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etwa Rotationssputterziel
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Rotationssputterziel50+ Fabriken verifiziert

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Cu-Sputterziel Kupfer Rotationsziel für metallbeschichtete Leiter/ Halbleiter

Cu-Sputterziel Kupfer Rotationsziel für metallbeschichtete Leiter/ Halbleiter

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Ti Target Titan-Sputterziel / Titan-Rotationsziel für Halbleiter / Vakuumbeschichtungssputtern

Ti Target Titan-Sputterziel / Titan-Rotationsziel für Halbleiter / Vakuumbeschichtungssputtern

20,00-100,00 $
1 Kg(MOQ)
Aluminium-Sputterzielscheibe für integrierte Schaltungen/LCDs

Aluminium-Sputterzielscheibe für integrierte Schaltungen/LCDs

1,00-10,00 $
1 Kg(MOQ)
Ta Target Tantalum Sputterziel Tantalum Rotationsziel für Halbleiter

Ta Target Tantalum Sputterziel Tantalum Rotationsziel für Halbleiter

400,00-600,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Hochreine 99.99% Niv7wt% Rotationsmagnetron-Ziele Nickel Vanadium Röhren-Sputterziel

Hochreine 99.99% Niv7wt% Rotationsmagnetron-Ziele Nickel Vanadium Röhren-Sputterziel

55,00-120,00 $
1 Stück(MOQ)
Xinkang 3n5 99.95% Reinmetallmaterial Magnetron Cr Chrom Rotationssputterziele

Xinkang 3n5 99.95% Reinmetallmaterial Magnetron Cr Chrom Rotationssputterziele

55,00-120,00 $
1 Stück(MOQ)
Xinkang 5n5 99.9995% Hochreines Aluminium Rotationssputterziel für PVD-Beschichtung

Xinkang 5n5 99.9995% Hochreines Aluminium Rotationssputterziel für PVD-Beschichtung

55,00-135,00 $
1 Stück(MOQ)
Xinkang 4n 99.99% Hochreines Siliziumlegierungs-Rotationsziel Silizium-Sputterziel

Xinkang 4n 99.99% Hochreines Siliziumlegierungs-Rotationsziel Silizium-Sputterziel

85,00-125,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhuzhou Weilai New Materials Technology Co., Ltd.

8 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Wir liefern verschiedene Arten von rotierenden Anoden-Zielen, Sandstrahlen, schwarz beschichtete rotierende Anoden-Sputterziele

Wir liefern verschiedene Arten von rotierenden Anoden-Zielen, Sandstrahlen, schwarz beschichtete rotierende Anoden-Sputterziele

142,00-168,00 $
30 Stücke(MOQ)
Liefern Sie schwarzen Mo Rhenium Wolfram Rotationsanoden-Sputterziel

Liefern Sie schwarzen Mo Rhenium Wolfram Rotationsanoden-Sputterziel

142,00-168,00 $
30 Stücke(MOQ)
Molybdän Zielmaterial bester Preis rotierendes Wolfram Rhenium Oberflächen-CT-Anoden-Sputterziel

Molybdän Zielmaterial bester Preis rotierendes Wolfram Rhenium Oberflächen-CT-Anoden-Sputterziel

142,00-168,00 $
30 Stücke(MOQ)
Professioneller Hersteller für rotierende Anoden-Sputtertargets, Molybdän-Rhenium-Wolfram-Verbundrotoranode-Target

Professioneller Hersteller für rotierende Anoden-Sputtertargets, Molybdän-Rhenium-Wolfram-Verbundrotoranode-Target

142,00-168,00 $
30 Stücke(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Cu Kupfer Sputterziel Metall Kupfer Rotationsziel für Magnetron-Sputtern

Cu Kupfer Sputterziel Metall Kupfer Rotationsziel für Magnetron-Sputtern

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.9% Ni Nickel Sputterziel Metallmaterial Magnetron Ni Nickel Rotationssputterziele

99.9% Ni Nickel Sputterziel Metallmaterial Magnetron Ni Nickel Rotationssputterziele

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.99% Vc Ziele Vanadiumkarbid Keramiksputterziele

99.99% Vc Ziele Vanadiumkarbid Keramiksputterziele

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
Nbc zielt auf Niobiumkarbid-Keramiksputtertargets ab

