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etwa Sputternde Keramische Zielscheibe
  • Technologische Innovation
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Sputternde Keramische Zielscheibe90+ Fabriken verifiziert

SUZHOU TECHNO-TEC PHOTOELECTRIC MATERIALS CO., LTD

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Polysiliziumkeramisches Ziel für Sputterziele in der Solarphotovoltaik

Polysiliziumkeramisches Ziel für Sputterziele in der Solarphotovoltaik

35,00-50,00 $
1 Kg(MOQ)
Mono-Si Ziel monokristallines Siliziumkeramikziel für Sputterziele Solar-Photovoltaik Mobiltelefon

Mono-Si Ziel monokristallines Siliziumkeramikziel für Sputterziele Solar-Photovoltaik Mobiltelefon

35,00-75,00 $
1 Kg(MOQ)
In2O3+Cu Keramisches Ziel-Indiumoxid+Kupfer-Keramisches Sputterziel für LCD/Touch-Panel

In2O3+Cu Keramisches Ziel-Indiumoxid+Kupfer-Keramisches Sputterziel für LCD/Touch-Panel

40,00 $
1 Kg(MOQ)
SrRuO3 Zielstrontiumruthenatkeramiksputterziel für optische Dünnfilm-Beschichtung

SrRuO3 Zielstrontiumruthenatkeramiksputterziel für optische Dünnfilm-Beschichtung

40,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Changsha Xinkang Advanced Materials Co., Ltd.

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Bismut-Eisen-Oxid-Keramik-Sputterziel Bifeo3 Hochrein für Beschichtungsanwendungen

Bismut-Eisen-Oxid-Keramik-Sputterziel Bifeo3 Hochrein für Beschichtungsanwendungen

25,00-30,00 $
10 Stücke(MOQ)
Keramische Ziele Barium-Strontium-Titanat-Sputterziel Srbatio3 für Beschichtung

Keramische Ziele Barium-Strontium-Titanat-Sputterziel Srbatio3 für Beschichtung

25,00-30,00 $
10 Stücke(MOQ)
Xinkang 99.999% Reinheit 5n Si monokristalline Siliziumkeramik runder Sputterziel

Xinkang 99.999% Reinheit 5n Si monokristalline Siliziumkeramik runder Sputterziel

85,00-125,00 $
1 Stück(MOQ)
Angepasster Al2O3 Keramischer Sputtertarget Alumina Aluminiumoxid Rundtarget

Angepasster Al2O3 Keramischer Sputtertarget Alumina Aluminiumoxid Rundtarget

45,00-85,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Lonwin Industry Group Limited

5.0
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Tiox Legierung Keramisches Ziel Titanoxid Sputterziel

Tiox Legierung Keramisches Ziel Titanoxid Sputterziel

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.95% Lac2 Ziel Lanthanumkarbid Keramiksputterziel

99.95% Lac2 Ziel Lanthanumkarbid Keramiksputterziel

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.99% Tisi2 Keramische Ziele Titan-Silicid-Sputterziele

99.99% Tisi2 Keramische Ziele Titan-Silicid-Sputterziele

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
99.99% MGO Keramisches Ziel Magnesiumoxid Sputterziele

99.99% MGO Keramisches Ziel Magnesiumoxid Sputterziele

17,00-55,00 $
1 Kg(MOQ)
1/4

Rheniumet Ltd.

17 J.
·Handelsunternehmen
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Siliziumkarbid Sic hochreine beschichtete Keramikkathode Magnetron-Sputterverarbeitung Anpassung

Siliziumkarbid Sic hochreine beschichtete Keramikkathode Magnetron-Sputterverarbeitung Anpassung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Siliziumkarbid-Ziel Sic 99.9% Sputterbeschichtung Keramisches Ziel

Siliziumkarbid-Ziel Sic 99.9% Sputterbeschichtung Keramisches Ziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hochreines 99.9%- 99.99% Ruo2 Ziel, 1-10inch Rutheniumdioxid-Sputterziel

Hochreines 99.9%- 99.99% Ruo2 Ziel, 1-10inch Rutheniumdioxid-Sputterziel

2.000,00-4.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Tantalmetall-Sputterziel für Dünnfilm-Beschichtung

Hochreines Tantalmetall-Sputterziel für Dünnfilm-Beschichtung

300,00-1.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Xiamen Wintrustek Advanced Materials Co., Ltd.

