Legierung Ziel

Vakuum-Metallisierung Titan-Aluminium-Legierung Ziel

30,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Titan-Nitrid Gold Miniatur PVD Vakuumbeschichtungsanlage

Titan-Nitrid Gold Miniatur PVD Vakuumbeschichtungsanlage

8.000,00-60.000,00 $
1 Stück(MOQ)
PVD-Vakuumbeschichtungsmaschine, PVD-Vakuumbeschichtungsanlagen, PVD-Beschichtungsausrüstung, PVD-Beschichtungsmaschine

PVD-Vakuumbeschichtungsmaschine, PVD-Vakuumbeschichtungsanlagen, PVD-Beschichtungsausrüstung, PVD-Beschichtungsmaschine

25.000,00-88.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hersteller PVD-Beschichtungsmaschine für Wasserhahn Möbel Edelstahl

Hersteller PVD-Beschichtungsmaschine für Wasserhahn Möbel Edelstahl

15.000,00-150.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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99.99% Hochreines Strontiumruthenat Srruo3 Keramisches Ziel

99.99% Hochreines Strontiumruthenat Srruo3 Keramisches Ziel

28.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Magnetron-Sputtern Ruthenium-Ziel hohe Reinheit

Magnetron-Sputtern Ruthenium-Ziel hohe Reinheit

32.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Siliziumnitrid-Zielmaterial

Hochreines Siliziumnitrid-Zielmaterial

15.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Ruthenium-Ziel hochreines Sputter-Rundziel

Ruthenium-Ziel hochreines Sputter-Rundziel

75.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shandong Pengcheng Advanced Ceramics Co., Ltd.

12 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Boronitride-Sputterziel Verdampfungsschalen Boronitrid-Keramische elektrische Tiegel

Boronitride-Sputterziel Verdampfungsschalen Boronitrid-Keramische elektrische Tiegel

150,00-160,00 $
100 Kg(MOQ)
Titan-Diborid (TiB2) Sputterziele Keramikplatte

Titan-Diborid (TiB2) Sputterziele Keramikplatte

30,00 $
50 Kg(MOQ)
Tib2 Keramische Sputterziele Titanborid

Tib2 Keramische Sputterziele Titanborid

30,00 $
50 Kg(MOQ)
1/4

Hebei Zhongyi Import and Export Co., Ltd.

2 J.
·Handelsunternehmen
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Hochreines Wolframdisulfid Ws2 Keramisches Sputterziel für Beschichtungsanwendungen

Hochreines Wolframdisulfid Ws2 Keramisches Sputterziel für Beschichtungsanwendungen

9,00-12,00 $
10 Kg(MOQ)
Reines Wolframdisulfid Ws2 Keramikbeschichtungs-Sputterziel für hochwertige Beschichtungen

Reines Wolframdisulfid Ws2 Keramikbeschichtungs-Sputterziel für hochwertige Beschichtungen

9,00-12,00 $
10 Kg(MOQ)
1/4

BIOTIO SHANGHAI CORP CO., LTD.

5.0
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Aluminiumkugeln APP-512 Sputterziel hohe Reinheit 99.999% auf Lager

Aluminiumkugeln APP-512 Sputterziel hohe Reinheit 99.999% auf Lager

3.180,00-8.500,00 $
1 Ton(MOQ)
Aluminiumkugeln API-625 Sputterziel hohe Reinheit 99.999% auf Lager

Aluminiumkugeln API-625 Sputterziel hohe Reinheit 99.999% auf Lager

3.180,00-8.500,00 $
1 Ton(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Hochschmelzender Zirkonium-Rund-Sputtertarget Zr702

Hochschmelzender Zirkonium-Rund-Sputtertarget Zr702

15,00 $
1 pcs(MOQ)
Hochharter polierter Oberflächen- und höherreiner Nickelrohrziel

Hochharter polierter Oberflächen- und höherreiner Nickelrohrziel

30,00 $
10 Stücke(MOQ)
Hochwertiges Nickelrundziel für Sputterziele

Hochwertiges Nickelrundziel für Sputterziele

10,00 $
1 pcs(MOQ)
Gute thermische und elektrische Leitfähigkeit reiner gerader Zirkoniumrundstab