Nbc zielt auf Niobiumkarbid-Keramiksputtertargets ab

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Sid Metal Co., Ltd

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Ti Target Titan-Sputterziel / Titan-Rotationsziel für Halbleiter / Vakuumbeschichtungssputtern

Ti Target Titan-Sputterziel / Titan-Rotationsziel für Halbleiter / Vakuumbeschichtungssputtern

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Titan-Sputtertarget, planar für die Halbleiterindustrie, integrierte Schaltungen, Bau- und Automobilglas

Hochreines Titan-Sputtertarget, planar für die Halbleiterindustrie, integrierte Schaltungen, Bau- und Automobilglas

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Fabrikpreis 99.95% Reines Tantal Sputterziel Metall Ta Tantalum Planare Ziele

Fabrikpreis 99.95% Reines Tantal Sputterziel Metall Ta Tantalum Planare Ziele

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Zielhersteller Titan-Sputterziel Metall Titanplatte für Dekorationsbeschichtung

Zielhersteller Titan-Sputterziel Metall Titanplatte für Dekorationsbeschichtung

1,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 J.
·Handelsunternehmen
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Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges ITO Rotationssputterziel 4n In2o3 und Sno2

Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges ITO Rotationssputterziel 4n In2o3 und Sno2

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Niedrige Dichte 4n ITO Kleine Runde Zielscheibe

Fabrikpreis Verkauf Niedrige Dichte 4n ITO Kleine Runde Zielscheibe

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Hochreinheit ITO Ziel für Rpd 4n

Fabrikpreis Verkauf Hochreinheit ITO Ziel für Rpd 4n

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Hochdichte Indiumzinnoxid ITO Kleine Runde Zielscheibe 4n

Fabrikpreis Verkauf Hochdichte Indiumzinnoxid ITO Kleine Runde Zielscheibe 4n

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
1/4

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 J.
·Hersteller/Werk
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Desktop-Dual-Ziel-Plasmasputterbeschichter für SEM-Proben und Chrom

Desktop-Dual-Ziel-Plasmasputterbeschichter für SEM-Proben und Chrom

7.900,00-8.500,00 $
1 Stück(MOQ)
Pulver Edelstahl Triple Target Plasma Beschichter mit 150W DC Hochspannungs-Stromversorgung für chirurgische Instrumente

Pulver Edelstahl Triple Target Plasma Beschichter mit 150W DC Hochspannungs-Stromversorgung für chirurgische Instrumente

12.000,00-13.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Einzelziel-Magnetron-Sputterbeschichtung mit Bias-Stromversorgung

Einzelziel-Magnetron-Sputterbeschichtung mit Bias-Stromversorgung

10.000,00-12.000,00 $
1 set(MOQ)
Einzelziel-Magnetron-Sputterbeschichtung mit Filmdickenmonitor

Einzelziel-Magnetron-Sputterbeschichtung mit Filmdickenmonitor

18.000,00-19.200,00 $
1 set(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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TMAXCN Marke VTC-16-3HD-LD 3 Rotationsziel-Plasma-Sputterbeschichtungsmaschine einschließlich 3 Zielen

TMAXCN Marke VTC-16-3HD-LD 3 Rotationsziel-Plasma-Sputterbeschichtungsmaschine einschließlich 3 Zielen

8.000,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke VTC-16-SM Hochleistungs-DC-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine mit Drehbühne und Wasserchiller

TMAXCN Marke VTC-16-SM Hochleistungs-DC-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine mit Drehbühne und Wasserchiller

6.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Nano-Kaltmagnetron-Sputterbeschichter für dekorative und funktionale Dünnschichtabscheidung

Nano-Kaltmagnetron-Sputterbeschichter für dekorative und funktionale Dünnschichtabscheidung

6.000,00 $
1 Stück(MOQ)
PVD-Magnetron-Sputter- und thermische Verdampfungs-Kohlenstoffbeschichtungsmaschine

PVD-Magnetron-Sputter- und thermische Verdampfungs-Kohlenstoffbeschichtungsmaschine

5.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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5-200kw Typische Sputterquelle für die Dünnfilm-Beschichtungsindustrie Rotationsmagnetron-Sputterkathode Rotationssputterziel

5-200kw Typische Sputterquelle für die Dünnfilm-Beschichtungsindustrie Rotationsmagnetron-Sputterkathode Rotationssputterziel