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Lanthanhexaborid Lab6 Keramikscheibe Sputterziel

Lanthanhexaborid Lab6 Keramikscheibe Sputterziel

50,00-200,00 $
1 Stück(MOQ)
Lanthanhexaborid Lab6 Keramiksputterziel für PVD-Dünnfilm-Beschichtung

Lanthanhexaborid Lab6 Keramiksputterziel für PVD-Dünnfilm-Beschichtung

50,00-200,00 $
1 Stück(MOQ)
Hoch Elektronenaussendungs-Lanthanhhexaborid Lab6 Keramische Ziele

Hoch Elektronenaussendungs-Lanthanhhexaborid Lab6 Keramische Ziele

50,00-200,00 $
1 Stück(MOQ)
Sprühziel Lanthanumborid Lab6 Keramikscheibe

Sprühziel Lanthanumborid Lab6 Keramikscheibe

50,00-200,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Xiamen Tmax Battery Equipments Limited

5.0
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TMAXCN Marke 99.5% Sic Keramisches Ziel Siliziumkarbid Sputterziel für Beschichtung

TMAXCN Marke 99.5% Sic Keramisches Ziel Siliziumkarbid Sputterziel für Beschichtung

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke Hochrein 99.5% Reines Borcarbid B4c Keramisches Sputterziel

TMAXCN Marke Hochrein 99.5% Reines Borcarbid B4c Keramisches Sputterziel

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
TMAXCN Marke Hochdichte Zn2sno4 Zinkstannat Sputterziel Keramikbeschichtungsmaterial

TMAXCN Marke Hochdichte Zn2sno4 Zinkstannat Sputterziel Keramikbeschichtungsmaterial

78,00-90,00 $
1 Stück(MOQ)
Bänktop DC/RF Magnetron-Sputterbeschichter für Metalle, Oxide, Keramiken und Halbleiter

Bänktop DC/RF Magnetron-Sputterbeschichter für Metalle, Oxide, Keramiken und Halbleiter

15.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

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Titanium Ziel Hersteller Lieferant

Titanium Ziel Hersteller Lieferant

30,00-100,00 $
1 Stück(MOQ)
Magnetron-Sputter-Beschichtungsmaschine

Magnetron-Sputter-Beschichtungsmaschine

55.000,00-150.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Vollautomatische Mittel-Frequenz-Magnetron-Sputter-PVD-Vakuumbeschichtungsmaschine

Vollautomatische Mittel-Frequenz-Magnetron-Sputter-PVD-Vakuumbeschichtungsmaschine

15.000,00-150.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochwertige Edelstahlzubehör Magnetron-Sputter-Vakuumbeschichtungsmaschine

Hochwertige Edelstahlzubehör Magnetron-Sputter-Vakuumbeschichtungsmaschine

95.000,00-160.000,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shandong Pengcheng Advanced Ceramics Co., Ltd.

12 J.·5.0
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Boronitride-Sputterziel Verdampfungsschalen Boronitrid-Keramische elektrische Tiegel

Boronitride-Sputterziel Verdampfungsschalen Boronitrid-Keramische elektrische Tiegel

150,00-160,00 $
100 Kg(MOQ)
Titan-Diborid (TiB2) Sputterziele Keramikplatte

Titan-Diborid (TiB2) Sputterziele Keramikplatte

30,00 $
50 Kg(MOQ)
Tib2 Keramische Sputterziele Titanborid

Tib2 Keramische Sputterziele Titanborid

30,00 $
50 Kg(MOQ)
1/4

Hebei Zhongyi Import and Export Co., Ltd.

3 J.
·Handelsunternehmen
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Hochreines Wolframdisulfid Ws2 Keramisches Sputterziel für Beschichtungsanwendungen

Hochreines Wolframdisulfid Ws2 Keramisches Sputterziel für Beschichtungsanwendungen

9,00-12,00 $
10 Kg(MOQ)
Reines Wolframdisulfid Ws2 Keramikbeschichtungs-Sputterziel für hochwertige Beschichtungen

Reines Wolframdisulfid Ws2 Keramikbeschichtungs-Sputterziel für hochwertige Beschichtungen

9,00-12,00 $
10 Kg(MOQ)
1/4

BIOTIO SHANGHAI CORP CO., LTD.