Gute thermische und elektrische Leitfähigkeit reiner gerader Zirkoniumrundstab

15,00 $
10 kg(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

4.5
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Hochreine Sputter-Titanziele Preis für PVD-Beschichtung/Ti Sputter-Titanziel runde Titanziele zum Verkauf

Hochreine Sputter-Titanziele Preis für PVD-Beschichtung/Ti Sputter-Titanziel runde Titanziele zum Verkauf

80,00-300,00 $
1 Stück(MOQ)
Cicel Edelstahl, Edelstahl, Glas, Metall, Keramik, Kristall Multi-Arc-Ion-PVD-Beschichtungsmaschine

Cicel Edelstahl, Edelstahl, Glas, Metall, Keramik, Kristall Multi-Arc-Ion-PVD-Beschichtungsmaschine

Verhandelbar
1 Set(MOQ)
Cicel Golden, Roségold, Schwarz, Blau, Regenbogenfarbige Multi-Bogen-Ion-PVD-Beschichtungsmaschine für Edelstahl, Glas, Metall, Keramik, Kristall

Cicel Golden, Roségold, Schwarz, Blau, Regenbogenfarbige Multi-Bogen-Ion-PVD-Beschichtungsmaschine für Edelstahl, Glas, Metall, Keramik, Kristall

Verhandelbar
1 Set(MOQ)
Keramische Fliesen PVD-Vakuumbeschichtungsmaschine

Keramische Fliesen PVD-Vakuumbeschichtungsmaschine

70.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Dongguan Hongcheng Optical Products Co., Ltd

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Common Calibration Plate International Checkerboard Calibration Plate, Solid Circle Array Calibration Plate Grid Calibration Plate Ceramic Calibration Target

Common Calibration Plate International Checkerboard Calibration Plate, Solid Circle Array Calibration Plate Grid Calibration Plate Ceramic Calibration Target

300,00 $
1 Stück(MOQ)
Rasterfeld-Kalibrierungs-Platten-internationale Schachbrett-Kalibrierungs-Platte, keramische Kalibrierungs-Platten-hohe Genauigkeits-Präzisions-Kalibrierungs-Ziel-Hersteller

Rasterfeld-Kalibrierungs-Platten-internationale Schachbrett-Kalibrierungs-Platte, keramische Kalibrierungs-Platten-hohe Genauigkeits-Präzisions-Kalibrierungs-Ziel-Hersteller

Verhandelbar
1 PCS(MOQ)
Hochpräzise Optische Keramikkalibrierung Ziel Customized Vision Calibration Platten Chrom Glas Fotomasken große Kalibrierung Ziel Messgitter PUNKT Reticl

Hochpräzise Optische Keramikkalibrierung Ziel Customized Vision Calibration Platten Chrom Glas Fotomasken große Kalibrierung Ziel Messgitter PUNKT Reticl

300,00 $
1 Stück(MOQ)
Hersteller-Kalibrierungs-Platte, Glaskalibrierungs-Platten-hohe Genauigkeits-Präzisions-Kalibrierungs-Ziel viele stellen Kalibrierungs-Ziel grafisch dar

Hersteller-Kalibrierungs-Platte, Glaskalibrierungs-Platten-hohe Genauigkeits-Präzisions-Kalibrierungs-Ziel viele stellen Kalibrierungs-Ziel grafisch dar

Verhandelbar
1 PCS(MOQ)

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Bornitrid (BN) Keramiknitrid PVD Sputtering Target, Titandiborid, Titanborid, Kundenspezifische Größe, Trägerplatte Bonding

Bornitrid (BN) Keramiknitrid PVD Sputtering Target, Titandiborid, Titanborid, Kundenspezifische Größe, Trägerplatte Bonding

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Barium Titanat Batio3 Target, Barium Strontium Titanat Target Basrtio3, PVD Magnetron Sputtering Target, Laborverbrauchsmaterial