6.900,00-7.000,00 $
2 sets(MOQ)
Rotary-Magnetron-Kathode für PVD-Beschichtung Magnetron-Sputter-Kathode

Rotary-Magnetron-Kathode für PVD-Beschichtung Magnetron-Sputter-Kathode

16.000,00-16.100,00 $
2 sets(MOQ)
Sprühkathoden-Rotationsrundzylindrische Sprühquelle

Sprühkathoden-Rotationsrundzylindrische Sprühquelle

15.200,00-16.000,00 $
2 sets(MOQ)
Rotary-Sputter-Kathode maßgefertigte rotierende Magnetron-Sputter-Kathode

Rotary-Sputter-Kathode maßgefertigte rotierende Magnetron-Sputter-Kathode

6.500,00-12.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Desktop Edelstahl-Hohlraum Einzelziel Magnetron-Sputter-Beschichtungsgerät

Desktop Edelstahl-Hohlraum Einzelziel Magnetron-Sputter-Beschichtungsgerät

8.730,00-8.900,00 $
1 Stück(MOQ)
Einzelne Rotationssputterziel-RF-Magnetron-Sputterbeschichtung für die Forschung an Solarzellen

Einzelne Rotationssputterziel-RF-Magnetron-Sputterbeschichtung für die Forschung an Solarzellen

30.000,00-39.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Vier Target-Magnetron-Sputterbeschichter mit Lade-Lock-Kammer für keramische Dünnfilme

Vier Target-Magnetron-Sputterbeschichter mit Lade-Lock-Kammer für keramische Dünnfilme

28.500,00-40.100,00 $
1 Stück(MOQ)
Doppelziel-DC-Magnetron-Sputterbeschichter

Doppelziel-DC-Magnetron-Sputterbeschichter

37.300,00-126.870,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Xiamen HiuGong Machinery Co., Ltd.

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Rotary-Sputterziel 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

Rotary-Sputterziel 4n-5n Sial Nicr Znal Znsn Tiox Nbox

1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Magnetron-Sputterziel Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

Magnetron-Sputterziel Zrox Si Cr Nb Cu Cr AG

500,00 $
1 Stück(MOQ)
Plasmasprühbeschichtungsausrüstung antihaftend verschleißfest Silizium Aluminium Alumina Zirkonia

Plasmasprühbeschichtungsausrüstung antihaftend verschleißfest Silizium Aluminium Alumina Zirkonia

35.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 J.
·Handelsunternehmen
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Hochreines Mo Molybdän-Sputterziel

Hochreines Mo Molybdän-Sputterziel

200,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochtemperaturanwendungen Wolfram-Rhenium Röntgenanodenziel

Hochtemperaturanwendungen Wolfram-Rhenium Röntgenanodenziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
ITO-Ziel für LCD, PDP, OLED, Verbundziel aus Zinn, Indium und Sauerstoff

ITO-Ziel für LCD, PDP, OLED, Verbundziel aus Zinn, Indium und Sauerstoff

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
1/4

Junsion Precision Hardware Co., Ltd.

7 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Spritzziel Titan Al Cu Chrom Ni Magnetron-Röhrenrotations-PVD-Beschichtung

Spritzziel Titan Al Cu Chrom Ni Magnetron-Röhrenrotations-PVD-Beschichtung

0,50-10,00 $
10 Stücke(MOQ)
1/4

Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd

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Fabrik PVD Beschichtung Cu Platte Multi Arc Sputtering Target Kupfer Rotary Semiconductor

Fabrik PVD Beschichtung Cu Platte Multi Arc Sputtering Target Kupfer Rotary Semiconductor

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Hochreines Nickel-Beschichtungsmaterial Drehmagnetron Sputtering Target

Hochreines Nickel-Beschichtungsmaterial Drehmagnetron Sputtering Target

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Kundenspezifische Titanium Rohr Rohr Rotary Sputtering Target Factory Elektronische Komponenten

Kundenspezifische Titanium Rohr Rohr Rotary Sputtering Target Factory Elektronische Komponenten

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)
Titan Sputtering Target Titanium Platte für Farbbeschichtung Uhr elektronisch Komponenten

Titan Sputtering Target Titanium Platte für Farbbeschichtung Uhr elektronisch Komponenten

10,00-15,00 $
1 Kg(MOQ)