5.0
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Aluminiumkugeln API-625 Sputterziel hohe Reinheit 99.999% auf Lager

Aluminiumkugeln API-625 Sputterziel hohe Reinheit 99.999% auf Lager

3.180,00-8.500,00 $
1 Ton(MOQ)
Aluminiumkugeln APP-512 Sputterziel hohe Reinheit 99.999% auf Lager

Aluminiumkugeln APP-512 Sputterziel hohe Reinheit 99.999% auf Lager

3.180,00-8.500,00 $
1 Ton(MOQ)
1/4

Dongguan Gravel Industries and Enterprise Company Limited

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Magnetron-Sputtern Ruthenium-Ziel hohe Reinheit

Magnetron-Sputtern Ruthenium-Ziel hohe Reinheit

32.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Siliziumnitrid-Zielmaterial

Hochreines Siliziumnitrid-Zielmaterial

15.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Ruthenium-Ziel hochreines Sputter-Rundziel

Ruthenium-Ziel hochreines Sputter-Rundziel

75.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Hochreines Kupfer-Rückzieltarget-Vakuum-Sputtern

Hochreines Kupfer-Rückzieltarget-Vakuum-Sputtern

2.200,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Ningbo Galaxy International Trading Co., Ltd.

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Hochwertiges Nickelrundziel für Sputterziele

Hochwertiges Nickelrundziel für Sputterziele

10,00 $
1 pcs(MOQ)
Hochschmelzender Zirkonium-Rund-Sputtertarget Zr702

Hochschmelzender Zirkonium-Rund-Sputtertarget Zr702

15,00 $
1 pcs(MOQ)
Hochharter polierter Oberflächen- und höherreiner Nickelrohrziel

Hochharter polierter Oberflächen- und höherreiner Nickelrohrziel

30,00 $
10 Stücke(MOQ)
Gute thermische und elektrische Leitfähigkeit reiner gerader Zirkoniumrundstab

Gute thermische und elektrische Leitfähigkeit reiner gerader Zirkoniumrundstab

15,00 $
10 kg(MOQ)
1/4

Jiangsu Cicel Vacuum Technology Co., Ltd.

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Hochreine Sputter-Titanziele Preis für PVD-Beschichtung/Ti Sputter-Titanziel runde Titanziele zum Verkauf

Hochreine Sputter-Titanziele Preis für PVD-Beschichtung/Ti Sputter-Titanziel runde Titanziele zum Verkauf

80,00-300,00 $
1 Stück(MOQ)
Glas-Magnetron-Sputterbeschichtungsanlage/Niedrig-E-Glasbeschichtungsmaschine

Glas-Magnetron-Sputterbeschichtungsanlage/Niedrig-E-Glasbeschichtungsmaschine

45.000,00-150.000,00 $
1 Satz(MOQ)
Hochwertige Autoersatzteile Vakuumbeschichtungsmaschine für Blau, Rot, Orange, Roségold, Schwarz, Grün, Silber, Bunt usw

Hochwertige Autoersatzteile Vakuumbeschichtungsmaschine für Blau, Rot, Orange, Roségold, Schwarz, Grün, Silber, Bunt usw

45.000,00-150.000,00 $
1 Satz(MOQ)
Sputter-Aluminium-Spiegelbeschichtungssystem, Beschichtungsmaschine, Beschichtungsausrüstung, Produktionslinie

Sputter-Aluminium-Spiegelbeschichtungssystem, Beschichtungsmaschine, Beschichtungsausrüstung, Produktionslinie

45.000,00-150.000,00 $
1 Satz(MOQ)
1/4

Suzhou Zhongzhina Semiconductor Technology Co., Ltd.

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Bornitrid (BN) Keramiknitrid PVD Sputtering Target, Titandiborid, Titanborid, Kundenspezifische Größe, Trägerplatte Bonding

Bornitrid (BN) Keramiknitrid PVD Sputtering Target, Titandiborid, Titanborid, Kundenspezifische Größe, Trägerplatte Bonding

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Barium Titanat Batio3 Target, Barium Strontium Titanat Target Basrtio3, PVD Magnetron Sputtering Target, Laborverbrauchsmaterial

Barium Titanat Batio3 Target, Barium Strontium Titanat Target Basrtio3, PVD Magnetron Sputtering Target, Laborverbrauchsmaterial

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
ITO (Indium Zinn-Oxid) Zielmaterial, Indium Zinn-Oxid Halbleiter Transparente leitfähige Folie, Magnetron Sputtering Target

ITO (Indium Zinn-Oxid) Zielmaterial, Indium Zinn-Oxid Halbleiter Transparente leitfähige Folie, Magnetron Sputtering Target

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hochreines Zinkoxid-Aluminium (AZO) Zielmaterial, Zinkoxid (ZnO) dotiert mit Aluminiumoxid (Al2O3), Magnetron Sputteroxid-Ziel, Backplate Bonding

Hochreines Zinkoxid-Aluminium (AZO) Zielmaterial, Zinkoxid (ZnO) dotiert mit Aluminiumoxid (Al2O3), Magnetron Sputteroxid-Ziel, Backplate Bonding

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.