Barium Titanat Batio3 Target, Barium Strontium Titanat Target Basrtio3, PVD Magnetron Sputtering Target, Laborverbrauchsmaterial

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
ITO (Indium Zinn-Oxid) Zielmaterial, Indium Zinn-Oxid Halbleiter Transparente leitfähige Folie, Magnetron Sputtering Target

ITO (Indium Zinn-Oxid) Zielmaterial, Indium Zinn-Oxid Halbleiter Transparente leitfähige Folie, Magnetron Sputtering Target

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hochreines Zinkoxid-Aluminium (AZO) Zielmaterial, Zinkoxid (ZnO) dotiert mit Aluminiumoxid (Al2O3), Magnetron Sputteroxid-Ziel, Backplate Bonding

Hochreines Zinkoxid-Aluminium (AZO) Zielmaterial, Zinkoxid (ZnO) dotiert mit Aluminiumoxid (Al2O3), Magnetron Sputteroxid-Ziel, Backplate Bonding

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 J.
·Hersteller/Werk
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Keramisch, Dielektrisch, Optisch, Oxid, Hartfilm, PTFE-Film RF-Dualziel-Magnetron-Sputterbeschichter

Keramisch, Dielektrisch, Optisch, Oxid, Hartfilm, PTFE-Film RF-Dualziel-Magnetron-Sputterbeschichter

26.500,00 $
1 Stück(MOQ)
Einzelne Duale Dreifache Ziel-Magnetron-Sputter-Beschichtung mit Filmdickenmonitor

Einzelne Duale Dreifache Ziel-Magnetron-Sputter-Beschichtung mit Filmdickenmonitor

60.000,00-61.200,00 $
1 set(MOQ)
Einzelziel-Magnetron-Sputtern mit optischer Faserwicklungsfunktion

Einzelziel-Magnetron-Sputtern mit optischer Faserwicklungsfunktion

28.000,00-29.500,00 $
1 set(MOQ)
Einzelziel-Magnetron-Sputterbeschichtung mit Filmdickenmonitor

Einzelziel-Magnetron-Sputterbeschichtung mit Filmdickenmonitor

18.000,00-19.200,00 $
1 set(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Bornitrid (BN) Keramiknitrid PVD Sputtering Target, Titandiborid, Titanborid, Kundenspezifische Größe, Trägerplatte Bonding

Bornitrid (BN) Keramiknitrid PVD Sputtering Target, Titandiborid, Titanborid, Kundenspezifische Größe, Trägerplatte Bonding

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
ITO (Indium Zinn-Oxid) Zielmaterial, Indium Zinn-Oxid Halbleiter Transparente leitfähige Folie, Magnetron Sputtering Target, kundenspezifische Spezifikationen

ITO (Indium Zinn-Oxid) Zielmaterial, Indium Zinn-Oxid Halbleiter Transparente leitfähige Folie, Magnetron Sputtering Target, kundenspezifische Spezifikationen

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hochreines IGZO (Indium Gallium Zinkoxid) Zielmaterial für PVD-Magnetron-Sputtering Vakuumbeschichtung, Forschung und Experimentalmaterial

Hochreines IGZO (Indium Gallium Zinkoxid) Zielmaterial für PVD-Magnetron-Sputtering Vakuumbeschichtung, Forschung und Experimentalmaterial

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Barium Titanat Batio3 Target, Barium Strontium Titanat Target Basrtio3, PVD Magnetron Sputtering Target, Laborverbrauchsmaterialien, Partikel, Bonding von Backing

Barium Titanat Batio3 Target, Barium Strontium Titanat Target Basrtio3, PVD Magnetron Sputtering Target, Laborverbrauchsmaterialien, Partikel, Bonding von Backing

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd

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ITO (Tabletten) Sputtering Target

ITO (Tabletten) Sputtering Target

Verhandelbar
5 Stücke(MOQ)
Zirconium Sputtering Target

Zirconium Sputtering Target

Verhandelbar
5 Stücke(MOQ)
Drehendes Silizium-Target

Drehendes Silizium-Target

Verhandelbar
5 Sätze(MOQ)
ITO-Ziel

ITO-Ziel

Verhandelbar
5 Stücke(MOQ)