Yangzhou Jingge Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Poly Si Rotary Target/Rotate Mono Silicon Tubes/Sputtering Target für Magnetron Sputtern

Poly Si Rotary Target/Rotate Mono Silicon Tubes/Sputtering Target für Magnetron Sputtern

50,00-9.999,00 $
1 Stück(MOQ)
Poly Si Rotary Target/Rotate Mono Silicon Tubes/Sputtering Target für Magnetron Sputtern

Poly Si Rotary Target/Rotate Mono Silicon Tubes/Sputtering Target für Magnetron Sputtern

50,00-9.999,00 $
1 Stück(MOQ)
6N Poly Silicon Target/Mono Silicon Target/Sputtering Silicon Target/Round Silicon for PVD-Beschichtung

6N Poly Silicon Target/Mono Silicon Target/Sputtering Silicon Target/Round Silicon for PVD-Beschichtung

10,00-99,00 $
1 Stück(MOQ)
6N Poly Silicon Target/Mono Silicon Target/Sputtering Silicon Target/Round Silicon for PVD-Beschichtung

6N Poly Silicon Target/Mono Silicon Target/Sputtering Silicon Target/Round Silicon for PVD-Beschichtung

10,00-99,00 $
1 Stück(MOQ)

Uv Tech Material Ltd

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Rotary Indium Target in Sputtering Target

Rotary Indium Target in Sputtering Target

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Drehbares Tiox Sial Silber Sputtering Target Cathode Tube Hohe Qualität Reinheit für PVD Nano Dünnschichtmaterial

Drehbares Tiox Sial Silber Sputtering Target Cathode Tube Hohe Qualität Reinheit für PVD Nano Dünnschichtmaterial

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
ITO 97: 3 93: 7 90: 10 95: 5WT% 99,99% hochreine Dreh- und Retangular Sputtering Zielplatte für Glas-Vakuumbeschichtung

ITO 97: 3 93: 7 90: 10 95: 5WT% 99,99% hochreine Dreh- und Retangular Sputtering Zielplatte für Glas-Vakuumbeschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Fortgeschrittener Titan-Sputterziel für hochwertige Beschichtungslösungen

Fortgeschrittener Titan-Sputterziel für hochwertige Beschichtungslösungen

115,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 J.·5.0
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Mo1 Ziel Molybdän Sputterziel Preis

Mo1 Ziel Molybdän Sputterziel Preis

40,00-88,00 $
1 kg(MOQ)
Hochreines Mo1 Rundplatte Molybdän Sputterziel

Hochreines Mo1 Rundplatte Molybdän Sputterziel

40,00-88,00 $
1 kg(MOQ)
Hochwertige Molybdänziel Molybdänplatte

Hochwertige Molybdänziel Molybdänplatte

40,00-88,00 $
1 kg(MOQ)
Molybdän Zielmaterial bester Preis Mo Ziel

Molybdän Zielmaterial bester Preis Mo Ziel

40,00-88,00 $
1 kg(MOQ)
1/2

Luoyang Bless Tungsten & Molybdenum Materials Co., Ltd.

12 J.
·Handelsunternehmen
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Hochwertige Molybdän-Sputtertargets

Hochwertige Molybdän-Sputtertargets

66,00-77,00 $
1 Kg(MOQ)
Ultrahochreine Material Molybdän-Sputterziele

Ultrahochreine Material Molybdän-Sputterziele

20,00-86,00 $
1 Stück(MOQ)
Biegen und Falten von Molybdän-Sputtertargets

Biegen und Falten von Molybdän-Sputtertargets

40,00-43,00 $
1 Kg(MOQ)
Molybdän-Sputterziele für komplexe Baugruppen

Molybdän-Sputterziele für komplexe Baugruppen

40,00-43,00 $
1 Kg(MOQ)
1/1

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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6n Hochreine Cu Kupfer Rotationssputterziele

6n Hochreine Cu Kupfer Rotationssputterziele

200,00-10.000,00 $
1 Stück(MOQ)
4n Azo-Ziel ZnO: Al2O3 Rotationssputterziele

4n Azo-Ziel ZnO: Al2O3 Rotationssputterziele

200,00-10.000,00 $
1 Stück(MOQ)
99.95% Hochreines Pd Palladium Sputterzielplatte / Pd Palladium Metallziel

99.95% Hochreines Pd Palladium Sputterzielplatte / Pd Palladium Metallziel

200,00-10.000,00 $
1 Stück(MOQ)
99.999% Hochreines monokristallines Silizium-Sputterzielplatte / Siliziumkeramisches Ziel

99.999% Hochreines monokristallines Silizium-Sputterzielplatte / Siliziumkeramisches Ziel

200,00-10.000,00 $
1 Stück(MOQ)

UV Tech Material Co., Ltd.