9 J.
·Hersteller/Werk
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Keramisch, Dielektrisch, Optisch, Oxid, Hartfilm, PTFE-Film RF-Dualziel-Magnetron-Sputterbeschichter

Keramisch, Dielektrisch, Optisch, Oxid, Hartfilm, PTFE-Film RF-Dualziel-Magnetron-Sputterbeschichter

26.500,00 $
1 Stück(MOQ)
Einzelziel-Magnetron-Sputterbeschichtung mit Filmdickenmonitor

Einzelziel-Magnetron-Sputterbeschichtung mit Filmdickenmonitor

18.000,00-19.200,00 $
1 set(MOQ)
Einzelne Duale Dreifache Ziel-Magnetron-Sputter-Beschichtung mit Filmdickenmonitor

Einzelne Duale Dreifache Ziel-Magnetron-Sputter-Beschichtung mit Filmdickenmonitor

60.000,00-61.200,00 $
1 set(MOQ)
Einzelziel-Magnetron-Sputtern mit optischer Faserwicklungsfunktion

Einzelziel-Magnetron-Sputtern mit optischer Faserwicklungsfunktion

28.000,00-29.500,00 $
1 set(MOQ)
1/4

Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.

13 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Vier Target-Magnetron-Sputterbeschichter mit Lade-Lock-Kammer für keramische Dünnfilme

Vier Target-Magnetron-Sputterbeschichter mit Lade-Lock-Kammer für keramische Dünnfilme

28.500,00-40.100,00 $
1 Stück(MOQ)
Desktop Edelstahl-Hohlraum Einzelziel Magnetron-Sputter-Beschichtungsgerät

Desktop Edelstahl-Hohlraum Einzelziel Magnetron-Sputter-Beschichtungsgerät

8.730,00-8.900,00 $
1 Stück(MOQ)
DC RF Dual Target Magnetron-Sputterablagerung für Metall- und Oxid-Dünnfilme

DC RF Dual Target Magnetron-Sputterablagerung für Metall- und Oxid-Dünnfilme

21.000,00-26.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Desktop-Quartz-Hohlraum-Einzelziel-Magnetron-Sputterbeschichtungsinstrument für Sem-Proben

Desktop-Quartz-Hohlraum-Einzelziel-Magnetron-Sputterbeschichtungsinstrument für Sem-Proben

8.730,00-8.900,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Shanghai Zenkaah New Materials Technology Co., Ltd.

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Bornitrid (BN) Keramiknitrid PVD Sputtering Target, Titandiborid, Titanborid, Kundenspezifische Größe, Trägerplatte Bonding

Bornitrid (BN) Keramiknitrid PVD Sputtering Target, Titandiborid, Titanborid, Kundenspezifische Größe, Trägerplatte Bonding

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
ITO (Indium Zinn-Oxid) Zielmaterial, Indium Zinn-Oxid Halbleiter Transparente leitfähige Folie, Magnetron Sputtering Target, kundenspezifische Spezifikationen

ITO (Indium Zinn-Oxid) Zielmaterial, Indium Zinn-Oxid Halbleiter Transparente leitfähige Folie, Magnetron Sputtering Target, kundenspezifische Spezifikationen

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Barium Titanat Batio3 Target, Barium Strontium Titanat Target Basrtio3, PVD Magnetron Sputtering Target, Laborverbrauchsmaterialien, Partikel, Bonding von Backing

Barium Titanat Batio3 Target, Barium Strontium Titanat Target Basrtio3, PVD Magnetron Sputtering Target, Laborverbrauchsmaterialien, Partikel, Bonding von Backing

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Hochreines IGZO (Indium Gallium Zinkoxid) Zielmaterial für PVD-Magnetron-Sputtering Vakuumbeschichtung, Forschung und Experimentalmaterial

Hochreines IGZO (Indium Gallium Zinkoxid) Zielmaterial für PVD-Magnetron-Sputtering Vakuumbeschichtung, Forschung und Experimentalmaterial

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Huita Opto-Electronic Materials Co., Ltd

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ITO (Tabletten) Sputtering Target

ITO (Tabletten) Sputtering Target

Verhandelbar
5 Stücke(MOQ)
Zirconium Sputtering Target

Zirconium Sputtering Target

Verhandelbar
5 Stücke(MOQ)
Drehendes Silizium-Target

Drehendes Silizium-Target

Verhandelbar
5 Sätze(MOQ)
Tiox-Ziel

Tiox-Ziel

Verhandelbar
5 Stücke(MOQ)

Jiangyin Maideli Advanced Materials Co., Ltd.