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 J.
·Handelsunternehmen
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Fabrikpreis Verkauf Hochreinheit ITO Ziel für Rpd 4n

Fabrikpreis Verkauf Hochreinheit ITO Ziel für Rpd 4n

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Niedrige Dichte 4n ITO Kleine Runde Zielscheibe

Fabrikpreis Verkauf Niedrige Dichte 4n ITO Kleine Runde Zielscheibe

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Thulium Metall Zielstab Granulat CAS Nr 7440-30-4 TM 2n 3n 3n5

Thulium Metall Zielstab Granulat CAS Nr 7440-30-4 TM 2n 3n 3n5

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges ITO Rotationssputterziel 4n In2o3 und Sno2

Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges ITO Rotationssputterziel 4n In2o3 und Sno2

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
1/4

Jiangsu Haitai Optoelectronic Materials Technology Co., Ltd.

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Nbox-Ziel

Nbox-Ziel

1.400,00-9.200,00 $
2 Stücke(MOQ)
Sizr-Ziel

Sizr-Ziel

5.000,00-12.600,00 $
2 Stücke(MOQ)
Sial-Ziel

Sial-Ziel

280,00-2.230,00 $
2 Stücke(MOQ)

Uv Tech Material Ltd

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AZO Sputtertarget Beschichtungsmaterial Keramik Target für die Glasindustrie Dünnschichtbeschichtung

AZO Sputtertarget Beschichtungsmaterial Keramik Target für die Glasindustrie Dünnschichtbeschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

China Rare Metal Material Co., Ltd.

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Sputterende Ziele Aus Keramik

Sputterende Ziele Aus Keramik

100,00 $
1 Stück(MOQ)

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

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Ybco Yba2cu3o7 Yttrium Barium Kupferoxid Sputterziel

Ybco Yba2cu3o7 Yttrium Barium Kupferoxid Sputterziel

250,00-500,00 $
1 Stück(MOQ)

Hunan Ultra Minor Metals Ltd

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Hoher Reinheitsgrad-Osmium-Ziel-Spritzenziel für Dünnfilm-Industrie

Hoher Reinheitsgrad-Osmium-Ziel-Spritzenziel für Dünnfilm-Industrie

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Deyang Aijialun Vacuum Technology Co., Ltd.

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ITO Sputtering Target

ITO Sputtering Target

20,00-1.000,00 $
1 Satz(MOQ)

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Premium schwarzes rundes Seltenmetallziel für präzises Schießen

Premium schwarzes rundes Seltenmetallziel für präzises Schießen

115,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)
Maßgeschneiderte Ytterbium (Yb) Sputterziele für fortschrittliche Anwendungen

Maßgeschneiderte Ytterbium (Yb) Sputterziele für fortschrittliche Anwendungen

190,00-199,00 $
1 Stück(MOQ)
99.9% Reinheit Gadolinium Metallplatte Gd Sputterziel für magnetische Verwendung seltener Erden

99.9% Reinheit Gadolinium Metallplatte Gd Sputterziel für magnetische Verwendung seltener Erden

55,00-85,00 $
1 Stück(MOQ)
Zirkuläre Seltene-Erde-Cerium-Sputterzielscheibe für Halbleiterchips

Zirkuläre Seltene-Erde-Cerium-Sputterzielscheibe für Halbleiterchips

55,00-85,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 J.·5.0
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Mo1 Ziel Molybdän Sputterziel Preis

Mo1 Ziel Molybdän Sputterziel Preis

40,00-88,00 $
1 kg(MOQ)
Hochwertige Molybdänziel Molybdänplatte

Hochwertige Molybdänziel Molybdänplatte

40,00-88,00 $
1 kg(MOQ)
Am meisten vertrauenswürdiger Tzm Boot Tzm Molybdän Boot

Am meisten vertrauenswürdiger Tzm Boot Tzm Molybdän Boot

31,00-54,00 $
1 kg(MOQ)
Reiner Wolframstab angepasst W1 Wolframstange

Reiner Wolframstab angepasst W1 Wolframstange

39,00-65,00 $
1 kg(MOQ)
1/2

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Desktop Edelstahl-Hohlraum Einzelziel Magnetron-Sputter-Beschichtungsgerät