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Rotationsplanar ITO Target, Magnetron Sputtering Target, In2o3: SnO2 Target, 90: 10 ITO, 95: 5 ITO, 97:3 ITO

Rotationsplanar ITO Target, Magnetron Sputtering Target, In2o3: SnO2 Target, 90: 10 ITO, 95: 5 ITO, 97:3 ITO

Verhandelbar
10 Kg(MOQ)
Rotary TiOx Target, hauptsächlich Anwendung für Low-E Glasbeschichtung, Magnetron Sputtering Target, Titanoxid Target

Rotary TiOx Target, hauptsächlich Anwendung für Low-E Glasbeschichtung, Magnetron Sputtering Target, Titanoxid Target

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Heterojunction ITO Target, High Purity ITO Sputtering Target for Heterojunction, 97: 3 HJT ITO Target

Heterojunction ITO Target, High Purity ITO Sputtering Target for Heterojunction, 97: 3 HJT ITO Target

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
NB-Zr Alloy Sputtering Target, High Purity NB-1zr Alloy Target für PVD-Beschichtung

NB-Zr Alloy Sputtering Target, High Purity NB-1zr Alloy Target für PVD-Beschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Xiamen U-Spring Technology Co., Ltd

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U-Spring Sial Rotationsziel / Sputterziel für Magnetron-Sputtern und Vakuumbeschichtung

U-Spring Sial Rotationsziel / Sputterziel für Magnetron-Sputtern und Vakuumbeschichtung

2.000,00 $
1 Pcs(MOQ)
U-Spring Tiox Rotationsziel / Sputterziel für Magnetronsputtern und Vakuumbeschichtung

U-Spring Tiox Rotationsziel / Sputterziel für Magnetronsputtern und Vakuumbeschichtung

2.000,00 $
1 Pcs(MOQ)
U-Spring Tial Planar Zielscheibe / Sputterziel für Magnetron-Sputtern und Vakuumbeschichtung

U-Spring Tial Planar Zielscheibe / Sputterziel für Magnetron-Sputtern und Vakuumbeschichtung

2.000,00 $
1 Pcs(MOQ)
U-Spring Chrom /Cr Rotationsziel / Sputterziel für Magnetron-Sputtern & Vakuumbeschichtung

U-Spring Chrom /Cr Rotationsziel / Sputterziel für Magnetron-Sputtern & Vakuumbeschichtung

2.000,00 $
1 Pcs(MOQ)
1/2

Jiangyin Entret Coating Technology Co., Ltd.

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Silizium Aluminium Drehsputterziel (hochwertiges Sputterziel)

Silizium Aluminium Drehsputterziel (hochwertiges Sputterziel)

200,00-300,00 $
2 Stücke(MOQ)
Sputterziel: Titan Sputtering / Arc Target mit verschiedenen Materialien

Sputterziel: Titan Sputtering / Arc Target mit verschiedenen Materialien

50,00 $
1 Stück(MOQ)
99,99% Reinheit Aluminium Sputtering Ziel von hoher Qualität, Aluminium Ziel

99,99% Reinheit Aluminium Sputtering Ziel von hoher Qualität, Aluminium Ziel

10,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochwertige Sputtering Ziel Lieferant in China

Hochwertige Sputtering Ziel Lieferant in China

20,00-50,00 $
1 Stück(MOQ)

FUJIAN ACETRON NEW MATERIALS CO., LTD.