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Ybco Yba2cu3o7 Yttrium Barium Kupferoxid Sputterziel

Ybco Yba2cu3o7 Yttrium Barium Kupferoxid Sputterziel

250,00-500,00 $
1 Stück(MOQ)

China Rare Metal Material Co., Ltd.

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Sputterende Ziele Aus Keramik

Sputterende Ziele Aus Keramik

100,00 $
1 Stück(MOQ)

Deyang Aijialun Vacuum Technology Co., Ltd.

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ITO Sputtering Target

ITO Sputtering Target

20,00-1.000,00 $
1 Satz(MOQ)

Hunan Ultra Minor Metals Ltd

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Hoher Reinheitsgrad-Osmium-Ziel-Spritzenziel für Dünnfilm-Industrie

Hoher Reinheitsgrad-Osmium-Ziel-Spritzenziel für Dünnfilm-Industrie

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Inner Mongolia Rongtai Rhenium New Materials Co., Ltd.

5.0
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Premium Gadolinium-Sputterziel für die fortschrittliche Elektronikfertigung

Premium Gadolinium-Sputterziel für die fortschrittliche Elektronikfertigung

55,00-85,00 $
1 Stück(MOQ)
99.9% Seltenes Erden Yttrium Sputterziel Metall Y Yttrium Scheibe für Halbleiter

99.9% Seltenes Erden Yttrium Sputterziel Metall Y Yttrium Scheibe für Halbleiter

115,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)
Fortgeschrittener Ytterbium-Sputterziel für überlegene optische Lösungen

Fortgeschrittener Ytterbium-Sputterziel für überlegene optische Lösungen

190,00-199,00 $
1 Stück(MOQ)
Premium maßgeschneiderte sputtermetallische Zielscheibe für Datenspeicherlösungen

Premium maßgeschneiderte sputtermetallische Zielscheibe für Datenspeicherlösungen

115,00-130,00 $
1 Stück(MOQ)
1/4

Zhengzhou Shibo Nonferrous Metals Products Co., Ltd.

21 J.·5.0
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Mo1 Ziel Molybdän Sputterziel Preis

Mo1 Ziel Molybdän Sputterziel Preis

40,00-88,00 $
1 kg(MOQ)
Hochwertige Molybdänziel Molybdänplatte

Hochwertige Molybdänziel Molybdänplatte

40,00-88,00 $
1 kg(MOQ)
Reiner Wolframstab angepasst W1 Wolframstange

Reiner Wolframstab angepasst W1 Wolframstange

39,00-65,00 $
1 kg(MOQ)
Reiner Molybdänboot, am meisten vertrauenswürdiges Molybdän (La2O3) & Tzm Legierungsboot

Reiner Molybdänboot, am meisten vertrauenswürdiges Molybdän (La2O3) & Tzm Legierungsboot

31,00-54,00 $
1 kg(MOQ)
1/2

Fuzhou Nuoxin Advanced Material Co. Ltd.

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AZO Sputtering Target Aluminium Zinkoxid für die Verdampfung Dünnschicht-Optical Beschichtung

AZO Sputtering Target Aluminium Zinkoxid für die Verdampfung Dünnschicht-Optical Beschichtung

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Galliumoxid-Sputterziel Ga2o3 Reinheit 99,99% 4n

Galliumoxid-Sputterziel Ga2o3 Reinheit 99,99% 4n

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Keramik Sputtering Target in verschiedenen Formen für PVD-Beschichtung Compound Ziel

Keramik Sputtering Target in verschiedenen Formen für PVD-Beschichtung Compound Ziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Yttrium-Zirkoniumoxid Ysz(Zro2/Y2o3 99,99 % Sputterziel Keramikziel

Yttrium-Zirkoniumoxid Ysz(Zro2/Y2o3 99,99 % Sputterziel Keramikziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Xiangtan Hondson Coating Technology Co., Ltd.