Desktop Edelstahl-Hohlraum Einzelziel Magnetron-Sputter-Beschichtungsgerät

8.730,00-8.900,00 $
1 Stück(MOQ)
DC RF Dual Target Magnetron-Sputterablagerung für Metall- und Oxid-Dünnfilme

DC RF Dual Target Magnetron-Sputterablagerung für Metall- und Oxid-Dünnfilme

21.000,00-26.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Doppelziel-Magnetron-Sputterbeschichter mit Übergangskammer

Doppelziel-Magnetron-Sputterbeschichter mit Übergangskammer

28.500,00-40.100,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochpreiswertes Drei-Ziele-Magnetron-Sputterbeschichter (500W DC&500W RF)

Hochpreiswertes Drei-Ziele-Magnetron-Sputterbeschichter (500W DC&500W RF)

28.500,00-40.100,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Seltene Erden-Cerdioxid CeO2 99,95% Keramik Sputtering Ziel PVD Beschichtung

Seltene Erden-Cerdioxid CeO2 99,95% Keramik Sputtering Ziel PVD Beschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Keramik Sputtering Target in verschiedenen Formen für PVD-Beschichtung Compound Ziel

Keramik Sputtering Target in verschiedenen Formen für PVD-Beschichtung Compound Ziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
AZO Sputtering Target Aluminium Zinkoxid für die Verdampfung Dünnschicht-Optical Beschichtung

AZO Sputtering Target Aluminium Zinkoxid für die Verdampfung Dünnschicht-Optical Beschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Dioxide SiO2 Keramik Sputtering Target Granule für die Verdunstungsbeschichtung

Dioxide SiO2 Keramik Sputtering Target Granule für die Verdunstungsbeschichtung

Verhandelbar
1 Kg(MOQ)

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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5-200kw Typische Sputterquelle für die Dünnfilm-Beschichtungsindustrie Rotationsmagnetron-Sputterkathode Rotationssputterziel

5-200kw Typische Sputterquelle für die Dünnfilm-Beschichtungsindustrie Rotationsmagnetron-Sputterkathode Rotationssputterziel

6.900,00-7.000,00 $
2 sets(MOQ)
Rotierender Kathode, zylindrisches Röhrenziel für Beschichtungsmaschine

Rotierender Kathode, zylindrisches Röhrenziel für Beschichtungsmaschine

6.700,00-6.800,00 $
2 sets(MOQ)
Schwarze Luxus-Gold-Waschtischbeschichtung PVD-Maschine für Stahlkeramik

Schwarze Luxus-Gold-Waschtischbeschichtung PVD-Maschine für Stahlkeramik

65.000,00-80.000,00 $
1 Satz(MOQ)
Keramisches Produkt Multi-Arc-Ionenbeschichter

Keramisches Produkt Multi-Arc-Ionenbeschichter

65.000,00-120.000,00 $
1 Satz(MOQ)
1/4
126
Heiße Produkte
Beschichtungsmaschine
Galvanikanlagen
Vakuumtechnologie
Vakuumformmaschine
Vakuummaschine
Vakuumformmaschine
Pvd-beschichtung
Vakuumbeschichtungsanlage
Zugehörige Hersteller & Lieferant
Vakuumbeschichtungsmaschine Fabrik
Kebabmaschine Fabrik
Sputterende Ziele Aus Keramik Fabrik
Sputterbeschichtungsmaschine Fabrik
Pvd-beschichtungsmaschine Hersteller
Pvd-vakuumbeschichtungsmaschine Hersteller
Pvd-ionen-vakuum-beschichtungsmaschine Hersteller
Shawarma-maschine Hersteller
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