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ACETRON 5N5 99.9995% Hochreines Al Rotations-Sputterziel für PVD-Beschichtung

ACETRON 5N5 99.9995% Hochreines Al Rotations-Sputterziel für PVD-Beschichtung

99,00-9.999,00 $
1 Stück(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% ITO-Sputterziel für leitfähige Filmbeschichtung

ACETRON 4N 99.99% ITO-Sputterziel für leitfähige Filmbeschichtung

99,00-9.999,00 $
1 Stück(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Hochreines Titan-Rohrziel für Vakuum/PVD-Beschichtung

ACETRON 4N 99.99% Hochreines Titan-Rohrziel für Vakuum/PVD-Beschichtung

99,00-99.999,00 $
1 Stück(MOQ)
ACETRON 4N 99.99% Hochreines Siliziumlegierungs-Rotationsziel für Vakuum/PVD-Beschichtung

ACETRON 4N 99.99% Hochreines Siliziumlegierungs-Rotationsziel für Vakuum/PVD-Beschichtung

99,00-99.999,00 $
1 Stück(MOQ)

Ningbo Sen Ao Electronic Technology Co., Ltd

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Hochreines 99,99% Nbox Nioboxid Rotary Target Ouch Panel Beschichtungsmaterial Drehendes Sputterziel

Hochreines 99,99% Nbox Nioboxid Rotary Target Ouch Panel Beschichtungsmaterial Drehendes Sputterziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
5N 99,999% Cu Cuprum Cu Customized Size Target Rotary Kupfer Sputtering Target

5N 99,999% Cu Cuprum Cu Customized Size Target Rotary Kupfer Sputtering Target

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
99,9% TiOx Titanoxid Rotary Target Sputtering Target PVD Vacuum Beschichtung Titanoxid Tiox Sputtering Target

99,9% TiOx Titanoxid Rotary Target Sputtering Target PVD Vacuum Beschichtung Titanoxid Tiox Sputtering Target

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
99,9% Znsn Spraying Target Factory Supply Hochreine Magnetische Znsn Zinnrotierendes Sputtersprühziel

99,9% Znsn Spraying Target Factory Supply Hochreine Magnetische Znsn Zinnrotierendes Sputtersprühziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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Yttrium-Zirkoniumoxid Ysz(Zro2/Y2o3 99,99 % Sputterziel Keramikziel

Yttrium-Zirkoniumoxid Ysz(Zro2/Y2o3 99,99 % Sputterziel Keramikziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Ziel für hochreine Legierung 99,99 % 4n Nio Nickeloxid für Dünnschicht-optische Beschichtung PVD-Verdampfung

Ziel für hochreine Legierung 99,99 % 4n Nio Nickeloxid für Dünnschicht-optische Beschichtung PVD-Verdampfung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Legierung Sputtering Target für PVD-Beschichtung Verdampfungsbeschichtung

Legierung Sputtering Target für PVD-Beschichtung Verdampfungsbeschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Tianjin Rui Yuan Electric Material Co., Ltd.

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Ultra-Reinheit 99.9999% 7n5 Kupferziele

Ultra-Reinheit 99.9999% 7n5 Kupferziele

26,99-53,03 $
1.000 kilograms(MOQ)
Chinesische Fabrik Hochreines 6n Kupfer (Cu) 99.9999% Sputterziel

Chinesische Fabrik Hochreines 6n Kupfer (Cu) 99.9999% Sputterziel

89,00-180,00 $
1.000 kilograms(MOQ)
1/4

Hubei Fotma Machinery Co., Ltd.

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99.95% Molybdän Ziel Sputtern Molybdän Ziel

99.95% Molybdän Ziel Sputtern Molybdän Ziel

5,00-200,00 $
1 Kilogram(MOQ)
Kundenspezifisches Wolframprodukt Sputtern reines Wolframziel

Kundenspezifisches Wolframprodukt Sputtern reines Wolframziel

40,00-50,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

ATM Material Co., Ltd.

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Ziel mit hoher Qualität

Ziel mit hoher Qualität

0,10-100,00 $
1.000 Stücke(MOQ)
Reines Molybdänziel für Beschichtungen, TFT-LCD-Bildschirme

Reines Molybdänziel für Beschichtungen, TFT-LCD-Bildschirme

1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Yochane Vacuum Technology Limited

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Drehc$spritzenschichts-Ziel des gefäß-Chromium/Cr

Drehc$spritzenschichts-Ziel des gefäß-Chromium/Cr

20,00 $
1 Stück(MOQ)
DrehTantalum/Ta Gefäß /Piple, das Ziel spritzt

DrehTantalum/Ta Gefäß /Piple, das Ziel spritzt

5,00 $
1 Stück(MOQ)
12
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