6 J.
·Hersteller/Werk & Handelsunternehmen
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Rotierender Kathode, zylindrisches Röhrenziel für Beschichtungsmaschine

Rotierender Kathode, zylindrisches Röhrenziel für Beschichtungsmaschine

6.700,00-6.800,00 $
2 sets(MOQ)
5-200kw Typische Sputterquelle für die Dünnfilm-Beschichtungsindustrie Rotationsmagnetron-Sputterkathode Rotationssputterziel

5-200kw Typische Sputterquelle für die Dünnfilm-Beschichtungsindustrie Rotationsmagnetron-Sputterkathode Rotationssputterziel

6.900,00-7.000,00 $
2 sets(MOQ)
PVD-Magnetron-Sputteranlage zur Behandlung von Keramikoberflächen

PVD-Magnetron-Sputteranlage zur Behandlung von Keramikoberflächen

80.000,00-180.000,00 $
1 Satz(MOQ)
Hochpräzisions-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine für Metall-, Glas- und Keramiksubstrate

Hochpräzisions-Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschine für Metall-, Glas- und Keramiksubstrate

80.000,00-180.000,00 $
1 Satz(MOQ)
1/4

Shenzhen Canyuan Metal Material Co., Ltd.

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99.999% Hochreines monokristallines Silizium-Sputterzielplatte / Siliziumkeramisches Ziel

99.999% Hochreines monokristallines Silizium-Sputterzielplatte / Siliziumkeramisches Ziel

200,00-10.000,00 $
1 Stück(MOQ)
4n Azo-Ziel ZnO: Al2O3 Rotationssputterziele

4n Azo-Ziel ZnO: Al2O3 Rotationssputterziele

200,00-10.000,00 $
1 Stück(MOQ)
Maßgeschneiderte Größe Hochreine Kohlenstoffgraphit-Sputterziele 99.99% Bonding Kupferziel

Maßgeschneiderte Größe Hochreine Kohlenstoffgraphit-Sputterziele 99.99% Bonding Kupferziel

200,00-10.000,00 $
1 Stück(MOQ)
4n TiO2 Ziel Titanoxid Rotationsziele Flachziele

4n TiO2 Ziel Titanoxid Rotationsziele Flachziele

200,00-10.000,00 $
1 Stück(MOQ)

CHANGSHA EASCHEM CO., LIMITED

5 J.
·Handelsunternehmen
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Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges ITO Rotationssputterziel 4n In2o3 und Sno2

Fabrikpreis Verkauf Hochwertiges ITO Rotationssputterziel 4n In2o3 und Sno2

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Niedrige Dichte 4n ITO Kleine Runde Zielscheibe

Fabrikpreis Verkauf Niedrige Dichte 4n ITO Kleine Runde Zielscheibe

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Fabrikpreis Verkauf Hochreinheit ITO Ziel für Rpd 4n

Fabrikpreis Verkauf Hochreinheit ITO Ziel für Rpd 4n

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
Hochreines ITO-Metallziel 4n Indiumoxid und Zinnoxid In2o3 und Sno2

Hochreines ITO-Metallziel 4n Indiumoxid und Zinnoxid In2o3 und Sno2

Verhandelbar
1 Piece(MOQ)
1/4

Enam Optoelectronic Material Co., Ltd

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ITO Ziel, LED/OLED/Ziel TP-ITO, Typenstein des LED-Halbleiter-ITO

ITO Ziel, LED/OLED/Ziel TP-ITO, Typenstein des LED-Halbleiter-ITO

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Izo Ziel, Ziel SpritzensIzo, Indium-Zink Oxid

Izo Ziel, Ziel SpritzensIzo, Indium-Zink Oxid

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Igzo Ziel, TFT Kanal Igzo Schicht, Indium-Gallium-Zink Oxid-Ziel

Igzo Ziel, TFT Kanal Igzo Schicht, Indium-Gallium-Zink Oxid-Ziel

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
ITO Ziel, ITO Drehziel, Ziel TP-Tn Stn TFT-LCD ITO

ITO Ziel, ITO Drehziel, Ziel TP-Tn Stn TFT-LCD ITO

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)

Beijing Loyaltarget Technology Co, Limited

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Keramisches Ziel SpritzensAl2O3

Keramisches Ziel SpritzensAl2O3

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Azo zylinderförmige Ziele

Azo zylinderförmige Ziele

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Keramisches Ziel SpritzensBi2O3

Keramisches Ziel SpritzensBi2O3

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
Ziel SpritzensBi2te3

Ziel SpritzensBi2te3

Verhandelbar
1 Stück(MOQ)
14
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